CN204946867U - 一种刻蚀液供液装置及使用该装置的湿化刻蚀设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种刻蚀液供液装置<b>及使用该装置的湿化刻蚀设备</b>,刻蚀液供液装置包括用于盛装刻蚀液的蚀液瓶、用于导出刻蚀液的输液管,所述蚀液瓶外设有一密封的压力瓶,所述输液管一端位于蚀液瓶内、另一端伸出所述压力瓶,所述蚀液瓶的上方设有与压力瓶连通的空气入口,所述压力瓶分别与一可注入空气的压缩空气接口以及一泄压阀连通。本实用新型采用压缩空气对蚀液瓶内的液面施加一定的压力,从而使刻蚀液均匀流出,并且还将蚀液瓶与供液系统的其他部分分离开来,维护和使用都十分方便。更进一步还提供了液面检测模块,可以提醒工作人员及时更换蚀液瓶。
Description
技术领域
本实用新型涉及湿化刻蚀设备,尤其涉及一种湿化刻蚀设备中的刻蚀液供液压力瓶。
背景技术
ZnO是一种宽禁带半导体材料,由它制备而成薄膜是一种理想的透明导电薄膜,在光伏、LED行业有着良好的应用前景。为方便外部接线的引入,ZnO薄膜制备完成后一般采用湿化刻蚀方法,在其表面刻蚀加工出电极。刻蚀液供液系统能否均匀稳定地输送刻蚀液,对刻蚀的可控性、均匀性影响很大。目前厂商一般参照文丘里结构进行设计。而这种设计存在以下不足和缺陷:
1、由于刻蚀液粘度较大,采用文丘里结构的供液系统供液速度过小,在高液位差的情况下甚至不供液,不利于刻蚀工艺的调试。
2、刻蚀工艺过程中,刻蚀液不断供出,液位不断下降,采用文丘里结构的供液系统吸液越来越困难,供液速度也随之降低,影响工艺的均匀稳定性。
因此,如何提供一种可以均匀、稳定地输送刻蚀液的刻蚀液供液系统是业界亟待解决的技术问题。
发明内容
本实用新型为了解决上述现有技术的问题,提出一种刻蚀液供液装置,包括用于盛装刻蚀液的蚀液瓶、用于导出刻蚀液的输液管,所述蚀液瓶外设有一密封的压力瓶,所述输液管一端位于蚀液瓶内、另一端伸出所述压力瓶,所述蚀液瓶的上方设有与压力瓶连通的空气入口,所述压力瓶分别与一可注入空气的压缩空气接口以及一泄压阀连通。
优选的,所述压力瓶还与一压力表连通。
优选的,还包括一用于检测蚀液瓶内液位高度的液面检测模块。所述压力瓶的侧壁底部设有一垂直于其轴向的开口通管;所述液面检测模块包括设于通管内且将压力瓶密封的护套,设置在护套内的液位传感器,与通管的外围螺纹连接、用于调整护套及传感器与蚀液瓶距离的调节螺母。
优选的,所述输液管伸出压力瓶的一端设有喷淋头。
进一步,本实用新型的空气入口有两种实施方式,一种是所述蚀液瓶的瓶口与压力瓶的内表面之间设有一C型顶块作为与压力瓶连通的空气入口。另一种是所述蚀液瓶的瓶口处设有一缺口作为与压力瓶连通的空气入口。
本实用新型还提出了使用了如上述刻蚀液供液装置的湿化刻蚀设备。
本实用新型的通过压缩空气提供一定的压力,将刻蚀液匀速压出,达到均匀供液的目的。同时将装有刻蚀液的蚀液瓶与压力瓶以及液面检测装置等隔离,避免了杂质混入刻蚀液,不会影响刻蚀反应,同时使蚀液瓶可以用完就更换,供液系统的其他部件可以免于清洗,方便维护。本实用新型进一步设置的刻蚀液液位传感,可以在刻蚀液余量不足时提醒操作人员及时补充刻蚀液,同时保证压力供液系统的密封性以及液位传感器的可调性,使用方便,检测精准。
附图说明
图1是本实用新型的立体图;
图2是本实用新型的剖视图。
具体实施方式
以下结合附图和实施例,详细说明本实用新型的工作过程。
如图1所示,本实用新型的刻蚀液供液装置,主要包括用于盛装刻蚀液的蚀液瓶2、设置在蚀液瓶2外的压力瓶1、穿过压力瓶1插入至蚀液瓶2底部的输液管3以及检测蚀液瓶2内液面高度的液面检测模块4。
本实用新型的压力瓶1是一个密封的金属容器,包括一带瓶口的瓶身以及将瓶口进行密封的法兰顶盖。法兰上安装了所一个可注入压缩空气的压缩空气接口5以及一个与泄压阀连通的接口6,然后蚀液瓶2的上方设有与压力瓶1连通的空气入口,需要输出刻蚀液时,将压缩空气从压缩空气接口中注入,然后通过空气入口从蚀液瓶2的瓶口进入至蚀液瓶2内,从而将促使刻蚀液从输液管中流出,输液管的出口处还可以连接喷淋头,这样喷出的刻蚀液更加均匀。该方法可以使供液速度不受液量的大小,而且供液速度可以满足要求。进一步还可以在法兰上进一步安装一与压力表连通的压力表接口7,以便可以精确控制输出刻蚀液的量。
由于压力瓶1内的蚀液瓶2的液量大小无法直观观察到,通过液面检测模块检测到液面到一定高度,就可以打开法兰顶盖,更换新的蚀液瓶。本实用新型的液面检测模块包括护套8、液位传感器9以及调节螺母10。为了安装该液面检测模块,压力瓶1的侧壁底部设有一垂直于其轴向的开口通管11,该通管11与压力瓶1内部是连通的,可以与压力瓶1一起铸造形成一个整体,护套8就安装在这通管11内,护套8采用塑料制成,其外围设有环形凹槽,环形凹槽内设有略微凸出于凹槽开口的密封圈12,因此护套8将在该通管内对压力瓶1进行了密封,护套8内则放置着液位传感器9,液位传感器可以采用超声波液位传感器还可以采用电容式液位传感器,金属的通管可以避免外界对传感器进行干扰,而护套8可以避免压力瓶内的压力对液位传感器造成影响,同时也因为其采用塑料材质,不会影响传感器的工作。通管的外围设有螺纹,调节螺母10与通管螺纹连接,同时还与传感器以及护套固定连接,旋转调节螺母10,就可以沿通管的轴向调节传感器以及护套的位置,这样可以根据实际情况调整传感器与蚀液瓶的距离,便于检测。一旦检测到刻蚀液快要用完时,就可以发出警报声,提醒工作人员及时更换新的蚀液瓶,十分方便。
本实用新型压力瓶瓶口处的空气入口可以采用在蚀液瓶的瓶口与压力瓶法兰顶盖的内表面之间设置一个C型顶块13,压缩空气从C型顶盖的缺口处从瓶口进入瓶内,对刻蚀液的液面施加压力,使刻蚀液顺利从输液管中流出,这种方式将刻蚀液与供液压力瓶隔离,以避免杂质混入刻蚀液,影响刻蚀反应。同时供液系统可免于清洗,方便维护。压力瓶瓶口处的空气入口还可以是在瓶口处设置一缺口,虽然瓶口上端与法兰盖的内表面相接触,但是压缩空气可以从缺口处进入,同样也可以达到相同的效果。
本实用新型同样也保护使用了上述任一一个实施例中的刻蚀液供液装置的湿化刻蚀设备。
应当理解的是,上述针对具体实施例的描述较为详细,并不能因此而认为是对本实用新型专利保护范围的限制,本实用新型的专利保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (9)
1.一种刻蚀液供液装置,包括用于盛装刻蚀液的蚀液瓶、用于导出刻蚀液的输液管,其特征在于,所述蚀液瓶外设有一密封的压力瓶,所述输液管一端位于蚀液瓶内、另一端伸出所述压力瓶,所述蚀液瓶的上方设有与压力瓶连通的空气入口,所述压力瓶分别与一可注入空气的压缩空气接口以及一泄压阀连通。
2.如权利要求1所述的刻蚀液供液装置,其特征在于,所述压力瓶还与一压力表连通。
3.如权利要求1所述的刻蚀液供液装置,其特征在于,还包括一用于检测蚀液瓶内液位高度的液面检测模块。
4.如权利要求3所述的刻蚀液供液装置,其特征在于,所述压力瓶的侧壁底部设有一垂直于其轴向的开口通管;所述液面检测模块包括设于通管内且将压力瓶密封的护套,设置在护套内的液位传感器,与通管的外围螺纹连接、用于调整护套及传感器与蚀液瓶距离的调节螺母。
5.如权利要求4所述的刻蚀液供液装置,其特征在于,所述液位传感器为超声波液位传感器或电容式液位传感器。
6.如权利要求1所述的刻蚀液供液装置,其特征在于,所述输液管伸出压力瓶的一端设有喷淋头。
7.如权利要求1至6任意一项所述的刻蚀液供液装置,其特征在于,所述蚀液瓶的瓶口与压力瓶的内表面之间设有一C型顶块作为与压力瓶连通的空气入口。
8.如权利要求1至6任意一项所述的刻蚀液供液装置,其特征在于,所述蚀液瓶的瓶口处设有一缺口作为与压力瓶连通的空气入口。
9.使用了如上述任一权利要求所述的刻蚀液供液装置的湿化刻蚀设备。
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2015
- 2015-07-21 CN CN201520530060.4U patent/CN204946867U/zh active Active
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