CN205347568U - 独立可整体行走立式多层ito柔性基材自控卷绕系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种独立可整体行走立式多层ITO柔性基材自控卷绕系统，所述独立可整体行走立式多层ITO柔性基材自控卷绕系统包括卷绕机底座，所述卷绕机底座上设置有多层分开的放料机构、自控张紧机构、同步卷绕机构、立式单鼓机构和收料机构；所述放料机构、自控张紧机构、同步卷绕机构、立式单鼓机构、收料机构均与自动控制机构相连接；所述放料机构为放料辊和放料及分开系统，所述收料机构为收料复合机构和收料辊；所述放料及分开系统、立式单鼓机构、同步卷绕机构、收料复合机构上均设置有各自独立的同步驱动系统。本实用新型结构简单，使用方便，设计合理，工作稳定性好,在常温下可以工作。
Description
技术领域
本实用新型涉及信息及信息应用领域，具体涉及一种独立可整体行走立式多层ITO柔性基材自控卷绕系统。
背景技术
ITO透明导电薄膜是一类既透明又导电的特殊功能性薄膜，具有禁带宽、可见光谱区内光的透射率高和电阻率低等共同的光学和电性能，目前广泛用于显示器、各种光电电子器件、触摸屏、防辐射、建筑的节能保温、交通工具上的防雾除霜和太阳能等众多领域。ITO透明导电薄膜的工业化生产通常采用物理气相沉积法。目前物理气相沉积法制备ITO透明导电薄膜多在真空条件下，加温到200℃—350℃左右。使得ITO透明导电薄膜目前多只能沉积在玻璃等可以耐一定温度的基体上，而不能沉积在不耐高温的透明塑料薄膜。过多的加热不仅消耗大量的能源，增加成本，对生产设备也提出许多的苛刻的要求。同时，由于在薄膜制备时始终处于高温的状况下，也就极大的限制了ITO透明导电薄膜沉积所用基体材料的选用范围，使得很多价格合理的高透明材料不能作为ITO透明导电薄膜的基体应用，也就相应的提高了ITO透明导电薄膜产品的成本和价格，而且更加限制了ITO透明导电薄膜产品的应用范围。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种工作稳定性好的独立可整体行走立式多层ITO柔性基材自控卷绕系统。
为了实现上述技术问题，本实用新型提供的技术方案为：本实用新型提供了一种独立可整体行走立式多层ITO柔性基材自控卷绕系统，所述独立可整体行走立式多层ITO柔性基材自控卷绕系统包括卷绕机底座，所述卷绕机底座上设置有多层分开的放料机构、自控张紧机构、同步卷绕机构、立式单鼓机构和收料机构；
所述放料机构、自控张紧机构、同步卷绕机构、立式单鼓机构、收料机构均与自动控制机构相连接；
所述放料机构为放料辊和放料及分开系统，所述收料机构为收料复合机构和收料辊；
所述放料及分开系统、立式单鼓机构、同步卷绕机构、收料复合机构上均设置有各自独立的同步驱动系统；
所述自控卷绕系统内部设置有表面处理机构；
所述自控卷绕系统内部设置有对分开后各层ITO柔性基材的卷绕进程有实时同步的自动纠偏机构。
所述立式单鼓内还设置有薄膜沉积时的鼓表面的温度控制机构。
有益效果：本实用新型结构简单，使用方便，设计合理，工作稳定性好,在常温下可以工作。薄膜真空沉积系统和自控卷绕系统不固定连接，完全分离，极大地减少了真空腔体的开孔和结构复杂性，使得卷绕机构约束少；各个组成部分协调一致，同步运行，工作稳定性好，能够做到独立张紧系统和独立纠偏系统同步控制。实现了多层复合ITO柔性基材安装和拆卸的自动化，减少了对膜层的损伤，提高了生产效率。
相对于现有技术，本实用新型具有如下优点：
(1)非平衡阴极布置形式和自隔气的整体式封闭屏蔽罩和各自独立的供气机构，主要是通过低气压等离子体的非均匀放电性形式，是在电磁场与等离子体之间通过欧姆加热、随机加热和二次电子发射加热等诸多电子加热的机制，间接的微小范围内局部暂时提高基体表面的瞬时温度，来达到不对基体进行剧烈加热而保证形成导电薄膜的材料可以最大可能的按要求沉积在基体的表面。
(2)等离子体能在不对基体加热的条件下，通过改善物理气相沉积的工艺参数和采用更加合理的设备结构以及经过优化的磁场布置形式等多种技术和理论的综合，促使形成导电薄膜的材料可以最大可能的按要求沉积在基体的表面。为薄膜在基体表面的生长提供必要而且足够的活化能。实现了温超大面积多层复合卷绕ITO柔性基材全电阻值系列复合卷绕ITO柔性基材全电阻值系列ITO膜的工业化生产。
(3)采用物理气相沉积技术将透明导电氧化物导电玻璃薄膜在室温的条件下沉积在PET、PEN、PC等多层复合的柔性透明塑料基体上，并作为柔性光电子基础材料而广泛用于柔性显示器、各种柔性光电电子器件、柔性共形触摸屏等领域。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
1放料辊；2自控张紧系统；3表面处理机构；4立式单鼓机构及温控系统；5自动纠偏机构；6收料复合机构；7收料辊；8卷绕机底座；9卷绕机隔板；10放料及分开系统。
具体实施方式
以下通过实施例进一步说明本实用新型。应该理解的是，这些实施例是本实用新型的阐释和举例，并不以任何形式限制本实用新型的范围。
实施例1
本实用新型提供了一种独立可整体行走立式多层ITO柔性基材自控卷绕系统，所述独立可整体行走立式多层ITO柔性基材自控卷绕系统包括卷绕机底座，所述卷绕机底座上设置有多层分开的放料机构、自控张紧机构、同步卷绕机构、立式单鼓机构和收料机构；
所述放料机构、自控张紧机构、同步卷绕机构、立式单鼓机构、收料机构均与自动控制机构相连接；
所述放料机构为放料辊和放料及分开系统，所述收料机构为收料复合机构和收料辊；
所述放料及分开系统、立式单鼓机构、同步卷绕机构、收料复合机构上均设置有各自独立的同步驱动系统；
所述自控卷绕系统内部设置有对需沉积复合卷绕ITO柔性基材全电阻值系列ITO膜的ITO柔性基材前后表面进行等离子处理的表面处理机构；
所述自控卷绕系统内部设置有对分开后各层ITO柔性基材的卷绕进程有实时同步的自动纠偏机构。
所述立式单鼓内还设置有薄膜沉积时的鼓表面的温度控制机构。
本实用新型结构简单，使用方便，设计合理，在常温下可以工作。薄膜真空沉积系统和自控卷绕系统不固定连接，完全分离，极大地减少了真空腔体的开孔和结构复杂性，使得卷绕机构约束少；各个组成部分协调一致，同步运行，工作稳定性好，能够做到独立张紧系统和独立纠偏系统同步控制。实现了多层复合ITO柔性基材安装和拆卸的自动化，减少了对膜层的损伤，提高了生产效率。
相对于现有技术，本实用新型具有如下优点：
(1)非平衡阴极布置形式和自隔气的整体式封闭屏蔽罩和各自独立的供气机构，主要是通过低气压等离子体的非均匀放电性形式，是在电磁场与等离子体之间通过欧姆加热、随机加热和二次电子发射加热等诸多电子加热的机制，间接的微小范围内局部暂时提高基体表面的瞬时温度，来达到不对基体进行剧烈加热而保证形成导电薄膜的材料可以最大可能的按要求沉积在基体的表面。
(2)等离子体能在不对基体加热的条件下，通过改善物理气相沉积的工艺参数和采用更加合理的设备结构以及经过优化的磁场布置形式等多种技术和理论的综合，促使形成导电薄膜的材料可以最大可能的按要求沉积在基体的表面。为薄膜在基体表面的生长提供必要而且足够的活化能。实现了温超大面积多层复合卷绕ITO柔性基材全电阻值系列复合卷绕ITO柔性基材全电阻值系列ITO膜的工业化生产。
(3)采用物理气相沉积技术将透明导电氧化物导电玻璃薄膜在室温的条件下沉积在PET、PEN、PC等多层复合的柔性透明塑料基体上，并作为柔性光电子基础材料而广泛用于柔性显示器、各种柔性光电电子器件、柔性共形触摸屏等领域。
试验1
将柔性卷绕基材固定在放料辊上，并通过各轴连接到收料辊。调节各层膜材的张力同步协调一致，设定好纠偏同步一致性，选择薄膜沉积鼓的设定温度，设定基材的运行速度为3米/分钟。将设定好的多层复合ITO柔性基材自控卷绕系统整体水平移进到低真空度的真空腔体内，抽真空到额定值，通入工艺气体，进行气相沉积，其结果为：复合卷绕ITO柔性基材全电阻值系列ITO膜表面电阻为100Ω，透光率为91％，均匀性为±5％。
试验2
将柔性卷绕基材固定在放料辊上，并通过各轴连接到收料辊。调节各层膜材的张力同步协调一致，设定好纠偏同步一致性，选择薄膜沉积鼓的设定温度，设定基材的运行速度为1米/分钟。将设定好的多层复合ITO柔性基材自控卷绕系统整体水平移进到低真空度的真空腔体内，抽真空到额定值，通入工艺气体，进行气相沉积，其结果为：复合卷绕ITO柔性基材全电阻值系列ITO膜表面电阻为40Ω，透光率为88％，均匀性为±3％。
由试验1和试验2可以看出，本实用新型生产的复合卷绕ITO柔性基材全电阻值系列ITO膜的透光率高，均匀性较好，复合卷绕ITO柔性基材全电阻值系列ITO膜表面电阻均匀稳定，一致性能好，偏差小。
尽管本文较多地使用了放料辊1，自控张紧系统2，表面处理机构3，立式单鼓机构及温控系统4，自动纠偏机构5，收料复合机构6，收料辊7，卷绕机底座8，卷绕机隔板9，放料及分开系统10等术语，但并不排除使用其它术语的可能性。使用这些术语仅仅是为了更方便地描述和解释本实用新型的本质；把它们解释成任何一种附加的限制都是与本实用新型精神相违背的。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书、说明书及其等效物界定。
Claims (2)
1.一种独立可整体行走立式多层ITO柔性基材自控卷绕系统，其特征在于：所述独立可整体行走立式多层ITO柔性基材自控卷绕系统包括卷绕机底座，所述卷绕机底座上设置有多层分开的放料机构、自控张紧机构、同步卷绕机构、立式单鼓机构和收料机构；
所述放料机构、自控张紧机构、同步卷绕机构、立式单鼓机构、收料机构均与自动控制机构相连接；
所述放料机构为放料辊和放料及分开系统，所述收料机构为收料复合机构和收料辊；
所述放料及分开系统、立式单鼓机构、同步卷绕机构、收料复合机构上均设置有各自独立的同步驱动系统；
所述自控卷绕系统内部设置有表面处理机构；
所述自控卷绕系统内部设置有对分开后各层ITO柔性基材的卷绕进程有实时同步的自动纠偏机构。
2.根据权利要求1所述的独立可整体行走立式多层ITO柔性基材自控卷绕系统，其特征在于:所述立式单鼓内还设置有薄膜沉积时的鼓表面的温度控制机构。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520531414.7U CN205347568U (zh) | 2015-07-21 | 2015-07-21 | 独立可整体行走立式多层ito柔性基材自控卷绕系统 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520531414.7U CN205347568U (zh) | 2015-07-21 | 2015-07-21 | 独立可整体行走立式多层ito柔性基材自控卷绕系统 |
Publications (1)
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| CN205347568U true CN205347568U (zh) | 2016-06-29 |
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Family Applications (1)
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| CN201520531414.7U Active CN205347568U (zh) | 2015-07-21 | 2015-07-21 | 独立可整体行走立式多层ito柔性基材自控卷绕系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN205347568U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106244989A (zh) * | 2016-07-26 | 2016-12-21 | 华南师范大学 | 连续生产柔性微纳米金属网络透明导电薄膜的方法及设备 |
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2015
- 2015-07-21 CN CN201520531414.7U patent/CN205347568U/zh active Active
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106244989A (zh) * | 2016-07-26 | 2016-12-21 | 华南师范大学 | 连续生产柔性微纳米金属网络透明导电薄膜的方法及设备 |
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