CN204999965U - 一种磁控溅射智能气体分布器 - Google Patents
一种磁控溅射智能气体分布器 Download PDFInfo
- Publication number
- CN204999965U CN204999965U CN201520395671.2U CN201520395671U CN204999965U CN 204999965 U CN204999965 U CN 204999965U CN 201520395671 U CN201520395671 U CN 201520395671U CN 204999965 U CN204999965 U CN 204999965U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- gas
- nozzle
- magnetron sputtering
- utility
- model
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种磁控溅射智能气体分布器，包括：管体，喷嘴，进气口，所述喷嘴为一个半球体空腔，半球体空腔顶端与进气管密封连接，半球体空腔底板上均匀分布若干直径为0.5～1.0mm的气孔,孔密度为1000000个/㎡；所述管体为倒L形，管体上接有气体浓度传感器和气体输送开关，气体浓度传感器和气体输送开关之间以杜邦线连接。本实用新型的优点在于：带有致密小孔的喷嘴能让气体均匀分布于镀膜真空腔中，气体浓度传感器和开关可以更好地控制输入氧气的浓度，有利于生产高品质镀膜。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种磁控溅射智能气体分布器，用于向磁控溅射镀膜真空腔中输送混合气体。
背景技术
在磁控溅射镀膜技术中，输入Ar，O2混合气体是为了电离出氩离子轰击靶材，传统的磁控溅射镀膜腔室中的Ar，O2混合气体采用无喷嘴的管道输送，气体分布不够均匀，从而导致电离出的氩离子分布不均，影响了镀膜的均匀度。另外，氧气分子的浓度过大会使待镀膜表面发生氧化反应，影响镀膜质量。传统的气体分布器不具备氧气浓度检测功能，不能在氧气浓度达到最适值时停止向真空腔体输入混合气体，从而影响镀膜的质量。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是：提供一种磁控溅射智能气体分布器，使输送的混合气体均匀分布于镀膜真空腔室内，且在氧气浓度达到设定值时控制开关停止混合气体的输送。
为解决上述问题，本实用新型采用的技术方案是：一种磁控溅射智能气体分布器，包括：管体1，喷嘴2，进气口5，其特征在于，所述喷嘴2为一个半球体空腔，半球体空腔顶端与管体1密封连接，半球体空腔底板上均匀分布若干直径为0.5～1.0mm的气孔6,孔密度为1000000个/㎡；所述管体1为倒L形，管体1上接有气体浓度传感器3和气体输送开关4，气体浓度传感器3和气体输送开关4之间以杜邦线连接。
本实用新型的优点在于：喷嘴上细密的小孔使喷出的气体分布更均匀，从而使电离出的氩离子分布更均匀，有利于镀膜均匀度的提高，管体上的气体浓度传感器和气体输送开关可以有效控制镀膜真空腔室中氧气的浓度，从而控制待镀基板的氧化程度，便于得到高质量的镀膜。
附图说明
图1为本实用新型提出的磁控溅射智能气体分布器的整体结构；
图2为磁控溅射智能气体分布器喷嘴底板结构。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作更进一步的说明。
如图1所示为本实用新型一种磁控溅射智能气体分布器的整体结构，包括：管体1，喷嘴2，进气口5，其特征在于，所述喷嘴2为一个半球体空腔，半球体空腔顶端与管体1密封连接，半球体空腔底板上均匀分布若干直径为0.5～1.0mm的气孔6,孔密度为1000000个/㎡；所述管体1为倒L形，管体1上接有气体浓度传感器3和气体输送开关4，气体浓度传感器3和气体输送开关4之间以杜邦线连接。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出：对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (1)
1.一种磁控溅射智能气体分布器，包括：管体(1)，喷嘴(2)，进气口(5)，其特征在于，所述喷嘴(2)为一个半球体空腔，半球体空腔顶端与管体(1)密封连接，半球体空腔底板上均匀分布若干直径为0.5～1.0mm的气孔(6),孔密度为1000000个/㎡；所述管体(1)为倒L形，管体(1)上接有气体浓度传感器(3)和气体输送开关(4)，气体浓度传感器(3)和气体输送开关(4)之间以杜邦线连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520395671.2U CN204999965U (zh) | 2015-06-09 | 2015-06-09 | 一种磁控溅射智能气体分布器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520395671.2U CN204999965U (zh) | 2015-06-09 | 2015-06-09 | 一种磁控溅射智能气体分布器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN204999965U true CN204999965U (zh) | 2016-01-27 |
Family
ID=55156862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201520395671.2U Active CN204999965U (zh) | 2015-06-09 | 2015-06-09 | 一种磁控溅射智能气体分布器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN204999965U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105714259A (zh) * | 2016-03-22 | 2016-06-29 | 南京汇金锦元光电材料有限公司 | 磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置及方法 |
-
2015
- 2015-06-09 CN CN201520395671.2U patent/CN204999965U/zh active Active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105714259A (zh) * | 2016-03-22 | 2016-06-29 | 南京汇金锦元光电材料有限公司 | 磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置及方法 |
| CN105714259B (zh) * | 2016-03-22 | 2019-06-25 | 南京汇金锦元光电材料有限公司 | 磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置及方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN204999965U (zh) | 一种磁控溅射智能气体分布器 | |
| CN202322999U (zh) | 混合式布气管 | |
| CN207716862U (zh) | 锂电池材料箱式烧结炉 | |
| CN204769253U (zh) | 固化室加湿用自吸式雾化喷水装置 | |
| CN203108694U (zh) | 一种新型涂料喷枪 | |
| CN103074569A (zh) | 大气辉光放电低温等离子体镀膜装置 | |
| CN201313933Y (zh) | 二元布气管 | |
| CN203498099U (zh) | 新型多晶硅还原炉喷嘴 | |
| CN217026076U (zh) | 一种智能分流装置及一种等离子体加工设备 | |
| CN203659796U (zh) | 一种超声波雾化等离子体处理装置 | |
| CN102155439A (zh) | 一种用于水蒸汽喷射泵的真空度调节系统 | |
| CN202954124U (zh) | 一种水平工件电化学沉积设备 | |
| CN114959607A (zh) | 一种磁控反应溅射工艺气体布气装置及布气方法 | |
| CN207592775U (zh) | 一种粉体溅射镀膜装置 | |
| CN205501407U (zh) | 一种真空离子镀膜用的送气装置 | |
| CN103031527A (zh) | 磁控溅射镀膜装置 | |
| CN201770773U (zh) | 一种用于大尺寸基板镀膜的气体分配装置 | |
| CN206784841U (zh) | 一种环保型涂料喷枪 | |
| CN206549425U (zh) | 一种废气冷燃电解塔 | |
| CN207957851U (zh) | 一种富氢喷水壶 | |
| CN112281126A (zh) | 一种反应磁控溅射分离式布气法 | |
| CN203708616U (zh) | 一种常压等离子体喷枪装置 | |
| CN207581916U (zh) | 一种旋转靶的布气装置 | |
| CN213254165U (zh) | 一种打样流化桶 | |
| CN204006745U (zh) | 真空管圆形排气台 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20230621 Address after: 214000 No.7 Jingui Road, Hudai Town, Binhu District, Wuxi City, Jiangsu Province Patentee after: Wuxi aierhua Photoelectric Technology Co.,Ltd. Address before: No. 7 Jingui Road, Hudai Industrial Park, Hu District, Wuxi City, Jiangsu Province, 214161 Patentee before: Wuxi Aierhua Precision Machinery Co.,Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right |