CN205115597U - 一种连续式等离子真空镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种连续式等离子真空镀膜装置，包括镀膜室和真空管道，所述镀膜室内设有输送带，在镀膜室顶面上沿输送带运动方向设置有若干离子罩，在输送带下方设有若干电弧溅射源，所述镀膜室两侧分别设有第一隔离腔和第二隔离腔，在第一隔离腔与镀膜室连接处和第二隔离腔与镀膜室连接处分别设置有第一真空隔离阀和第二真空隔离阀，在第一隔离腔上方设有第一抽气口，在第一隔离腔上相对第一真空隔离阀一侧设有第一隔离腔门，在第二隔离腔上方设有第二抽气口，本装置通过将第一隔离腔、镀膜室和第二隔离腔依次连接并形成三个独立的真空腔体，保证在进行电离子镀膜时镀膜室内的密封性及真空程度。
Description
技术领域
本实用新型涉及镀膜设备领域，具体是一种连续式等离子真空镀膜装置。
背景技术
等离子全方位离子沉积技术，简称为PIID技术，是等离子增强化学气相沉积技术的一种，其原理是向镀膜工件施加脉冲直流或者纯直流，工件表面释放电子与真空室内的气体发生碰撞，产生了等离子体，带正电的离子和被激活的分子在工件表面成膜。利用PIID技术可以制备出类金刚石涂层，简称DLC涂层；由于DLC涂层具有高硬度、低摩擦系数、耐磨耐腐蚀能等多种优异的性能而被广泛应。
传统的等离子镀膜装置，将工件置于镀膜室内后将镀膜室内空气抽出形成真空后再充入Ar气，利用电离子进行镀膜，往往需要进行抽气、充气反复工作，所以能在最短时间将镀膜室内气体抽出也是提高加工效率的重要因素，常规的镀膜室抽真空管道在进行抽真空工作时容易使得室内形成空气紊流，影响气体排出速率；同时的，在进行镀膜时需要保证镀膜室内的高度密封。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种连续式等离子真空镀膜装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
一种连续式等离子真空镀膜装置，包括镀膜室和真空管道，所述镀膜室内设有输送带，在镀膜室顶面上沿输送带运动方向设置有若干离子罩，在输送带下方设有若干电弧溅射源，所述镀膜室两侧分别设有第一隔离腔和第二隔离腔，在第一隔离腔与镀膜室连接处和第二隔离腔与镀膜室连接处分别设置有第一真空隔离阀和第二真空隔离阀，在第一隔离腔上方设有第一抽气口，在第一隔离腔上相对第一真空隔离阀一侧设有第一隔离腔门，在第二隔离腔上方设有第二抽气口，在第二隔离腔上相对第二真空隔离阀一侧设有第二隔离腔门，在第一隔离腔和第二隔离腔内均设有磁控溅射源；在镀膜室下方设有真空管道，所述真空管道主体呈“Y”形，包括第一抽气管、第二抽气管和聚合管道，所述第一抽气管和第二抽气管上端均设置有上端接口，所述上端接口固定在镀膜室底面上使得第一抽气管和第二抽气管与镀膜室内部相连通，第一抽气管和第二抽气管下端弯折并与聚合管道上端密封对接，在聚合管道下端设置有下端接口。
作为本实用新型进一步的方案：所述相邻两个离子罩之间的距离相同。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本装置通过将第一隔离腔、镀膜室和第二隔离腔依次连接并形成三个独立的真空腔体，保证在进行电离子镀膜时镀膜室内的密封性及真空程度，并通过在镀膜室下方设置包括第一抽气管、第二抽气管和聚合管道的真空管道进行镀膜室内空气的抽真空工作，平滑空气排出的路径，避免镀膜室内部空气产生紊流，提高镀膜室内部空气排出的速度和效率。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图中1-镀膜室，11-输送带，12-离子罩，13-电弧溅射源，2-第一隔离腔，21-第一抽气口，22-第一隔离腔门，23-第一真空隔离阀，3-第二隔离腔，31-第二抽气口，32-第二隔离腔门，33-第二真空隔离阀，4-磁控溅射源，5-真空管道，51-第一抽气管，52-第二抽气管，53-聚合管道，54-下端接口，55-上端接口。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1，本实用新型实施例中，一种连续式等离子真空镀膜装置，包括镀膜室1和真空管道5，所述镀膜室1内设有输送带11，在镀膜室1顶面上沿输送带11运动方向设置有若干离子罩12，相邻两个离子罩12之间的距离相同，在输送带11下方设有若干电弧溅射源11，利用电弧溅射源11对输送带11上的工件进行溅射镀膜，离子罩12用于捕捉逃逸的离子，所述镀膜室1两侧分别设有第一隔离腔2和第二隔离腔3，在第一隔离腔2与镀膜室1连接处和第二隔离腔3与镀膜室1连接处分别设置有第一真空隔离阀23和第二真空隔离阀33，从而使得第一隔离腔2、镀膜室1和第二隔离腔3依次连接并形成三个独立的真空腔体，在第一隔离腔2上方设有第一抽气口21，在第一隔离腔2上相对第一真空隔离阀23一侧设有第一隔离腔门22，在第二隔离腔3上方设有第二抽气口31，在第二隔离腔3上相对第二真空隔离阀33一侧设有第二隔离腔门32，在第一隔离腔2和第二隔离腔3内均设有磁控溅射源4，工件在进入镀膜室1前和溢出镀膜室1后，可以通过磁控溅射源4来进行先后溅射镀膜，方便进行不同膜层的镀膜或是进行合金膜的镀膜，从而满足更多要求的镀膜需求。
在镀膜室1下方设有真空管道5，所述真空管道5主体呈“Y”形，包括第一抽气管51、第二抽气管52和聚合管道53，所述第一抽气管51和第二抽气管52上端均设置有上端接口55，所述上端接口55固定在镀膜室1底面上使得第一抽气管51和第二抽气管52与镀膜室1内部相连通，第一抽气管51和第二抽气管52下端弯折并与聚合管道53上端密封对接，在聚合管道53下端设置有用于连接抽真空机的下端接口54，通过第一抽气管51和第二抽气管52同时对镀膜室1内进行抽真空工作，平滑空气排出的路径，避免镀膜室1内部空气产生紊流，提高镀膜室1内部空气排出的速度和效率。
本实用新型的工作原理是：本装置通过将第一隔离腔2、镀膜室1和第二隔离腔3依次连接并形成三个独立的真空腔体，保证在进行电离子镀膜时镀膜室1内的密封性及真空程度，并通过在镀膜室1下方设置包括第一抽气管51、第二抽气管52和聚合管道53的真空管道5进行镀膜室1内空气的抽真空工作，平滑空气排出的路径，避免镀膜室1内部空气产生紊流，提高镀膜室1内部空气排出的速度和效率。
对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (2)
1.一种连续式等离子真空镀膜装置，包括镀膜室和真空管道，其特征在于，所述镀膜室内设有输送带，在镀膜室顶面上沿输送带运动方向设置有若干离子罩，在输送带下方设有若干电弧溅射源，所述镀膜室两侧分别设有第一隔离腔和第二隔离腔，在第一隔离腔与镀膜室连接处和第二隔离腔与镀膜室连接处分别设置有第一真空隔离阀和第二真空隔离阀，在第一隔离腔上方设有第一抽气口，在第一隔离腔上相对第一真空隔离阀一侧设有第一隔离腔门，在第二隔离腔上方设有第二抽气口，在第二隔离腔上相对第二真空隔离阀一侧设有第二隔离腔门，在第一隔离腔和第二隔离腔内均设有磁控溅射源；在镀膜室下方设有真空管道，所述真空管道主体呈“Y”形，包括第一抽气管、第二抽气管和聚合管道，所述第一抽气管和第二抽气管上端均设置有上端接口，所述上端接口固定在镀膜室底面上使得第一抽气管和第二抽气管与镀膜室内部相连通，第一抽气管和第二抽气管下端弯折并与聚合管道上端密封对接，在聚合管道下端设置有下端接口。
2.根据权利要求1所述的一种连续式等离子真空镀膜装置，其特征在于，所述相邻两个离子罩之间的距离相同。
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106377778A (zh) * | 2016-10-27 | 2017-02-08 | 合肥优亿科机电科技有限公司 | 一种快速高密度等离子体灭菌设备 |
| CN106421838A (zh) * | 2016-10-27 | 2017-02-22 | 合肥优亿科机电科技有限公司 | 一种自动更换的快速高密度等离子体灭菌设备 |
| CN111074219A (zh) * | 2018-10-19 | 2020-04-28 | 君泰创新（北京）科技有限公司 | 磁控溅射装置 |
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