CN205373629U

CN205373629U - 一种弹头痕迹测量仪

Info

Publication number: CN205373629U
Application number: CN201620108950.0U
Authority: CN
Inventors: 李刚; 宋曙光; 黄欢
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2016-02-03
Filing date: 2016-02-03
Publication date: 2016-07-06
Anticipated expiration: 2026-02-03

Abstract

本实用新型涉及一种弹头痕迹测量仪，属于警用器材领域。本实用新型包括底座、X-Y二维工作台、相位光栅位移传感器、数据采集卡、电机驱动电路、计算机、图像采集卡、显微镜及CCD摄像头、伺服电机、立柱、测杆、支架、旋转工作台、触针；本实用新型集中了接触和非接触式测量方法的优点，扩大了对象的测量范围，增加了弹头痕迹的识别信息量，提高了痕迹识别的准确度，并且造价低廉，可同时获取弹头痕迹的二维平面图像和准确的高度信息，可以有效地提高弹头的识别率，同时，本实用新型结构简单，实用性强，易于操作。

Description

一种弹头痕迹测量仪

技术领域

本使用新型涉及一种弹头痕迹测量仪，属于警用器材领域。

背景技术

枪弹痕迹检验是用来侦破涉枪案件的刑侦技术手段。目前，弹头表面痕迹测量采用数字摄影获得弹头的图像数据，通过计算机图像处理、特征提取、认定枪弹的同一性。在弹头表面痕迹测量定量化检验中，采用的数字摄影方法测量速度快，但通过图像灰度等级确定弹痕的高度与宽度值不精确，导致2幅图像对比是比较模糊的二维图像对比。电感触针式测量和聚焦光针式测量测量效率低，垂直测量范围小。

因此，有必要设计出一种由直线相位光栅干涉式大量程位移传感器进行垂直方向的测量，并采用显微镜和CCD摄像装置进行图像采集的弹头痕迹测量仪器，以满足现有的需求。

发明内容

针对上述现有问题，本实用新型的目的在于提供一种弹头痕迹测量仪，集中了接触和非接触式测量方法的优点，扩大了对象的测量范围，增加了弹头痕迹的识别信息量，提高了痕迹识别的准确度，并且造价低廉，可同时获取弹头痕迹的二维平面图像和准确的高度信息，可以有效地提高弹头的识别率，同时，本实用新型结构简单，实用性强，易于操作。

为达到上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种弹头痕迹测量仪，所述的弹头痕迹测量仪包括底座、X-Y二维工作台、相位光栅位移传感器、数据采集卡、电机驱动电路、计算机、图像采集卡、显微镜及CCD摄像头、伺服电机、立柱、测杆、支架、旋转工作台、触针；其中所述的X-Y二维工作台水平设置在底座上，旋转工作台固定在二维工作台上，旋转工作台设置有待测物体固定装置，计算机通过电机驱动电路与控制X-Y二维工作台和旋转工作台运动的交流伺服电机相连，支架设置在底座上，支架上水平设置有立柱和相位光栅位移传感器，立柱一端与旋转工作台对应的位置设有显微镜及CCD摄像头，显微镜及CCD摄像头通过图像采集卡与计算机相连，相位光栅位移传感器通过设置在测杆一端的触针与被测物体接触，相位光栅位移传感器通过数据采集卡与计算机相连。

进一步，作为优选，所述的底座为防震大理石平台。

进一步，作为优选，所述的X-Y二维工作台采用以双衍射光栅为计量系统的共运动平面二维工作台。

进一步，作为优选，所述的相位光栅位移传感器由透射型全息衍射正弦相位光栅、平行簧片机构、触针及测杆、半导体激光器、光电探测器及信号处理电路组成。

进一步，作为优选，所述的显微镜及CCD摄像头的测量范围为2.5-10mm。

本实用新型的有益效果：

本实用新型集中了接触和非接触式测量方法的优点，扩大了对象的测量范围，增加了弹头痕迹的识别信息量，提高了痕迹识别的准确度，并且造价低廉，可同时获取弹头痕迹的二维平面图像和准确的高度信息，可以有效地提高弹头的识别率，同时，本实用新型结构简单，实用性强，易于操作。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型相位光栅位移传感器的原理图；

其中，1-底座、2-X-Y二维工作台、3-相位光栅位移传感器、4-数据采集卡、5-电机驱动电路、6-计算机、7-图像采集卡、8-显微镜及CCD摄像头、9-伺服电机、10-立柱、11-测杆、12-支架、13-旋转工作台、14-触针。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例和附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1所示，一种弹头痕迹测量仪，所述的弹头痕迹测量仪包括底座1、X-Y二维工作台2、相位光栅位移传感器3、数据采集卡4、电机驱动电路5、计算机6、图像采集卡7、显微镜及CCD摄像头8、伺服电机9、立柱10、测杆11、支架12、旋转工作台13、触针14。

X—Y二维工作台2水平放置在防震大理石平台底座1上，旋转工作台13固定在X—Y二维工作台2上，旋转工作台13设置有待测物体固定装置，并由交服伺服电机驱动旋转运动，实现被测物体的360°选择，计算机6通过电机驱动电路5与控制X-Y二维工作台2和旋转工作台13运动的伺服电机9相连，计算机6通过电机驱动电路16控制X-Y二维工作台2和的旋转工作台13的伺服电机。X-Y二维工作台2采用以双衍射光栅为计量系统的共运动平面二维工作台。共运动平面工作台使X、Y方向的运动都在一个平面上发生，既可以保证工作台沿Z向跳动量很小，又可以使工作台绕X、Y轴几乎没有偏转。X、Y方向均采用伺服电机9配合精密丝杠和直线导轨进行驱动，驱动范围为0—50m。工作台利用双衍射光栅计量系统作为位置反馈元件，对工作台X-Y方向上的位移进行实时采集和测量，进行闭环控制，以达到精确定位的目的，使双衍射光栅计量系统具有结构简单、体积小、稳定性和抗干扰能力强等优点。

支架12设置在底座1上，支架12上水平设置有立柱10和相位光栅位移传感器3，立柱10一端与旋转工作台13对应的位置设有显微镜及CCD摄像头8，显微镜及CCD摄像头8通过图像采集卡4与计算机6相连，构成仪器的非接触式测量系统，可以实现平面痕迹和弹头痕迹的测量；显微镜及CCD摄像头8的测量范围为2.5-10mm。

如图2所示，所述的相位光栅位移传感器由透射型全息衍射正弦相位光栅、平行簧片机构、触针及测杆、半导体激光器、光电探测器及信号处理电路组成，相位光栅位移传感器3通过设置在测杆11一端的触针14与被测物体接触，相位光栅位移传感器3通过数据采集卡4与计算机6相连，构成仪器的接触式测量系统，显微镜及CCD摄像头8可对被测物快速非接触测量，相位光栅位移传感器3可以实现被测物的接触测量，得到准确的高度信息，并测量结果经处理送计算机6，计算机6实现弹头痕迹的比对识别。数据采集卡4完成直线相位光栅位移传感器和二维工作台光栅计量系统干涉信号的拾取、去直流、放大、辨向、细分、计数等。

最终，以上实施例和附图仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管通过上述实施例已经对本发明进行了详细的描述，但本领域技术人员应当理解，可以在形式上和细节上对其作出各种各样的改变，而不偏离本发明权利要求书所限定的范围。

Claims

1.一种弹头痕迹测量仪，其特征在于：所述的弹头痕迹测量仪包括底座、X-Y二维工作台、相位光栅位移传感器、数据采集卡、电机驱动电路、计算机、图像采集卡、显微镜及CCD摄像头、伺服电机、立柱、测杆、支架、旋转工作台、触针；其中所述的X-Y二维工作台水平设置在底座上，旋转工作台固定在X—Y二维工作台上，旋转工作台设置有待测物体固定装置，计算机通过电机驱动电路与控制X-Y二维工作台和旋转工作台运动的交流伺服电机相连，支架设置在底座上，支架上水平设置有立柱和相位光栅位移传感器，立柱一端与旋转工作台对应的位置设有显微镜及CCD摄像头，显微镜及CCD摄像头通过图像采集卡与计算机相连，相位光栅位移传感器通过设置在测杆一端的触针与被测物体接触，相位光栅位移传感器通过数据采集卡与计算机相连。

2.根据权利要求1所述的一种弹头痕迹测量仪，其特征在于：所述的底座为防震大理石平台。

3.根据权利要求1所述的一种弹头痕迹测量仪，其特征在于：所述的X-Y二维工作台采用以双衍射光栅为计量系统的共运动平面二维工作台。

4.根据权利要求1所述的一种弹头痕迹测量仪，其特征在于：所述的相位光栅位移传感器由透射型全息衍射正弦相位光栅、平行簧片机构、触针及测杆、半导体激光器、光电探测器及信号处理电路组成。

5.根据权利要求1所述的一种弹头痕迹测量仪，其特征在于：所述的显微镜及CCD摄像头的测量范围为2.5-10mm。