CN205211791U

CN205211791U - 一种晶片荧光处理装置

Info

Publication number: CN205211791U
Application number: CN201521021965.5U
Authority: CN
Inventors: 许春杰; 谢保卫
Original assignee: Jiangsu Runli Light Energy Technology Development Co Ltd
Current assignee: Jiangsu Runli Light Energy Technology Development Co Ltd
Priority date: 2015-12-10
Filing date: 2015-12-10
Publication date: 2016-05-04
Anticipated expiration: 2025-12-10

Abstract

本实用新型涉及一种晶片荧光处理装置，包括底板，底板上设有浸渍池，底板上设有过滤罐，过滤罐设置在浸渍池的外侧壁；过滤罐的端部设有端盖；过滤罐的内部设有过滤网，浸渍池内设有浸渍杆，浸渍杆的下端设有浸渍板，浸渍板的下部设有若干浸渍片，浸渍片的侧壁设有若干吸附片。本实用新型可以将荧光液通过输液罐输送到过滤罐内，通过过滤网方便对荧光液进行过滤处理；可以使晶片浸入荧光液内，从而方便对晶片进行荧光液浸渍处理，大大提高了晶片处理的效率。

Description

一种晶片荧光处理装置

技术领域

本实用新型涉及一种荧光处理装置，具体涉及一种晶片荧光处理装置。

背景技术

荧光涂料指的是在受到紫外线照射时能够发光的涂料，其特点是在紫外线照射时发光，在停止照射时就不发光。荧光涂料是由其组成中的荧光颜料赋予涂料以荧光功能的。按涂料中使用荧光颜料的不同，荧光涂料分为无机荧光涂料和有机荧光涂料两类。即使用有机有机荧光颜料配制的荧光涂料称为有机荧光涂料；使用无机荧光颜料配制的荧光涂料称为无机荧光涂料。两者相比较，无机荧光涂料具有良好的耐候性、耐热性和耐化学品性能。现有的晶片不方便进行荧光处理。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种可以将荧光液通过输液罐输送到过滤罐内，通过过滤网方便对荧光液进行过滤处理；可以使晶片浸入荧光液内，从而方便对晶片进行荧光液浸渍处理，大大提高了晶片处理的效率的晶片荧光处理装置。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：

一种晶片荧光处理装置，包括底板，底板上设有浸渍池，底板上设有过滤罐，过滤罐设置在浸渍池的外侧壁；过滤罐的端部设有端盖；过滤罐的内部设有第一过滤网与第二过滤网，第一过滤网与第二过滤网的形状大小相同，第一过滤网与第二过滤网呈水平布置，第一过滤网与第二过滤网为网状结构；过滤罐的端部外侧壁设有输液罐，输液罐与过滤罐之间设有输液泵；过滤罐的内部设有输液管，输液管的一端设有第一输液泵，第一输液泵设置在过滤罐的内底部，输液管的另一端设有第二输液泵，第二输液泵设置在浸渍池的内侧壁；浸渍池内设有浸渍杆，浸渍杆的下端设有浸渍板，浸渍板呈水平布置，浸渍板的下部设有若干浸渍片，浸渍片呈竖直布置，浸渍片的侧壁设有若干吸附片，吸附片通过磁力吸附在浸渍片上；浸渍池的上方设有悬挂环，悬挂环为环形形状，悬挂环的一侧设有第一对接杆，第一对接杆为弧形形状，第一对接杆设置在浸渍池的端部，悬挂环的另一侧设有第二对接杆，第二对接杆为弧形形状，第二对接杆设置在浸渍池的端部。

进一步的，所述浸渍池设有出液泵。

进一步的，所述出液泵设置在浸渍池的底部侧壁。

进一步的，所述端盖通过连接轴与过滤罐连接。

进一步的，所述输液罐的内底部设有导液片。

采用上述结构后，本实用新型有益效果为：可以将荧光液通过输液罐输送到过滤罐内，通过第一过滤网与第二过滤网方便对荧光液进行过滤处理；通过输液管、第一输液泵以及第二输液泵方便对荧光液输送到浸渍池内；可以将待处理的晶片通过吸附片安装在浸渍片上；从而可以使晶片浸入荧光液内，从而方便对晶片进行荧光液浸渍处理，大大提高了晶片处理的效率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

附图标记说明：

底板11、浸渍池12、过滤罐13、端盖14、连接轴15、第一过滤网16、第二过滤网17、输液罐18、输液泵19、导液片20、输液管21、第一输液泵22、第二输液泵23、出液泵24、浸渍杆25、浸渍板26、浸渍板27、吸附片28、悬挂环29、第一对接杆30、第二对接杆31。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

如图1所示，本实用新型所述的一种晶片荧光处理装置，包括底板11，底板11上设有浸渍池12，底板11上设有过滤罐13，过滤罐13设置在浸渍池12的外侧壁；过滤罐13的端部设有端盖14；过滤罐13的内部设有第一过滤网16与第二过滤网17，第一过滤网16与第二过滤网17的形状大小相同，第一过滤网16与第二过滤网17呈水平布置，第一过滤网16与第二过滤网17为网状结构；过滤罐13的端部外侧壁设有输液罐18，输液罐18与过滤罐13之间设有输液泵19；过滤罐13的内部设有输液管21，输液管21的一端设有第一输液泵22，第一输液泵22设置在过滤罐13的内底部，输液管21的另一端设有第二输液泵23，第二输液泵23设置在浸渍池12的内侧壁；浸渍池12内设有浸渍杆25，浸渍杆25的下端设有浸渍板26，浸渍板26呈水平布置，浸渍板26的下部设有若干浸渍片27，浸渍片27呈竖直布置，浸渍片27的侧壁设有若干吸附片28，吸附片28通过磁力吸附在浸渍片27上；浸渍池12的上方设有悬挂环29，悬挂环29为环形形状，悬挂环29的一侧设有第一对接杆30，第一对接杆30为弧形形状，第一对接杆30设置在浸渍池12的端部，悬挂环29的另一侧设有第二对接杆31，第二对接杆31为弧形形状，第二对接杆31设置在浸渍池12的端部；浸渍池12设有出液泵24，出液泵24设置在浸渍池12的底部侧壁，端盖14通过连接轴15与过滤罐13连接，输液罐18的内底部设有导液片20。

本实用新型晶片荧光处理装置，可以将荧光液通过输液罐18输送到过滤罐13内，通过第一过滤网16与第二过滤网17方便对荧光液进行过滤处理；通过输液管21、第一输液泵22以及第二输液泵23方便对荧光液输送到浸渍池12内；可以将待处理的晶片通过吸附片28安装在浸渍片27上；从而可以使晶片浸入荧光液内，从而方便对晶片进行荧光液浸渍处理，大大提高了晶片处理的效率。

其中，浸渍池12设有出液泵24，出液泵24设置在浸渍池12的底部侧壁，所以通过出液泵24方便输液。

其中，端盖14通过连接轴15与过滤罐13连接，所以方便端盖14盖住过滤罐13。

其中，输液罐18的内底部设有导液片20，所以通过导液片20方便对荧光液进行输送。

以上所述仅是本实用新型的较佳实施方式，故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本实用新型专利申请范围内。

Claims

1.一种晶片荧光处理装置，包括底板（11），其特征在于：底板（11）上设有浸渍池（12），底板（11）上设有过滤罐（13），过滤罐（13）设置在浸渍池（12）的外侧壁；过滤罐（13）的端部设有端盖（14）；过滤罐（13）的内部设有第一过滤网（16）与第二过滤网（17），第一过滤网（16）与第二过滤网（17）的形状大小相同，第一过滤网（16）与第二过滤网（17）呈水平布置，第一过滤网（16）与第二过滤网（17）为网状结构；过滤罐（13）的端部外侧壁设有输液罐（18），输液罐（18）与过滤罐（13）之间设有输液泵（19）；过滤罐（13）的内部设有输液管（21），输液管（21）的一端设有第一输液泵（22），第一输液泵（22）设置在过滤罐（13）的内底部，输液管（21）的另一端设有第二输液泵（23），第二输液泵（23）设置在浸渍池（12）的内侧壁；浸渍池（12）内设有浸渍杆（25），浸渍杆（25）的下端设有浸渍板（26），浸渍板（26）呈水平布置，浸渍板（26）的下部设有若干浸渍片（27），浸渍片（27）呈竖直布置，浸渍片（27）的侧壁设有若干吸附片（28），吸附片（28）通过磁力吸附在浸渍片（27）上；浸渍池（12）的上方设有悬挂环（29），悬挂环（29）为环形形状，悬挂环（29）的一侧设有第一对接杆（30），第一对接杆（30）为弧形形状，第一对接杆（30）设置在浸渍池（12）的端部，悬挂环（29）的另一侧设有第二对接杆（31），第二对接杆（31）为弧形形状，第二对接杆（31）设置在浸渍池（12）的端部。

2.根据权利要求1所述的晶片荧光处理装置，其特征在于：浸渍池（12）设有出液泵（24）。

3.根据权利要求2所述的晶片荧光处理装置，其特征在于：出液泵（24）设置在浸渍池（12）的底部侧壁。

4.根据权利要求1所述的晶片荧光处理装置，其特征在于：端盖（14）通过连接轴（15）与过滤罐（13）连接。

5.根据权利要求1所述的晶片荧光处理装置，其特征在于：输液罐（18）的内底部设有导液片（20）。