CN204703989U - 后处理系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种后处理系统，该后处理系统可包括一个或多个穿孔管以及在穿孔管下游的一个或多个法兰。外壳可与一个或多个法兰一起界定一个或多个室，以延长排气和还原剂的混合物的滞留时间从而增加蒸发、提高氨-氮氧化物比例的均匀性指数、和/或流动分布指数。在一些实施方式中，第一法兰可包括穿过所述第一法兰形成的一个或多个开口，且在第一法兰下游的第二法兰可具有多个穿孔。排气和还原剂可通过穿孔管的穿孔流入第一室，通过穿过第一法兰的一个或多个开口流至第二室，通过第二法兰的多个穿孔流至催化面上游的第三室。

Description

后处理系统

技术领域

本申请总体涉及内燃机后处理系统领域。

背景技术

对于内燃机，例如柴油发动机，氮氧化物(NOx)的化合物可能在排气中排出。为了减少氮氧化物排放，可使用SCR方法借助催化剂和还原剂将NOx化合物转化成更中性的化合物，例如双原子氮、水或二氧化碳。催化剂可被包括在例如车辆或发电单元的排气系统的催化器中。还原剂，如无水氨，氨水，或尿素通常在进入催化器之前被引入排气中。为了将还原剂引入排气流用于SCR处理，SCR系统可通过定量给料模块定量供给或以其他方式引入还原剂，定量给料模块使还原剂蒸发，并将还原剂向在催化器上游的排气系统的排气管道中喷洒。SCR系统可包括用于监测排气系统内的状况的一个或更多个传感器。

实用新型内容

本文中所描述的实施方式涉及后处理系统。在一种实施方式中，后处理系统包括外壳。该后处理系统还包括位于所述外壳上游并与所述外壳流体连通的上游还原剂源。该后处理系统还包括用于对排气和来自所述上游还原剂源的还原剂进行混合的入口组件。所述入口组件包括位于所述外壳内且位于所述上游还原剂源下游的管，所述管具有封闭的下游端。所述入口组件还可包括位于所述外壳内且位于所述管的下游的第一法兰。所述第一法兰可包括穿过所述第一法兰形成的一个或多个开口。所述第一法兰、所述外壳和上游端壁界定在所述外壳内的第一室。所述第一室经由穿过所述管的侧壁形成的开口与所述管的内部容积流体连通。所述入口组件还包括位于所述外壳内且位于所述第一法兰下游的第二法兰。所述第二法兰包括穿过所述第二法兰形成的多个开口。所述第二法兰、所述第一法兰和所述外壳界定在所述外壳内的第二室。所述第二室经由穿过所述第一法兰形成的一个或多个开口与所述第一室流体连通。催化器位于所述第二法兰的下游且经由穿过所述第二法兰形成的所述多个开口与所述第二室流体连通。

附图说明

附图和以下说明中描述了一个或多个实现方式的细节。通过说明书、附图和权利要求，本公开的其他特征、方面和优点将变得明显，其中：

图1是用于排气系统的具有示例性的还原剂输送系统的示例性的选择性催化还原系统的方框示意图；

图2是具有第一法兰和第二法兰的示例性后处理系统配置的立体图，其中第一法兰和第二法兰都具有多个开口；

图3是图2中的后处理系统的侧剖视图；

图4是具有多个开口的第一法兰的正视图；

图5是具有多个开口的第二法兰的正视图；

图6是具有第一法兰和第二法兰的另一示例性后处理系统配置的立体图，其中第一法兰和第二法兰都具有多个开口；

图7是具有两个穿孔管和法兰组件的又一示例性后处理系统的侧视图；

图8是图7的后处理系统的立体图；

图9是具有多个法兰的另一个示例性后处理系统的立体图，该法兰具有多个开口且为矩形结构；

图10是图9中的后处理系统的法兰的正视图，其示出了多个开口；

图11是又一个示例性后处理系统的立体图，该示例性后处理系统具有扩大的入口段和带有多个开口的单个法兰；

图12是又一个示例性后处理系统的立体图，该示例性后处理系统具有扩大的入口段、带有多个开口的单个法兰和置于扩大的入口段的混合器。

图13是具有单个法兰和置于入口段中的混合器的示例性后处理系统的立体图，该法兰具有多个开口；和

图14是具有法兰和穿孔管的另一个示例性后处理系统的立体图，该穿孔管具有星形式样端，法兰带有多个开口。

应当认识到，部分或全部的附图是出于说明目的的示意性表示。提供这些附图是为了示出一个或多个实施方式，应明确理解这些附图并不是用于限制权利要求的范围和含义。

具体实施方式

下文是与后处理系统配置相关的各种概念、以及后处理系统配置的方法、装置和系统的实施方式的更加详细的描述，该后处理系统用于提升蒸发的滞留时间、还原剂和排气混合物的均匀性指数，并改善还原剂的蒸发。上文介绍并在下文将更加详细讨论的各种概念可通过多种方式来实现，所描述的概念不局限于某些特定的实施方式。提供具体实施方式和应用的示例主要是为了说明性的目的。

I.概述

对于具有后处理系统的排气系统(例如用于车辆、发电系统等的排气系统)，设计满足多个目标(例如低限制或背压、降噪或消声、以及诸如蒸发的尿素液滴的排气和还原剂混合物的均匀分布)的系统是有挑战性的环节。此外，在一些情况下，部件的减少可以节约成本。此外，由于法规可能基于地理位置而变化，所述后处理系统的配置可以被修改，以满足各种标准，同时使以下方面中的一个或多个最大化：零件减少数量、降低限制或背压、噪声的降低或消声和/或排气和还原剂混合物的均匀分布。

II.后处理系统概述

图1描绘了用于排气系统190的具有示例性还原剂输送系统110的后处理系统100。后处理系统100包括颗粒过滤器(该实施例中为柴油机微粒过滤器(DPF))102、还原剂输送系统110、分解室或反应器104、SCR催化器106以及传感器150。

DPF102被配置成从在排气系统190中流动的排气中去除颗粒物质，例如烟灰。DPF102包括接收排气的入口，和排气排出的出口，排气中的颗粒物质基本上被过滤掉和/或该颗粒物质被转化成二氧化碳之后，排气从该出口排出。

分解室104被配置成将还原剂，诸如尿素、氨水或柴油机排气流体(DEF)转化成氨。分解室104包括具有定量给料模块112的还原剂输送系统110，定量给料模块112被配置成向分解室104中定量输送还原剂。在一些实施方式中，还原剂在SCR催化器106的上游侧喷射。还原剂液滴然后经历蒸发、热解和水解的过程以在排气系统190中形成气态氨。分解室104包括入口和出口，该入口与DPF102流体连通以接收包含氮氧化物排放物的排气，该出口用于排气、氮氧化物排放物、氨和/或剩余的还原剂流至SCR催化器106。

分解室104包括安装到分解室104的定量给料模块112，使得该定量给料模块112可将还原剂定量输送至在排气系统190中流动的排气之中。该定量给料模块112可包括介于定量给料模块112部分和安装有该定量给料模块112的分解室104部分之间的隔离件114。定量给料模块112流体连接到一个或多个还原剂源116。在一些实施方式中，泵118可被用于加压来自还原剂源116的还原剂，用于输送至定量给料模块112。

定量给料模块112和泵118也被电连接或通信连接到控制器120。控制器120被配置成用于控制定量给料模块112向分解室104中定量输送还原剂。控制器120还可以被配置成用于控制泵118。控制器120可包括微处理器、专用集成电路(ASIC)、现场可编程门阵列(FPGA)等，或者其组合。控制器120可以包括存储器，存储器可包括但不限于电子、光学、磁或任何其他能够向处理器、ASIC、FPGA等提供程序指令的存储或传输设备。该存储器可以包括存储器芯片、电可擦除可编程只读存储器(EEPROM)、可擦除可编程只读存储器(EPROM)、闪速存储器，或控制器120可从其读取指令的任何其它合适的存储器。该指令可包括来自任何合适编程语言的代码。

该SCR催化器106被配置成通过加速氨与排气中的氮氧化物之间的生成双原子氮、水和/或二氧化碳的氮氧化物还原过程以辅助氮氧化物排放的减少。SCR催化器106包括与分解室104流体连通的入口以及与排气系统190的端部流体连通的出口，排气和还原剂通过该入口被接收。

排气系统190还可以包括与排气系统190流体连通的柴油氧化催化器(DOC)(例如在SCR催化器106的下游或在DPF102的上游)，以氧化排气中的烃和一氧化碳。

在一些实施方式中，DPF102可被定位在分解室或反应管104的下游。例如，DPF102和SCR催化器106可被组合成单一的单元，例如SDPF。在一些实施方式中，定量给料模块112可替代地被定位于涡轮增压器的下游，或者在涡轮增压器的上游。

该传感器150可被连接到排气系统190，以检测流经排气系统190的排气的状况。传感器150可以是NO_x传感器，NH₃传感器，温度传感器，压力传感器，微粒物质传感器等。在一些实施方式中，传感器150的一部分可设置在排气系统190中，例如传感器150的前端可延伸进入排气系统190的部分中。在其他实施方式中，传感器150可通过另一导管接收排气，例如从排气系统190延伸的样品管。尽管传感器150被描述为定位在SCR催化器106的下游，但是应该理解的是，传感器150可定位在排气系统190中的任何其他位置，包括在DPF102的上游，在DPF102内，在DPF102与分解室104之间，在分解室104内，在分解室104与SCR催化器106之间，在SCR催化器106内，或在SCR催化器106下游。此外，两个或更多传感器150可被用于检测排气的状况，例如二、三、四、五，或六个传感器150，每一个传感器150被定位在排气系统190的上述位置之一。

III.示例性后处理系统配置

参考图2-5，示例性后处理系统200包括上游还原剂源210、入口组件220、催化剂260和出口组件280。

上游还原剂源210可以是还原剂喷射器，例如中心线还原剂喷射器或周向安装喷射器，该喷射器将诸如尿素的还原剂引入后处理系统200。该还原剂喷射器可以是空气辅助的或无气的。上游还原剂源210可定位于管212中，管212在入口组件220上游并与入口组件220流体连通。

入口组件220被定位在第一室238，并包括一个穿孔管230、第一法兰240和第二法兰250。第一室238由外壳222、上游端壁224和第一法兰240界定。第二室248由外壳222、第一法兰240和第二法兰250界定。第三室258由外壳222、第二法兰250和催化器260的上游面262界定。

来自管212的排气和喷入的还原剂流入穿孔管230的入口232，入口232也是外壳222的入口。穿孔管230可以是具有多个开口的圆柱形管，例如穿过穿孔管230的侧壁形成的圆形、矩形、卵形等形状的开口，从而允许排气和喷入的还原剂从穿孔管230径向向外流入至第一室。穿孔管230包括诸如板端盖的封闭端或壁端，使得排气和喷入的还原剂必须流经多个穿孔。排气在穿孔管230和第一室238内混合。也应认识到，尽管本文中讨论的是穿孔管，也可使用具有不是通过物理穿孔工艺形成的开口的管。

经过第一室238，排气和喷入的还原剂继续混合并流经穿过第一法兰240形成的一个或多个开口242。所述一个或多个开口242可包括单个开口或多个开口，例如图2和图4所示的四个圆形开口242。如图4所示，四个开口242中的一对相邻开口可以大约60度的角度间隔开，而四个开口242中的每对相邻开口以大约120度的角度间隔开。所述一个或多个开口242的数量和构造可以被修改以延长排气和喷入的还原剂在第一室238之内的滞留时间，从而增加排气和喷入还原剂的均匀性指数。混合物的驻留时间增加导致喷入的尿素与排气的更好的蒸发。

随着排气和喷入的还原剂流经一个或多个开口242，排气和喷入的还原剂进入第二室248，在第二室248中，在第一法兰240和第二法兰250之间，排气和喷入的还原剂进一步混合。第二法兰250包括多个开口，例如穿过第二法兰250形成的穿孔、网眼等，以允许排气和喷入的还原剂流入第三室258。第二法兰250中的多个开口允许混合的排气和喷入的还原剂在后处理系统200的整个横截面更均匀地分布，使得当混合的排气和喷入还原剂抵达催化器260的上游面262或表面时更均匀地分布。在一些实施方式中，特别地，省略了混合器这样的回旋构件或其他内流装置，以减少构件的数目和所产生的背压，同时仍然获得高均匀性指数的氨-氮氧化物比例、高的蒸发百分率，且在维持低压降的同时获得高流动分布指数。

在特定实施方式中，当排气和喷入还原剂的混合物抵达催化器260的上游面262，入口组件220可导致约99.62％的蒸发比例、大约0.93的氨-氮氧化物比例的均匀性指数、约0.98的流动分布指数以及约10.07千帕的压降。

该催化器260加速还原剂和废气中的氮氧化物之间的生成双原子氮、水和/或二氧化碳的氮氧化物还原过程。催化器260的下游面264允许排气流向出口组件280。出口组件280可以是用于降低排气系统的发动机的可听噪声的消声组件。在本实施例中，出口组件280包括上游法兰282，该上游法兰282具有穿孔和用于第一管组件286的开口284。第一个管组件286可包括穿过所述第一管组件286的侧壁的多个穿孔，且可延伸通过下游法兰290的一个或多个开口292中的开口。第二管组件288可在上游端由上游法兰282密封并通过下游法兰290的所述一个或多个开口292中的开口延伸至出口298，并通过外壳22延伸到排气出口。第二管组件286也可具有穿过第二管组件288的侧壁的多个穿孔。下游法兰290可包括所述一个或多个开口292中的其他开口，以允许排气在由上游法兰282、下游法兰290和下游端壁226形成的室之间流动。

图6示出了具有第一法兰340和第二法兰350的另一示例性后处理系统300，该第一法兰具有多个开口342，该第二法兰具有多个开口，例如穿孔、网眼等。该后处理系统可与后处理系统200的构造大致相同，除了第一法兰340的多个开口342具有肾形并围绕第一法兰340等角度地间隔开。等角间距使多个开口342具有对称性。因此，在较高的排气流量和喷射速率下，对称的多个开口342以及穿孔的第二法兰350使得排气和喷入的还原剂在催化器的上游面均匀分布，同时获得较高的氨-氮氧化物的均匀性指数，从而获得较高的转换效率。

当排气和喷入的还原剂混合物抵达催化器360的上游面362时，具有多个肾形开口342的入口组件可能会导致大约0.94的氨-氮氧化物比例的均匀性指数，以及大约0.96的流动分布指数。

图7-8描绘了又一示例性后处理系统400，该后处理系统400具有上游还原剂源410、第一穿孔管和法兰组件420，以及催化器460上游的第二穿孔管和法兰组件440。在一些实施方式中，出口组件(例如图2-5中的出口组件280)也可被省略，因为第一和第二穿孔管以及法兰组件420、440可充当消声器。

第一穿孔管和法兰组件420包括入口422、上游端壁424、穿孔管426以及具有多个开口430的下游法兰428。本实施例中的穿孔管426延伸通过下游法兰428的中心开口，并在下游法兰428下游的穿孔管426的侧壁上至少包括一些穿孔。在某些情况下，穿孔管426可具有穿孔的下游盖。在其它实例中，穿孔管426可具有密封端盖。下游法兰428的多个开口430可包括六个等角度间隔的开口，这些开口围绕穿孔管426延伸通过的开口。

第二穿孔管和法兰组件440包括穿过壁上游法兰444形成的入口442、穿孔管446以及具有多个开口450的下游法兰448。本实施例中的穿孔管446延伸通过下游法兰448的中心开口，并在下游法兰448下游的穿孔管446的侧壁上至少包括一些穿孔。在某些情况下，穿孔管446可具有穿孔的下游盖。在其它实例中，穿孔管446可具有密封端盖。下游法兰448的多个开口450可包括六个等角度间隔的开口，这些围绕穿孔管446延伸通过的开口。在一些实例中，第二穿孔管和法兰组件440的下游法兰448的多个开口450可相对于第一穿孔管和法兰组件420的下游法兰428的多个开口430顺时针成一角度，从而各开口430、450不对准。

第一穿孔管和法兰组件420以及第二穿孔管组件440与外壳(图未示)一起，形成几个排气和喷入的还原剂流经并混合的室，因而延长滞留时间并改善流动分布。在一些实施方式中，第一穿孔管和法兰组件420以及第二穿孔管和法兰组件440可间隔开以形成过渡室。

当排气和喷入的还原剂的混合物抵达催化器460的上游面时，其中穿孔管426具有穿孔下游盖的后处理系统的实施方式可导致大约79.05％的蒸发百分率和大约0.86的氨-氮氧化物比例的均匀性指数。

当排气和喷入的还原剂的混合物抵达催化器450的上游面时，其中穿孔管426具有封闭下游盖的后处理系统的实施方式可导致大约99.75％的蒸发百分率和大约0.97的氨-氮氧化物比例的均匀性指数。

图9-10描绘了具有法兰510、520的另一示例性后处理系统500，该法兰510、520具有多个开口512、522并呈矩形构造。法兰510、520、第一端壁530以及第二端壁540，与外壳(未示出)一起，可限定三个室504、506和508。后处理系统500包括用于从上游构件(诸如具有还原剂喷射器的上游管)接收排气和喷入的还原剂的入口502。在一些情况下，入口502的部分可包括穿孔，以允许排气和喷入的还原剂的混合物进入第一室504。入口的一部分可流体连接至第一法兰510的开口512，以将排气和喷入的还原剂的混合物通过第一法兰510传输至连接第一法兰510和第二法兰520的管状构件。在一些实施方式中，该管状构件可以包括穿孔，以允许排气和喷入的还原剂的混合物进入第二室506。排气和喷入的还原剂的混合物还可通过穿过第二法兰520的开口522流出，进入第三室508。分别穿过第一和第二法兰510、520的多个开口512、522可形成成允许排气和喷入的还原剂的混合物在第一室504、第二室506和第三室508之间流动。在一些实施方式中，管状构件可连接法兰510、520的开口512、522。这些管状构件可包括侧壁上的穿孔以允许排气和喷入的还原剂的混合物进入第二室506。出口542收集混合的排气和喷入的还原剂且可与下游催化器流体连通。

在一些实施方式中，后处理系统500可以是箱式系统和/或端入口、端出口(EIEO)系统。在一些实施方式中，第一法兰510可包括穿过第一法兰510形成的多个小开口514，以允许第一室504中的排气和喷入的还原剂的混合物流入第二室506，或者第二室506中的排气和喷入的还原剂的混合物流入第一室504。在一些实施方式中，可包括穿过第一法兰510的穿孔516。在一些情况下，第二法兰可具有小开口和/或穿孔。

图11描绘了又一示例性的后处理系统600，该后处理系统600具有扩大的入口段610、具有多个开口632的第一法兰630以及穿孔的第二法兰640。

该后处理系统600可包括上游还原剂源602，该上游还原剂源602可以是将诸如尿素的还原剂引入后处理系统600的还原剂喷射器，例如中心线还原剂喷射器或周向安装喷射器。该还原剂喷射器可以是空气辅助的或无气的。上游还原剂源602可定位于管604中，管604在该扩大的入口段610的上游且与入口段610流体连通。

扩大的入口段610直径可从管604增大，以通过混合的膨胀进一步混合排气和喷入的还原剂。扩大的入口段610与所述穿孔管620流体连通。

穿孔管620的一部分被定位在第一室628和第二室638内。第一室628由外壳606、上游端壁608和法兰630界定。第二室638由外壳606、法兰630和穿孔的第二法兰640界定。第三室648由外壳606、穿孔的第二法兰640和催化器650的上游面652界定。

排气和喷射还原剂从扩大的入口段610流入穿孔管620的入口，它也是在外壳606的入口。穿孔管620可以是具有多个穿孔的圆筒形管，穿孔诸如为圆形，矩形，卵形开口，这些开口形成为穿过多孔管620的侧壁，以允许排气和喷入的还原剂从穿孔管620径向向外流动进入第一室628。穿孔管620可包括一个封闭端或壁端，例如板端帽，使得排气和喷入的还原剂必须流经所述多个穿孔。在一些实施方式中，穿孔管620可包括穿孔端帽或开口端。排气在穿孔管620和第一室628内混合。

经过第一室628，排气和喷入的还原剂继续混合并流过穿过第一法兰630形成的一个或多个开口632。所述一个或多个开口632可包括单个开口或多个开口，例如图11所示的八个等角度间隔的开口。所述一个或多个开口632的数量和配置可以被修改以延长排气和喷入的还原剂在第一室628之内的滞留时间，从而增加排气和喷入的还原剂的均匀性指数。混合物的驻留时间增加导致喷入的尿素与排气的更好的蒸发。

随着排气和喷入的还原剂流过一个或多个开口632，排气和喷入的还原剂进入第二室638，在第二室638中，在第一法兰630和穿孔的第二法兰640之间，排气和喷入的还原剂进一步混合。穿孔的第二法兰640包括穿过第二法兰640形成的多个穿孔，以允许排气和喷入的还原剂流入第三室648。第二法兰640的多个穿孔允许混合的排气和喷入的还原剂在后处理系统600的整个横截面更均匀地分布，使得当混合的排气和喷入还原剂抵达催化器650的上游面652或表面时更均匀地分布。在一些实施方式中，省略了混合器这样的回旋构件或其他内流装置，以减少构件的数目和所产生的背压，同时仍然获得高均匀性指数的氨-氮氧化物比例、高的蒸发百分率，且在维持低压降的同时获得高流动分布指数。

当排气和喷入的还原剂抵达催化器650的上游652时，该后处理系统600可导致约69.97％的蒸发百分率、大约0.88的氨-氮氧化物比例的均匀性指数、约0.94的流动分布指数以及约12.48千帕的压降。

图12是另一示例性后处理系统700的立体图，该后处理系统700具有扩大的入口段710、穿孔管720、具有多个开口732的第一法兰730以及穿孔的第二法兰740。该后处理系统可与后处理系统600的配置大致相同，除了后处理系统700包括位于扩大的入口段710的一部分内的混合器750，诸如旋流构件或其他内流装置。

当排气和喷入的还原剂抵达催化器760的上游面762时，后处理系统700可导致大约89.67％的蒸发百分率和大约0.94的氨-氮氧化物比例的均匀性指数。

图13是示例性后处理系统800的立体图，所述后处理系统800具有穿孔管810、具有多个开口822的第一法兰820、穿孔的第二法兰830和混合器840。后处理系统800可与后处理系统700的配置大致相同，除了后处理系统省略了扩大的入口段710。

当排气和喷入的还原剂抵达催化器850的上游面852时，后处理系统800可导致大约95％的蒸发百分率和大约0.96的氨-氮氧化物比例的均匀性指数。

图14是另一示例性后处理系统900的立体图，该后处理系统900包括具有星形式样端920的穿孔管910、具有多个开口932的第一法兰930以及穿孔的第二法兰940。后处理系统900可与后处理系统800具有大致相同的配置，除了后处理系统900省略了混合器840，并用星形式样端920取代了穿孔管820的延伸通过第一法兰820的部分。

当排气和喷入的还原剂的混合物抵达催化器950的上游面952时，后处理系统900可导致大约98.43％的蒸发百分率和大约0.88的氨-氮氧化物比例的均匀性指数、大约0.97的流动分布指数和大约11.36千帕的压降。

应理解，对于本文描述的后处理系统的任何实施例，例如后处理系统200、300、400、500、600、700、800和900，蒸发百分率、氨-氮氧化物比例的均匀性指数和/或流动分布指数的增加可允许下游催化器的容积减小。也就是说，由于抵达催化器上游的排气和喷入的还原剂的混合的改善，催化器的长度可以减少，因为排气和还原剂可与每单位长度的催化器的更多的暴露表面积反应。在一些情况下，基于上述蒸发百分率、氨-氮氧化物比例的均匀性指数和/或流动分布指数的改善，催化器的容积可减少20-30％。

尽管本说明书包含许多具体的实施细节，但这些不应被解释为对要求保护范围的限制，而应理解为对应于某些具体实施方式的特定特征的描述。本说明书的上下文中独立的实施方式中描述的某些特征也可被组合地实施或单一地实施。相反地，上下文中单一实施方式所描述的各种特征也可在多个实施方式单独地实现或以任何合适的子组合来实现。此外，尽管某些特征在上文中被描述成以特定组合作用甚至初始时要求如此保护,所要求保护的组合中的一个或多个特征在某些情况下可从该组合中去除，且所要求保护的组合可涉及某个子组合或子组合的变型。

术语“控制器”包括用于处理数据的各种装置、设备和机器，例如包括可编程处理器、计算机、芯片系统、或多种元件、编程处理器的一部分，或前述的组合。该装置可包括专用逻辑电路，例如FPGA或ASIC。除了硬件，该装置还可包括生成用于所涉及计算机程序的执行环境的代码，例如构成处理器固件、协议栈、数据库管理系统、操作系统、跨平台运行环境、虚拟机或其中一个或多个组合的代码。该装置和执行环境可实现各种不同的计算模型基础结构，诸如分布式计算和网格计算基础结构。

如本文所用，术语“大致”等类似术语意在具有与本公开的主题所属的领域的普通技术人员通用和接受的用法一致的宽泛含义。阅读本公开的本领域技术人员应理解这些术语旨在允许某些特征被描述和保护，而并不将这些特征限制到所提供的精确数值范围。因此，这些术语应该被理解成指示性的，对所描述和要求保护的主题的非实质性或无关紧要的修改或变动被认为在本实用新型所附的权利要求范围之内。此外，应当注意，在不使用“装置”的情形中，权利要求中的限定不应被解释为在美国专利法下构成“装置加功能”的限制。

本文中使用的术语“连接”、“联接”等表示两个构件直接或间接地相互接合。这种接合可以是固定的(例如永久性的)或活动的(例如，可移动的或可释放的)。这种接合可通过两个构件或通过两个构件及其他附加的中间构件来实现，附加的中间构件相互之间一体化地形成为单一的整体或与这两个构件形成为整体，或者这两个构件和任意附加的中间构件相互附接。

本文所用的“流体连接”、“流体连通”等表示的是借助或者无需中间构件或物体，两个构件或物体具有形成于这两个构件或物体之间的路径，流体(例如水、空气、气态还原剂、气态氨等)可在该路径中流动。流体连接的示例或者用于实现流体连通的配置可包括管道、通道或任何其他合适的用于实现流体从一构件或物体向另一构件或物体流动的构件。要注意的是，各种示例性实施方式示出的系统的构造和布置是说明性而非限制性的。在所描述实施方式的精神和/或范围之内的所有变化和改动是期望被保护的。应理解，某些特征可能不是必要的，且缺乏某些特征的实施方式可被考虑在随后所附的权利要求界定的本申请的范围之内。权利要求中的诸如“一”、“一个”、“至少一个”或“至少部分”等词并不旨在将权利要求限制成仅仅是一个，除非权利要求中作了相反的特别说明。当使用“至少一部分”和/或“部分”等词时，该术语可包括部分和/或整体，除非作了相反的特别说明。

Claims (14)

1.一种后处理系统，包括：

外壳；

上游还原剂源，所述上游还原剂源位于所述外壳的上游，并且与所述外壳流体连通；

入口组件，所述入口组件用于对排气和来自所述上游还原剂源的还原剂进行混合，所述入口组件包括：

管，所述管位于所述外壳内且位于所述上游还原剂源的下游，所述管具有封闭的下游端；

第一法兰，所述第一法兰位于所述外壳内且位于所述管的下游，所述第一法兰包括穿过所述第一法兰形成的一个或多个开口，所述第一法兰、所述外壳和上游端壁界定所述外壳内的第一室，其中所述第一室经由穿过穿孔管的侧壁形成的管开口与所述管的内部容积流体连通；

第二法兰，所述第二法兰位于所述外壳内且位于所述第一法兰的下游，所述第二法兰包括穿过所述第二法兰形成的多个开口，所述第二法兰、所述第一法兰和所述外壳界定了所述外壳内的第二室，其中所述第二室经由穿过所述第一法兰形成的所述一个或多个开口于所述第一室流体连通；和

催化器，所述催化器位于所述第二法兰的下游且经由穿过所述第二法兰形成的所述多个开口与所述第二室流体连通。

2.根据权利要求1所述的后处理系统，其特征在于，所述一个或多个开口包括穿过所述第一法兰形成的两个或更多个圆形开口。

3.根据权利要求2所述的后处理系统，其特征在于，所述两个或更多个圆形开口中的至少两个以至少45度的角度角间隔开。

4.根据权利要求2所述的后处理系统，其特征在于，所述两个或更多个圆形开口中的至少两个以至少60度的角度角间隔开。

5.根据权利要求2所述的后处理系统，其特征在于，所述两个或更多个圆形开口中的至少两个以至少120度的角度相互角间隔开。

6.根据权利要求1所述的后处理系统，其特征在于，所述一个或多个开口包括穿过所述第一法兰形成的四个圆形开口。

7.根据权利要求6所述的后处理系统，其特征在于，第一组的两个圆形开口相邻并以60度的角度角间隔开，第二组的两个圆形开口相邻并以60度的角度角间隔开，且所述第一组中的开口和所述第二组中的开口以120度的角度角间隔开。

8.根据权利要求1所述的后处理系统，其特征在于，所述一个或多个开口包括穿过所述第一法兰形成的肾形开口。

9.根据权利要求8所述的后处理系统，其特征在于，穿过所述第一法兰形成的一个或多个肾形开口相互之间大致等角度地间隔开。

10.根据权利要求9所述的后处理系统，其特征在于，所述一个或多个肾形开口包括三个等角度间隔开的肾形开口。

11.根据权利要求1所述的后处理系统，其特征在于，所述第一法兰的一部分形成所述管的封闭下游端。

12.根据权利要求1所述的后处理系统，其特征在于，所述多个开口包括穿孔。

13.根据权利要求1所述的后处理系统，其特征在于，所述多个开口包括网眼。

14.根据权利要求1所述的后处理系统，其特征在于，所述管开口包括穿孔。