CN205120039U - 一种离轴抛物面离轴量的测量装置 - Google Patents

一种离轴抛物面离轴量的测量装置 Download PDF

Info

Publication number
CN205120039U
CN205120039U CN201520736224.9U CN201520736224U CN205120039U CN 205120039 U CN205120039 U CN 205120039U CN 201520736224 U CN201520736224 U CN 201520736224U CN 205120039 U CN205120039 U CN 205120039U
Authority
CN
China
Prior art keywords
axis
ring flange
autocollimatic
mirror
level crossing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn - After Issue
Application number
CN201520736224.9U
Other languages
English (en)
Inventor
于清华
孙胜利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai economic and commercial Photoelectric Technology Co., Ltd.
Original Assignee
Shanghai Institute of Technical Physics of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Institute of Technical Physics of CAS filed Critical Shanghai Institute of Technical Physics of CAS
Priority to CN201520736224.9U priority Critical patent/CN205120039U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN205120039U publication Critical patent/CN205120039U/zh
Withdrawn - After Issue legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

本专利公开一种离轴抛物面离轴量的测量装置,包括会聚光干涉仪、平行光干涉仪、自准平面镜、法兰盘和对可见波段高吸收的标记,利用光直线传播的原理,将离轴抛物面镜的通光孔径几何中心和焦点,投影到自准平面镜上,并分别标记,通过测量标记间距,测量离轴抛物面镜的离轴量。本专利的优点在于:原理简单、易操作,解决了离轴抛物面离轴量的测量问题。

Description

一种离轴抛物面离轴量的测量装置
技术领域
本专利属于光学元件加工检测技术,具体指一种离轴抛物面离轴量的测量装置,它用于离轴抛物面镜面加工过程中镜面镀膜前的检验。
背景技术
随着空间光学遥感技术的应用需求,传统同轴光学系统已经无法满足该需求,离轴光学系统开始广泛应用。随之而来,离轴光学元件的加工与检测是离轴光学系统研制过程中的必要步骤,其中离轴量是离轴光学元件特有的几何参量,不同于传统同轴光学元件的其他几何参量。本专利公开一种离轴抛物面镜的离轴量的检测方法,为离轴光学元件的离轴量测量提供一种方法。
发明内容
本专利提出了一种离轴抛物面离轴量的测量装置,该方法利用光直线传播的原理,将离轴抛物面镜的通光孔径几何中心和焦点,投影到自准平面镜上,并分别标记,通过测量标记间距,测量离轴抛物面镜的离轴量。
离轴抛物面的检测装置如图1所示,会聚光干涉仪发出一束汇聚光束,光束汇聚点与抛物面焦点重合,光束经离轴抛物面反射,入射自准平面镜,经自准平面镜反射原路返回会聚光干涉仪;所述法兰盘中心与抛物面焦点重合,且法兰盘盘面法线与自准平面镜法线平行;所述的平行光干涉仪放置在法兰盘非自准直平面镜的一侧,平行光干涉仪出射光束方向与自准平面镜法线平行,且光束覆盖法兰盘;所述的对可见波段高吸收的标记在三坐标精密测量工具监测下,被制作在离轴抛物面镜通光孔径几何中心。
所述的法兰盘采用透可见光的玻璃基底,盘上图案分为透光区域和非透光区域,非透光区域镀制高反金属膜,图案形状选择以对点高精度定位为依据,采用圆孔形、“×”或“田”字形。
所述的对可见波段高吸收的标记采用碳素墨水标记为圆点、“×”或“田”形状的高精度定位的图案,或者采用黑色可黏贴纸标记为圆点、“×”或“田”形状的高精度定位的图案。
离轴量的定义为:离轴抛物面镜通光孔径为圆,或者椭圆等形状规则的形状,该形状的镜面几何中心距抛物面母镜光轴的距离即为离轴抛物面镜的离轴量。
离轴量检测时,法兰盘中心与离轴抛物面镜的焦点重合,法兰盘盘面法线与自准平面镜法线重合,并在法兰盘非自准直平面镜的一侧放置平行光干涉仪,令干涉仪光轴与法兰盘盘面法线平行,且光束覆盖法兰盘;开启干涉仪,其出射光束透过法兰盘,将法兰盘的图案投射至自准直平面镜,形成亮的图案,标记为A。
在离轴抛物面检测时,会聚光干涉仪对镜面面形进行检测,出射于干涉仪的光束,经待测抛物面镜反射,入射于自准平面镜,抛物面镜几何中心标记在自准平面上形成暗斑,标记为B。
在自准平面镜上,测量A与B的直线距离,即为离轴抛物面的离轴量。
本专利的离轴抛物面离轴量测量方法包括以下步骤:
1.离轴量测量前,在三坐标等精密测量工具监测下,在待测离轴抛物面镜通光孔径几何中心制作对可见光波段高吸收的标记,并制作带有透可见光图案的法兰盘。
2.搭建离轴抛物面检测光路,测试光路包括汇聚光干涉仪、自准平面镜等检测设备,检测光路如图1所示,光束汇聚点与抛物面焦点重合,光束经离轴抛物面反射,入射自准平面镜,经自准平面镜反射原路返回会聚光干涉仪,通过光路调整使得干涉仪获得的系统波前满足检测要求;
3.在离轴抛物面的焦点位置放置具有一定图案的法兰盘,并令法兰盘中心与焦点重合,法兰盘盘面法线与自准平面镜法线重合,并在法兰盘非自准直平面镜的一侧放置平行光干涉仪,令干涉仪光轴与法兰盘盘面法线平行,且光束覆盖法兰盘。开启干涉仪,其出射光束透过法兰盘,将法兰盘的图案投射至自准直平面镜,形成亮的图案,并将该图案中心标记为A。
4.在汇聚光干涉仪对镜面面形进行检测时,出射于汇聚光干涉仪的光束,经待测抛物面镜反射,入射于自准平面镜,抛物面镜几何中心标记在自准平面上形成暗斑,标记为B。在干涉仪采集的数据中,会在图像中心发生明显的数据缺失,干涉数据在该处不连续。
4.在自准平面镜上,测量A与B的直线距离,即为离轴抛物面的离轴量。
其中,步骤2和步骤3可以互换。
本专利的优点在于:原理简单、易操作,解决了离轴抛物面离轴量的测量问题。
附图说明
图1为离轴抛物面离轴量检测光路图,其中,101为待检离轴抛物面镜;102为自准平面镜;103为法兰盘;104为平行光干涉仪;105为会聚光干涉仪;201为101镜面几何中心的对可见波段高吸收的标记;202为103的中心与会聚光干涉仪焦点重合。
图2为法兰盘盘面中心开圆形小孔图案示意图,阴影区为非透可见光区,空白区为透可见光区。
图3为法兰盘盘面中心“田”字图案示意图,阴影区为非透可见光区,空白区为透可见光区。
具体实施方式
离轴抛物面的检测光路如图1所示,干涉仪发出一汇聚光束,光束汇聚点与抛物面焦点重合,光束经离轴抛物面反射,入射自准平面镜,经自准平面镜反射原路返回干涉仪。
离轴量的定义为:离轴抛物面通光孔径中心距抛物面母镜光轴的距离。
本专利的离轴抛物面离轴量测量方法包括以下几步:
1搭建离轴抛物面检测光路,测试光路包括汇聚光干涉仪、自准平面镜等检测设备,检测光路如图1所示,光束汇聚点与抛物面焦点重合,光束经离轴抛物面反射,入射自准平面镜,经自准平面镜反射原路返回会聚光干涉仪,通过光路调整使得干涉仪获得的系统波前满足检测要求;
2在离轴抛物面的焦点位置放置具有一定图案的法兰盘,并令法兰盘中心与焦点重合,法兰盘盘面法线与自准平面镜法线重合,并在法兰盘非自准直平面镜的一侧放置平行光干涉仪,且令干涉仪光轴与法兰盘盘面法线平行。开启干涉仪,其出射光束透过法兰盘,将法兰盘的图案投射至自准直平面镜,形成亮的图案,并将该图案中心标记为A。
3离轴抛物面镜通光孔径一般为圆,或者椭圆等形状规则的形状,在三坐标等精密测量工具监测下,在待测离轴抛物面镜通光孔径几何中心制作某种形状的标记,该标记采用可见高吸收材料,在干涉仪对镜面面形进行检测时,出射于干涉仪的光束,经待测抛物面镜反射,入射于自准平面镜,抛物面镜几何中心标记在自准平面上形成暗斑,标记为B。在干涉仪采集的数据中,会在图像中心发生明显的数据缺失,干涉数据在该处不连续。
4在自准平面镜上,测量A与B的直线距离,即为离轴抛物面的离轴量。其中,步骤2和步骤3可以互换。

Claims (3)

1.一种离轴抛物面离轴量的测量装置,包括会聚光干涉仪、平行光干涉仪、自准平面镜、法兰盘和对可见波段高吸收的标记,其特征在于:
所述的会聚光干涉仪发出一束汇聚光束,光束汇聚点与抛物面焦点重合,光束经离轴抛物面反射,入射自准平面镜,经自准平面镜反射原路返回会聚光干涉仪;所述法兰盘中心与抛物面焦点重合,且法兰盘盘面法线与自准平面镜法线平行;所述的平行光干涉仪放置在法兰盘非自准直平面镜的一侧,平行光干涉仪出射光束方向与自准平面镜法线平行,且光束覆盖法兰盘;所述的对可见波段高吸收的标记在三坐标精密测量工具监测下,被制作在离轴抛物面镜通光孔径几何中心。
2.根据权利要求1所述的一种离轴抛物面离轴量的测量装置,其特征在于:所述的法兰盘采用透可见光的玻璃基底,盘上图案分为透光区域和非透光区域,非透光区域镀制高反金属膜,图案形状选择以对点高精度定位为依据,采用圆孔形、“×”或“田”字形。
3.根据权利要求1所述的一种离轴抛物面离轴量的测量装置,其特征在于:所述的对可见波段高吸收的标记采用碳素墨水标记为圆点、“×”或“田”形状的高精度定位的图案,或者采用黑色可黏贴纸标记为圆点、“×”或“田”形状的高精度定位的图案。
CN201520736224.9U 2015-03-31 2015-09-22 一种离轴抛物面离轴量的测量装置 Withdrawn - After Issue CN205120039U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201520736224.9U CN205120039U (zh) 2015-03-31 2015-09-22 一种离轴抛物面离轴量的测量装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510145207.2A CN104764410A (zh) 2015-03-31 2015-03-31 一种离轴抛物面离轴量的测量装置及方法
CN2015101452072 2015-03-31
CN201520736224.9U CN205120039U (zh) 2015-03-31 2015-09-22 一种离轴抛物面离轴量的测量装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN205120039U true CN205120039U (zh) 2016-03-30

Family

ID=53646390

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510145207.2A Pending CN104764410A (zh) 2015-03-31 2015-03-31 一种离轴抛物面离轴量的测量装置及方法
CN201510606624.2A Active CN105157570B (zh) 2015-03-31 2015-09-22 一种离轴抛物面离轴量的测量装置及方法
CN201520736224.9U Withdrawn - After Issue CN205120039U (zh) 2015-03-31 2015-09-22 一种离轴抛物面离轴量的测量装置

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510145207.2A Pending CN104764410A (zh) 2015-03-31 2015-03-31 一种离轴抛物面离轴量的测量装置及方法
CN201510606624.2A Active CN105157570B (zh) 2015-03-31 2015-09-22 一种离轴抛物面离轴量的测量装置及方法

Country Status (1)

Country Link
CN (3) CN104764410A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105157570A (zh) * 2015-03-31 2015-12-16 中国科学院上海技术物理研究所 一种离轴抛物面离轴量的测量装置及方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105157578B (zh) * 2015-07-10 2017-09-22 中国科学院西安光学精密机械研究所 测量离轴抛物面主反射镜离轴量和离轴角的系统及方法
CN106932179A (zh) * 2017-02-24 2017-07-07 湖北航天技术研究院总体设计所 基于光栅尺与经纬仪标定离轴抛物镜离轴量的方法及装置
CN106932176A (zh) * 2017-04-11 2017-07-07 成都精密光学工程研究中心 离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置
CN107462402A (zh) * 2017-08-09 2017-12-12 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种离轴抛物面反射镜几何参数的检测标定方法
CN107817088B (zh) * 2017-09-26 2020-04-10 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 离轴抛物镜光轴方向的标定方法及系统
CN110686869B (zh) * 2019-09-06 2021-05-04 中国科学院上海光学精密机械研究所 等厚离轴抛物面反射镜特征参量的高精度测量方法
CN111272083B (zh) * 2020-01-08 2021-02-26 北京理工大学 一种离轴抛物面镜离轴量的测量装置及测量方法
CN111189386B (zh) * 2020-01-13 2021-07-27 中国科学院上海光学精密机械研究所 离轴抛物面反射镜干涉测量面形投影畸变的修正方法
CN111664803B (zh) * 2020-06-04 2021-05-18 中国科学院西安光学精密机械研究所 一种离轴抛物面反射镜快速检测方法及装置
CN112817117B (zh) * 2020-12-28 2022-10-21 西南技术物理研究所 一种带自准直调节功能的抛物面反射镜辅助装置
CN114112326B (zh) * 2021-11-23 2024-05-07 四川中科朗星光电科技有限公司 一种离轴抛物面反射镜的快速装调辅助装置及装调方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2641552B2 (ja) * 1989-01-11 1997-08-13 株式会社日立製作所 物体の位置検出装置およびロボット制御システム
JPH09178415A (ja) * 1995-12-25 1997-07-11 Nikon Corp 光波干渉測定装置
CN1187627C (zh) * 2003-04-03 2005-02-02 苏州大学 一种离轴抛物面镜的制造方法
CN1314991C (zh) * 2005-03-21 2007-05-09 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 离轴抛物面聚焦镜的安装调试方法
CN104359655A (zh) * 2014-11-06 2015-02-18 上海现代先进超精密制造中心有限公司 离轴抛物面镜焦距的检测装置与检测方法
CN104764410A (zh) * 2015-03-31 2015-07-08 中国科学院上海技术物理研究所 一种离轴抛物面离轴量的测量装置及方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105157570A (zh) * 2015-03-31 2015-12-16 中国科学院上海技术物理研究所 一种离轴抛物面离轴量的测量装置及方法
CN105157570B (zh) * 2015-03-31 2017-10-13 中国科学院上海技术物理研究所 一种离轴抛物面离轴量的测量装置及方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN105157570B (zh) 2017-10-13
CN104764410A (zh) 2015-07-08
CN105157570A (zh) 2015-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN205120039U (zh) 一种离轴抛物面离轴量的测量装置
CN106197312B (zh) 一种定日镜面形快速检测系统及其方法
CN208520336U (zh) 激光基准桥梁多点挠度视觉检测装置
CN203657757U (zh) 空心圆柱内表面的光学检测装置
CN101477044B (zh) 一种表面等离子共振传感器
CN103256862B (zh) 光电系统快速自校准用标准综合靶板和测量方法
CN208505255U (zh) 激光基准桥梁单点挠度视觉检测装置
CN104964648A (zh) 离轴抛物面镜关键参数的标定系统及方法
CN102721826A (zh) 一种非拼接大靶面激光光幕速度测试装置及方法
CN102625902A (zh) 用于测量厚度变化的设备、使用该设备的系统、使用该设备的形貌显微镜、测量厚度变化的方法、以及使用该测量方法获取形貌图像的方法
CN107462402A (zh) 一种离轴抛物面反射镜几何参数的检测标定方法
CN103256889A (zh) 一种对衍射孔的定位装置和定位方法
CN103615971A (zh) 用于检测圆柱体外表面的光学干涉仪
CN201096611Y (zh) 一种非球面透镜的偏心测量装置
CN103149013B (zh) 基于平面干涉原理的平行光管分划板高精度装调方法
CN106705888A (zh) 干涉检测中的ccd坐标系与镜面坐标系非线性关系标定方法
CN103697806A (zh) 用于检测环形导轨外圆弧面的光学干涉仪
CN203657756U (zh) 圆柱体外表面的光学检测装置
CN108803067A (zh) 一种光学深度相机及其信号光源处理方法
CN103838088A (zh) 一种调焦调平装置及调焦调平方法
CN110567392B (zh) 一种凸自由曲面反射镜面形测试方法
CN102073122B (zh) 用于离轴同心光学系统中同心光学元件的同心装配方法
CN204854637U (zh) 测量离轴抛物面主反射镜离轴量和离轴角的系统
CN110779456A (zh) 一种太赫兹波段超表面相移装置及其测量方法
CN207351658U (zh) 一种楔形透镜透射波前的测量装置

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20170531

Address after: 201821, Shanghai Jiading Industrial Zone, green road, No. 2398, comprehensive experimental building 1, 1, the ground floor, Jiading District

Patentee after: Shanghai economic and commercial Photoelectric Technology Co., Ltd.

Address before: 200083 Yutian Road, Shanghai, No. 500, No.

Patentee before: Shanghai Inst. of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences

AV01 Patent right actively abandoned

Granted publication date: 20160330

Effective date of abandoning: 20171013

AV01 Patent right actively abandoned

Granted publication date: 20160330

Effective date of abandoning: 20171013

AV01 Patent right actively abandoned
AV01 Patent right actively abandoned