CN204816087U - 一种吸取硅晶片的真空管路用气液分离器 - Google Patents
一种吸取硅晶片的真空管路用气液分离器 Download PDFInfo
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Abstract
一种吸取硅晶片的真空管路用气液分离器,储液筒上部用密封盖密封,密封盖上设置有进气管道和出气管道,进气管道的上端通过软管与真空吸笔或真空吸盘链接,下端通过导液管道深入储液筒内的中上部位置,出气管道的上端通过软管与真空管道连通,下端与储液筒内的顶部连通。本实用新型中,通过在真空吸盘和真空管道之间加设由密封盖密封的储液筒,使得水和脏物会随着进气管道和导液管道被吸至储液筒内,而出气管道连接的系统真空管道内将不会再有水和脏物,即可实现气液分离的效果,避免了水和脏污进入到真空管道内进而堵塞真空管道,具有结构简单、清洗简便、成本低、稳定可靠等的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及到半导体硅晶片的制造领域,具体的说是一种吸取硅晶片的真空管路用气液分离器。
背景技术
在半导体硅抛光片制造过程中,一些工艺过程如双面研磨、酸腐蚀、SBSD以及一些清洗工序,需要使用真空吸笔吸取硅晶片,但由于硅晶片上有水和脏污,真空吸笔在吸取这些表面有水和脏污的硅晶片时,水和脏污会被吸入到真空管道中,时间一长,会导致真空管道堵塞等问题。还有的工序如倒角、去边机等设备,需要真空吸盘吸住硅晶片进行加工,但在这些加工过程中硅晶片上的水和脏物也会通过真空吸盘进入到真空管道中,时间一长,会导致真空管道堵塞等问题。
目前,很多厂家没有在真空吸笔或真空吸盘后加装过滤器,待堵塞时更换真空管道;有的厂家加装了过滤器来解决这个问题,但要经常更换过滤器内的过滤棉,成本很高。
实用新型内容
为解决现有技术中在使用真空吸盘吸取硅晶片时会把水和脏污吸入真空管道进而导致真空管道堵塞的问题,本实用新型提供了一种吸取硅晶片的真空管路用气液分离器。
本实用新型为解决上述技术问题采用的技术方案为:一种吸取硅晶片的真空管路用气液分离器,包括一圆筒形的储液筒,储液筒上部用密封盖密封,密封盖上设置有进气管道和出气管道,其中,进气管道的上端通过软管与真空吸笔或真空吸盘链接,下端通过导液管道深入储液筒内的中上部位置,且沿导液管道的长度方向上分布有若干通气孔,所述出气管道的上端通过软管与真空管道连通,下端与储液筒内的顶部连通。
所述密封盖的底部设置有环形的套管,套管的外壁与储液筒的内壁通过螺纹连接,在储液筒侧壁的顶部设置有环形密封槽,密封槽中设置有厚度超出密封槽深度的密封圈。
所述储液筒的内径和高度均为60-80mm。
有益效果:本实用新型中,通过在真空吸盘和真空管道之间加设由密封盖密封的储液筒,这样,真空吸笔或真空吸盘在吸取硅晶片时,硅晶片上的水和脏物会随着进气管道和导液管道被吸至储液筒内,而出气管道连接的系统真空管道内将不会再有水和脏物,即可实现气液分离的效果,避免了水和脏污进入到真空管道内进而堵塞真空管道,具有结构简单、清洗简便、成本低、稳定可靠等的优点。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
附图标记:1、储液筒,2、密封圈,3、密封盖,4、出气管道,5、进气管道,6、导液管道,7、套管,8、密封槽,9、通气孔。
具体实施方式
如图所示,一种吸取硅晶片的真空管路用气液分离器,包括一圆筒形的储液筒1,储液筒1的内径和高度在60至80mm为好,太大会降低真空度,从而降低真空吸笔或真空吸盘的吸力,太小需要频繁清洗储液筒1;储液筒1上部用密封盖3密封,储液筒1与密封盖3可以是由透明材质如有机玻璃等制成,密封盖3上设置有进气管道5和出气管道4,其中,进气管道5的上端通过软管与真空吸笔或真空吸盘链接,下端通过导液管道6深入储液筒1内的中上部位置,且沿导液管道6的长度方向上分布有若干通气孔9,通过这些不同高度上的通气孔9,使得导液管道6被水封堵后,仍然会产生吸力吸取硅晶片;所述出气管道4的上端通过软管与真空管道连通,下端与储液筒1内的顶部连通;这样,真空吸笔或真空吸盘在吸取硅晶片时,硅晶片上的水和脏物会随着进气管道5和导液管道6被吸至储液筒1内,而出气管道4连接的真空管道内将不会再有水和脏物,即可实现气液分离的效果。待储液筒1内的水和脏物达到一定量时,只需打开密封盖3,将储液筒1取下倒掉并清洗下,然后再装上密封盖3接着循环使用即可。
为了增强密封性,所述密封盖3的底部设置有环形的套管7,套管7的外壁与储液筒1的内壁通过螺纹连接,在储液筒1侧壁的顶部设置有环形密封槽8,密封槽8中设置有厚度超出密封槽8深度的密封圈2。
Claims (3)
1.一种吸取硅晶片的真空管路用气液分离器,其特征在于:包括一圆筒形的储液筒(1),储液筒(1)上部用密封盖(3)密封,密封盖(3)上设置有进气管道(5)和出气管道(4),其中,进气管道(5)的上端通过软管与真空吸笔或真空吸盘链接,下端通过导液管道(6)深入储液筒(1)内的中上部位置,且沿导液管道(6)的长度方向上分布有若干通气孔(9),所述出气管道(4)的上端通过软管与真空管道连通,下端与储液筒(1)内的顶部连通。
2.根据权利要求1所述的一种吸取硅晶片的真空管路用气液分离器,其特征在于:所述密封盖(3)的底部设置有环形的套管(7),套管(7)的外壁与储液筒(1)的内壁通过螺纹连接,在储液筒(1)侧壁的顶部设置有环形密封槽(8),密封槽(8)中设置有厚度超出密封槽(8)深度的密封圈(2)。
3.根据权利要求1所述的一种吸取硅晶片的真空管路用气液分离器,其特征在于:所述储液筒(1)的内径和高度均为60-80mm。
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CN111617546A (zh) * | 2020-04-29 | 2020-09-04 | 西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所) | 可自动排液的切削液过滤罐 |
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