CN204903353U - 一种新型的流式细胞仪流动室 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种新型的流式细胞仪流动室，其主要包括流动室，进样针，上端盖，套筒，下端盖，旋转片，两个鞘流入口设置在上端盖顶部，旋转片和套筒顶部开有两个大小和形状均相同的环形槽，流动室内设置有第一鞘流室，第一聚焦区，第二鞘流室，第二聚焦区。本实用新型能够形成稳定的层流，避免出现紊流，同时在进样速率不同时能够保持较高的检测精度。
Description
技术领域
本实用新型涉及医学和生物检测技术领域，具体涉及一种新型的流式细胞仪流动室。
背景技术
流式细胞仪是通过流式细胞仪技术对处在快速流动状态下的细胞或生物微粒进行多参数、定量分析或分选。流式细胞技术是指样品流在鞘流的包裹下，细胞排队通过流动室检测区的流体控制技术，该技术可以避免细胞按非常规路线经过检测区而造成检测失准的问题，同时可以大大减小细胞重叠通过检测区而产生泄漏的概率。流动室利用流体动力学聚焦原理，将鞘流和样品流在流动室内汇聚，使样品流形成稳定的层流，此时，鞘流包围在样品流周围，样品流形成稳定的直线流动液体通过激光检测区，用于光学系统检测分析。对于同一个流动室，鞘流的入口方式大多数设置在流动室侧壁上部，这种容易造成流体波动，难以形成稳定的层流；另外，当样品流进样速率提高时，样品流直径变大，样品流中的待测细胞偏离照射光斑的中心位置，使得照射能量不均匀，或则检测区出现多个细胞样本，不满足单细胞测量要求的情况，将会导致信号变化增加和数据质量下降，从而使细胞仪检测精度下降。因此，当样品流进样速率发生变化时，将会影响样品流压缩直径大小，进而影响检测精度，使用者要想通过提高样品流进样速率提高检测效率，必须以牺牲检测精度为代价。
发明内容
本实用新型要解决的问题在于，针对目前鞘流入口的设置方式会造成流体不同程度的波动，难以形成稳定的层流，以及在需要提高不同样品流进样速率均能够保持较高检测精度的技术问题，本实用新型提供了一种新型的流式细胞仪流动室。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种新型的流式细胞仪流动室，包括上端盖，旋转片，流动室，套筒，进样针，下端盖，套筒定位安装在流动室外部，旋转片放置于套筒顶部，并与套筒同轴，上端盖安装在套筒顶部位置，进样针沿轴线由上至下依次穿过上端盖、旋转片、套筒、流动室，下端盖设置在流动室底部，通过台阶面与套筒进行定位。
在上述的一种新型的流式细胞仪流动室，所述上端盖顶部有两个鞘流入口，为圆柱形通孔，且两者相对于上端盖轴对称；所述上端盖与套筒之间组成鞘流缓冲区。
在上述的一种新型的流式细胞仪流动室，所述套筒顶部设置有两个环形槽，其与套筒外圆同心，半径为套筒外径的1/3，两个环形槽的圆心角均为90°，宽度为套筒外径的1/6，且两者相对于套筒轴对称。
在上述的一种新型的流式细胞仪流动室，所述旋转片上开有两个相同的环形槽，其大小与所述套筒上的两环形槽相同，旋转片的上表面沿轴线设置有一空心圆柱体，空心圆柱体的高度为缓冲区的高度的2~4倍，其内径与进样针的大圆半径相同。
在上述的一种新型的流式细胞仪流动室，所述流动室包括第一鞘流室、第一聚焦区、第二鞘流室、第二聚焦区，并依次顺序连接成形；所述第一鞘流室为圆柱形空腔，第一聚焦区为圆锥形空腔，第二鞘流室为圆柱形空腔，第二聚焦区为圆锥形空腔；所述流动室第一鞘流室的高度是第二鞘流室的1.5~3倍，第一聚焦区的圆锥角度为30°~90°，第二聚焦区的圆锥角度为20°~30°，第一鞘流室的内径是第二鞘流室的内径的1~2倍。
在上述的一种新型的流式细胞仪流动室，所述下端盖呈阶梯凸台结构，底部是圆锥体，在圆锥体上设有激光照射区，激光照射区为通孔结构，位于圆锥体高度的1/2位置处，且激光照射区与下端盖的中心轴线垂直相交。
实施本实用新型的一种新型的流式细胞仪流动室，具有以下有益效果：在垂直于流动室顶部设置鞘流入口，它将样品流顺着鞘流的流动方向注入到充满鞘流的流动室中，这种结构对流体的冲击最小，容易快速地产生稳定的层流；另外，通过改变流动室套筒上的环形槽槽口的大小来控制鞘流流量的大小，从而即保证了对不同样品流进样速率的需要，同时又能保持较高检测精度。
附图说明
下面结合附图及实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
图1为本实用新型一种新型的流式细胞仪流动室的正面剖视结构示意图。
图2为本实用新型一种新型的流式细胞仪流动室的上端盖的等轴剖视图。
图3为本实用新型一种新型的流式细胞仪流动室的旋转片的斜视图。
图4为本实用新型一种新型的流式细胞仪流动室的套筒的斜视图。
图5为本实用新型一种新型的流式细胞仪流动室的套筒的俯视图。
图6为本实用新型一种新型的流式细胞仪流动室在低速工作模式的环形槽状态斜视图。
图7为本实用新型一种新型的流式细胞仪流动室在低速工作模式的环形槽状态俯视图。
具体实施方式
参照图1，本实用新型一种新型的流式细胞仪流动室，包括上端盖1，旋转片2，流动室3，套筒4，进样针5，下端盖6，套筒4定位安装在流动室3外部，旋转片2放置于套筒4顶部，并与套筒4同轴，上端盖1安装在套筒4顶部位置，进样针5沿轴线由上至下依次穿过上端盖1、旋转片2、套筒4、流动室3，下端盖6设置在流动室3底部，通过台阶面与套筒4进行定位。
参照图1及图2所示，上端盖1顶部有两个鞘流入口9，为圆柱形通孔，且两者相对于上端盖1轴对称；所述上端盖1与套筒4之间组成鞘流缓冲区10。
参照图1及图4和图5所示，套筒4顶部设置有两个环形槽12，其与套筒4外圆同心，半径为套筒4外径的1/3，两个环形槽12的圆心角均为90°，宽度为套筒4外径的1/6，且两者相对于套筒4轴对称。
参照图1及图3所示，旋转片2上开有两个相同的环形槽11，其大小与所述套筒4上的两环形槽12相同，旋转片2的上表面沿轴线设置有一空心圆柱体8，空心圆柱体8的高度为缓冲区10的高度的2~4倍，其内径与进样针5的大圆半径相同。
参照图1，流动室3包括第一鞘流室13、第一聚焦区14、第二鞘流室15、第二聚焦区16，并依次顺序连接成形；所述第一鞘流室13为圆柱形空腔，第一聚焦区14为圆锥形空腔，第二鞘流室15为圆柱形空腔，第二聚焦区16为圆锥形空腔；所述流动室第一鞘流室13的高度是第二鞘流室15的1.5~3倍，第一聚焦区14的圆锥角度为30°~90°，第二聚焦区16的圆锥角度为20°~30°，第一鞘流室13的内径是第二鞘流室15的内径的1~2倍。
参照图1，下端盖6呈阶梯凸台结构，底部是圆锥体，在圆锥体上设有激光照射区7，激光照射区7为通孔结构，位于圆锥体高度的1/2位置处，且激光照射区7与下端盖6的中心轴线垂直相交。
本实用新型一种新型的流式细胞仪流动室在垂直于流动室顶部设置鞘流入口，使样品流顺着鞘流的流动方向注入到充满鞘流的流动室中，这种结构对流体的冲击最小，容易快速产生稳定的层流。
此外，本实用新型一种新型的流式细胞仪流动室可提供多种工作模式，本实施方式中例举两种工作模式，在流动室3处于高样品流进样速率工作模式时，旋转片2上的环形槽11和套筒4上的环形槽12保持完全重合状态，鞘流沿着环形槽11和环形槽12垂直进入到流动室3；如图6和图7所示，当需要降低样品流进样速率到某一特定速率，通过适当的旋转旋转片2，改变环形槽12的槽口大小，以控制鞘流流量，即保证了对不同样品流进样速率的需要，同时又能保持较高检测精度。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (6)
1.一种新型的流式细胞仪流动室，其特征在于：包括上端盖（1），旋转片（2），流动室（3），套筒（4），进样针（5），下端盖（6），套筒（4）定位安装在流动室（3）外部，旋转片（2）放置于套筒（4）顶部，并与套筒（4）同轴，上端盖（1）安装在套筒（4）顶部位置，进样针（5）沿轴线由上至下依次穿过上端盖（1）、旋转片（2）、套筒（4）、流动室（3），下端盖（6）设置在流动室（3）底部，通过台阶面与套筒（4）进行定位。
2.按照权利要求1所述的一种新型的流式细胞仪流动室，其特征在于：所述上端盖（1）顶部有两个鞘流入口（9），其为圆柱形通孔，且两者相对于上端盖（1）轴对称；所述上端盖（1）与套筒（4）之间组成鞘流缓冲区（10）。
3.按照权利要求1所述的一种新型的流式细胞仪流动室，其特征在于：所述套筒（4）顶部设置有两个环形槽（12），其与套筒（4）外圆同心，半径为套筒（4）外径的1/3，两个环形槽（12）的圆心角均为90°，宽度为套筒（4）外径的1/6，且两者相对于套筒（4）轴对称。
4.按照权利要求1所述的一种新型的流式细胞仪流动室，其特征在于：所述旋转片（2）上开有两个相同的环形槽（11），其大小与所述套筒（4）上的两环形槽（12）相同，旋转片（2）的上表面沿轴线设置一空心圆柱体（8），空心圆柱体（8）的高度为缓冲区（10）的高度的2~4倍，其内径与进样针（5）的大圆半径相同。
5.按照权利要求1所述的一种新型的流式细胞仪流动室，其特征在于：所述流动室（3）包括第一鞘流室（13）、第一聚焦区（14）、第二鞘流室（15）、第二聚焦区（16），并依次顺序连接成形；所述第一鞘流室（13）为圆柱形空腔，第一聚焦区（14)为圆锥形空腔，第二鞘流室(15)为圆柱形空腔，第二聚焦区(16)为圆锥形空腔；所述流动室(3)第一鞘流室(13)的高度是第二鞘流室(15)的1.5~3倍，第一聚焦区(14)的圆锥角度为30°~90°，第二聚焦区(16)的圆锥角度为20°~30°，第一鞘流室(13)的内径是第二鞘流室(15)的内径的1~2倍。
6.按照权利要求1所述的一种新型的流式细胞仪流动室，其特征在于：所述下端盖(6)呈阶梯凸台结构，底部是圆锥体，在圆锥体上设有激光照射区（7），激光照射区（7）为通孔结构，位于圆锥体高度的1/2位置处，且激光照射区（7）与下端盖（6）的中心轴线垂直相交。
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