CN204725941U - 一种可钢化的三银low-e玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种可钢化的三银LOW-E玻璃,包括:玻璃基片以及由下至上层叠设置于所述玻璃基片上表面的第一电介质膜层、第一阻挡层、第一银层、第二阻挡层、第二电介质膜层、第三阻挡层、第二银层、第四阻挡层、第三电介质膜层、第五阻挡层、第三银层、第六阻挡层以及第四电介质膜层;所述第一电介质膜层为Si3N4层,第二电介质膜层为ITO氧化铟锡层,第三电介质膜层为氧化铬膜层,第四电介质膜层为Si3N4层;所述第一~第六阻挡层为Cu-N层或Cu-O层。所述三银LOW-E玻璃,降低遮阳系数,降低膜层表面辐射率,增强玻璃的隔热和保温性能,提高玻璃耐候性。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种可钢化的三银LOW-E玻璃。
背景技术
低辐射玻璃也称Low-E玻璃,Low-E是英文Low-Emissivity的简称。在建筑应用中,Low-E玻璃的使用可以达到“冬暖夏凉”的效果,具有优异的隔热、保温性能效果。低辐射玻璃是镀膜玻璃家庭中的一员,它的广泛应用是从20世纪90年代欧美发达国家开始的。此玻璃可减低室内外温差而引起的热传递。
随着对建筑节能认识的提高,世界各国对建筑能耗出台了一系列政策,促使低辐射镀膜玻璃快速发展,LOW-E玻璃的应用越来越普及。在LOW-E玻璃发展近30年的历程中,从最初的单银LOW-E玻璃,发展成为双银LOW-E玻璃,近些年又开发出了三银LOW-E玻璃产品,三银LOW-E玻璃具有较高的可见光透射比,可保证室内足够的自然采光,有更低的太阳红外线透射比和更低的传热系数,是目前世界建筑领域公认的最节能、最符合人性需求的建筑玻璃。三银LOW-E玻璃钢化后与配片合成中空产品,在建筑上可以维持较合适的环境内表面温度,给室内人们的活动提供更舒适的生活环境。
在热学方面,三银LOW-E玻璃保持了较低的U值,夜晚通过限制对流传导传热阻止室内的远红外辐射泄出室外,且具有较高的遮阳系数和G值,使三银玻璃的节能效果大幅度提升,同比普通玻璃的节能水平提高80%。这一方面是现代建筑对能耗节约的需求驱动,更是人们节能、环保、低碳生活意识的提高所致。
近年来,在玻璃加工领域的开发工作中,有很大一部分集中在玻璃的钢化工艺上,随着玻璃被大批量地应用到建筑物等公共场合,安全法规要求这些玻璃都必须经过钢化,对玻璃进行钢化,可以显著地提高其强度,使其达到安全玻璃的要求。
综上所述,进一步研究调试出三银LOW-E玻璃钢化生产工艺并成功应用于产品生产,提高产品质量和生产效率,对提升企业的核心竞争力和企业在市场地位很有意义。
三银Low-E玻璃在钢化过程中与普通玻璃在传热有各自不同的特点,所以在钢化过程中对设备和操作也有不同要求,因LOW-E膜层的存在使得玻璃两面加热不对称,钢化过程难以控制。(吸热速度不同,LOW-E膜层面极大程度的将热量反射出去了)。可能产生钢化变形大、LOW-E钢化玻璃辊道印(白雾)、弯曲度超标(上翘或下坡)碎片不均匀、色差、边部膜层氧化等一系列问题。
实用新型内容
为解决上述存在的问题,本实用新型的目的在于提供一种可钢化的三银LOW-E玻璃,降低遮阳系数,降低膜层表面辐射率,增强玻璃的隔热和保温性能,提高玻璃耐候性。
为达到上述目的,本实用新型的技术方案是:
一种可钢化的三银LOW-E玻璃,包括:玻璃基片以及由下至上层叠设置于所述玻璃基片上表面的第一电介质膜层、第一阻挡层、第一银层、第二阻挡层、第二电介质膜层、第三阻挡层、第二银层、第四阻挡层、第三电介质膜层、第五阻挡层、第三银层、第六阻挡层以及第四电介质膜层;所述第一电介质膜层为Si3N4层,第二电介质膜层为ITO氧化铟锡层,第三电介质膜层为氧化铬膜层,第四电介质膜层为Si3N4层;所述第一~第六阻挡层为Cu-N层或Cu-O层。
进一步,所述第一~第三银层厚度分别为15~20nm。
另,所述第一电介质膜层厚度为10~15nm。
另有,所述第二电介质膜层厚度为30~40nm。
再,所述第一、第二阻挡层厚度分别为10~15nm。
再有,所述第一、第二阻挡层中,Cu-N层中N含量为1~5wt%。
且,所述第一、第二阻挡层中,Cu-O层中O含量为1~5wt%。
另,所述第四电介质膜层厚度为50~70nm。
本实用新型的有益效果在于:
将银层厚度提高到15~20nm,使遮阳系数与现有镀膜玻璃相比降低50%,保障均匀性;降低底层电介质膜层的厚度,提高第四电介质膜层的厚度,以保持玻璃整体颜色呈中性或蓝灰色调。通过银层厚度的提高,膜层表面辐射率将显著下降,玻璃的隔热和保温性能将更好。
底层电介质膜层,可改善低辐射镀膜玻璃的理化性能,同时又是形成膜层透射和反射颜色的主要组成部分。底层电介质膜层厚度为40~50nm,可提升银层的附着力,进而提升整个膜层的机械强度。
阻挡层通过在溅射中向Cu层中添加可控的微量的氮或氧,调节Cu层对光的吸收与折射,从而改变其光性能。
第四电介质膜层,直接影响膜层的牢度,提升对银层的保护能力,从而提升整个膜层的耐候性(即服役性)。
附图说明
图1为本实用新型实施例所提供的一种可钢化的三银LOW-E玻璃的结构示意图。
具体实施方式
参见图1,本实用新型所述的一种可钢化的三银LOW-E玻璃,包括:玻璃基片1以及由下至上层叠设置于所述玻璃基片1上表面的第一电介质膜层2、第一阻挡层3、第一银层4、第二阻挡层5、第二电介质膜层6、第三阻挡层7、第二银层8、第四阻挡层9、第三电介质膜层10、第五阻挡层11、第三银层12、第六阻挡层13以及第四电介质膜层14;所述第一电介质膜层2为Si3N4层,第二电介质膜层6为ITO氧化铟锡层,第三电介质膜层10为氧化铬膜层,第四电介质膜层14为Si3N4层;所述第一~第六阻挡层为Cu-N层或Cu-O层。
进一步,所述第一~第三银层厚度分别为15~20nm。
另,所述第一电介质膜层2厚度为10~15nm。
另有,所述第二电介质膜层6厚度为30~40nm。
再,所述第一、第二阻挡层厚3、5度分别为10~15nm。
再有,所述第一、第二阻挡层3、5中,Cu-N层中N含量为1~5wt%。
且,所述第一、第二阻挡层3、5中,Cu-O层中O含量为1~5wt%。
另,所述第四电介质膜层14厚度为50~70nm。
需要说明的是,以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制。尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对实用新型的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本实用新型技术方案的范围,其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围中。
Claims (8)
1.一种可钢化的三银LOW-E玻璃,其特征在于,包括:
玻璃基片以及由下至上层叠设置于所述玻璃基片上表面的第一电介质膜层、第一阻挡层、第一银层、第二阻挡层、第二电介质膜层、第三阻挡层、第二银层、第四阻挡层、第三电介质膜层、第五阻挡层、第三银层、第六阻挡层以及第四电介质膜层;
所述第一电介质膜层为Si3N4层,第二电介质膜层为ITO氧化铟锡层,第三电介质膜层为氧化铬膜层,第四电介质膜层为Si3N4层;
所述第一~第六阻挡层为Cu-N层或Cu-O层。
2.根据权利要求1所述的可钢化的三银LOW-E玻璃,其特征在于,所述第一~第三银层厚度分别为15~20nm。
3.根据权利要求1所述的可钢化的三银LOW-E玻璃,其特征在于,所述第一电介质膜层厚度为10~15nm。
4.根据权利要求1所述的可钢化的三银LOW-E玻璃,其特征在于,所述第二电介质膜层厚度为30~40nm。
5.根据权利要求1所述的可钢化的三银LOW-E玻璃,其特征在于,所述第一、第二阻挡层厚度分别为10~15nm。
6.根据权利要求1或5所述的可钢化的三银LOW-E玻璃,其特征在于,所述第一、第二阻挡层中,Cu-N层中N含量为1~5wt%。
7.根据权利要求1或5所述的可钢化的三银LOW-E玻璃,其特征在于,所述第一、第二阻挡层中,Cu-O层中O含量为1~5wt%。
8.根据权利要求1所述的可钢化的三银LOW-E玻璃,其特征在于,所述第四电介质膜层厚度为50~70nm。
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CN104973804A (zh) * | 2015-06-30 | 2015-10-14 | 太仓耀华玻璃有限公司 | 一种可钢化的三银low-e玻璃及其钢化处理工艺 |
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