CN204607662U - 一种小型一体化絮凝沉淀设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种小型一体化絮凝沉淀设备，该设备包括沉淀池、絮凝池、斜流沉淀池、加药桶、变频加压供水设备和可编程控制箱，沉淀池、絮凝池和斜流沉淀池下方均设有V型泥斗，絮凝池和斜流沉淀池的V型泥斗内设有小孔排泥管，小孔排泥管出口端设有射流排泥阀，射流排泥阀一端连接电动阀，射流排泥阀一侧通过管道与变频加压供水设备连接，且管道上设有电磁阀。本实用新型提供了一种高度集成、可室外安置、设备占地面积小、降低生产和维护成本，并且处理后的水质稳定，受原水变化波动小，各功能装置通过可编程控制器的智能控制自动运行，无需人工判断和操作，同时延长使用寿命的小型一体化絮凝沉淀设备。

Description

一种小型一体化絮凝沉淀设备

技术领域

本实用新型属于污水处理设备领域，尤其涉及一种小型一体化絮凝沉淀设备。

背景技术

农村及自然地形单位的传统生活用水的絮凝及沉淀水处理设备及工艺，一般采用钢制沉淀缸、絮凝剂混合缸及沉淀缸组成。各结构组成独立而复杂，占地面积大，设备种类繁多而分散，各设备连接复杂，控制分散，操作和维护维修量大，可靠性差。处理后的水质不稳定，受原水波动影响较大。

实用新型内容

本发明的目的是针对现有技术中存在上述缺陷，提供了一种高度集成、可室外安置、设备占地面积小、降低生产和维护成本，并且处理后的水质稳定，受原水变化波动小，各功能装置通过可编程控制器的智能控制自动运行，无需人工判断和操作，同时延长使用寿命的小型一体化絮凝沉淀设备。

为解决上述问题，本发明提供了一种小型一体化絮凝沉淀设备，该设备包括沉淀池、絮凝池、斜流沉淀池、加药桶、变频加压供水设备和可编程控制箱，其特征在于，所述沉淀池、絮凝池和斜流沉淀池下方均设有V型泥斗，所述絮凝池和斜流沉淀池的V型泥斗内设有小孔排泥管，所述小孔排泥管出口端设有射流排泥阀，所述射流排泥阀一端连接电动阀，所述射流排泥阀一侧通过管道与变频加压供水设备连接，且管道上设有电磁阀；

所述絮凝池内一侧壁上设有射流孔，所述射流孔通过管道连接射流器，所述射流器另一端通过管道与变频加压供水设备连接，所述连接絮凝池的射流器一侧通过管道与加药桶连接。

作为上述技术方案的优选，所述沉淀池内设有进水管、管式均流器、导流槽，所述进水管与管式均流器连通，所述管式均流器开口向下，所述V型泥斗底部设有海底阀，所述导流槽设在沉淀池顶部。

作为上述技术方案的优选，所述絮凝池内设有均流器、一级絮凝反应池、二级絮凝反应 池、三级絮凝反应池和四级絮凝反应池，所述均流器与沉淀池内导流槽相连通，所述一、二、三、四级絮凝反应池内均设有折板，所述一级絮凝反应池和二级絮凝反应池之间上部设有通水口，所述二级絮凝反应池和三级絮凝反应池之间下部设有通水口，所述三级絮凝反应池和四级絮凝反应池之间上部设有通水口。

作为上述技术方案的优选，所述斜流沉淀池内设有布水管、斜流管层、导流槽和出水口，所述布水管与絮凝池内四级絮凝池反应池相连通，所述斜流管层在布水管上方，所述导流槽在斜流管层上方，所述导流槽与出水口相连通。

从上述技术方案可以看出，本实用新型提供的小型一体化絮凝沉淀设备，该设备内部分隔成沉淀池、絮凝池、斜流沉淀池，各结构组成互联互通，控制集中，设备为一整体，可室外安置，不需要建设设备房。设备占地面积小，辅助设备无重复，设备各组成单元无需另外安装连接，后期维护维修量小，可靠性高。经济上只有设备投资，综合投资小，后期维护维修及人工成本很低。处理后的水质稳定，受原水波动影响较小。同时絮凝池、斜流沉淀池、所需的加药、排泥辅助设备均采用射流器及射流排泥阀，动力来自变频加压供水设备，无需加药泵及排泥泵，使设备效率得以提高，辅助装置得以减少，占地面积缩小，设备寿命很大地延长。同时节省了专人操作和维护维修的费用。所有射流器及射流排泥阀均采用电磁阀及电动阀，由可编程控制箱自动控制。

附图说明

结合附图，并通过参考下面的详细描述，将会更容易地对本发明有更完整的理解并且更容易地理解其伴随的优点和特征，其中：

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型中射流器的结构示意图；

[图中附图标记]：

1-沉淀池，2-絮凝池，3-斜流沉淀池，4-V型泥斗，5-小孔排泥管，6-射流排泥阀，7-电动阀，8-电磁阀，9-射流孔，10-进水管，11-管式均流器，12-导流槽，13-海底阀，14-均流器，15-一级絮凝反应池，16-二级絮凝反应池，17-三级絮凝反应池，18-四级絮凝反应池，19-折板，20-布水管，21-斜流管层，22-导流槽，23-出水口，24-射流器。

具体实施方式

为使本实用新型的内容更加清楚易懂，以下结合说明书附图，对本实用新型的内容作进 一步说明。当然本实用新型并不局限于该具体实施例，本领域内的技术人员所熟知的一般替换也涵盖在本实用新型的保护范围内。其次，本实用新型利用示意图进行了详细的表述，在详述本实用新型实例时，为了便于说明，示意图不依照一般比例局部放大，不应以此作为对本实用新型的限定。

需要说明的是，在下述的实施例中，利用图1～图2的结构示意图对按本实用新型一种小型一体化絮凝沉淀设备进行了详细的表述。在详述本实用新型的实施方式时，为了便于说明，各示意图不依照一般比例绘制并进行了局部放大及省略处理，因此，应避免以此作为对本实用新型的限定。

如图1～2所示，本实用新型提供了一种小型一体化絮凝沉淀设备，该设备包括沉淀池1、絮凝池2、斜流沉淀池3、加药桶、变频加压供水设备和可编程控制箱，沉淀池1、絮凝池2和斜流沉淀池3下方均设有V型泥斗4，絮凝池2和斜流沉淀池3的V型泥斗4内设有小孔排泥管5，小孔排泥管5出口端设有射流排泥阀6，射流排泥阀6一端连接电动阀7，射流排泥阀6一侧通过管道与变频加压供水设备连接，且管道上设有电磁阀8；絮凝池2内一侧壁上设有射流孔9，射流孔9通过管道连接射流器24，射流器24另一端通过管道与变频加压供水设备连接，连接絮凝池2的射流器24一侧通过管道与加药桶连接。

具体的，本实施例中，沉淀池1内设有进水管10、管式均流器11、导流槽12，进水管10与管式均流器11连通，管式均流器11开口向下，V型泥斗4底部设有海底阀13，导流槽12设在沉淀池顶部。

同时，絮凝池2内设有均流器14、一级絮凝反应池15、二级絮凝反应池16、三级絮凝反应池17和四级絮凝反应池18，均流器14与沉淀池1内导流槽12相连通，一、二、三、四级絮凝反应池15、16、17、18内均设有折板19，一级絮凝反应池15和二级絮凝反应池16之间上部设有通水口，二级絮凝反应池16和三级絮凝反应池17之间下部设有通水口，三级絮凝反应池17和四级絮凝反应池18之间上部设有通水口。

此外，斜流沉淀池3内设有布水管20、斜流管层21、导流槽22和出水口23，布水管20与絮凝池2内四级絮凝池18反应池相连通，斜流管层21在布水管20上方，导流槽22在斜流管层21上方，导流槽22与出水口23相连通。

原水由进水管10进入中心管式均流器流11向下部喇叭口，水流减速向四周均匀扩散，密度大的泥沙向下沉淀至V型泥斗4，含悬浮物的水流向上部导流槽12汇集流出。V型泥斗4中的泥沙由底部海底阀13定期打开排出。由沉淀池1的导流槽12汇集的含悬浮物的水经均流器14，水流减速后向四周均匀扩散，同时由射流器24抽取的絮凝药剂喷射至一级絮凝反应池15下部，和含悬浮物的水快速剧烈地混合，缓慢地经折板19向上流动，经二级絮凝反应池16，三级絮凝反应池17，四级絮凝反应池18，在折板19形成的涡流中悬浮物和絮凝药剂反应逐渐形成絮凝水合物，团块大密度大的絮凝水合物沉淀在各级絮凝池2的底部，团块小的絮凝水合物和水一起经出口流出。沉淀的絮凝水合物沉积在V型泥斗4中，经过一定时间浓缩和压缩，由小孔排泥管5经射流排泥阀6排出。由絮凝池2的出口流入的含小团块絮凝水合物的水，经布水管20均匀流出，向上流入沉淀面积扩展了150倍的斜流管层21，水流速度进一步放慢和均匀，小团块絮凝水合物在斜流管中逐渐相互合并压缩，最终克服水的浮力和冲力，在斜流管上沉积滑落，逐渐落入底部V型泥斗4。清水经斜流管层21上部流出，由导流槽22收集汇合排出。沉淀的絮凝水合物沉积在V型泥斗4中，经过一定时间浓缩和压缩，由小孔排泥管5经射流排泥阀6排出。

射流器加药原理如下：由变频加压供水设备出口的带压力水经电磁阀8流向射流器24，在射流器24的负压腔产生负压，负压腔通过连至加药桶的管道，吸取絮凝药剂。药剂和射流器24内的高速水流混合一起喷出。由可编程控制箱发出电脉冲控制电磁阀8的开启和关闭，通过控制脉冲的频率就可以控制单位时间内的药剂投加量。

射流排泥原理如下：由射流排泥阀6，电磁阀8，电动阀7组成。启动排泥时，先由可编程控制箱给电磁阀发出一个短时脉冲，短时开启电磁阀8，由变频加压供水设备出口的带压力水高速流经射流排泥阀6反冲至小孔排泥管5，清洗排泥管上的小孔，防止由淤泥结板造成小孔堵塞。完成后，开启电动阀7，然后由可编程控制箱给电磁阀8发出一个短时间脉冲，高速压力水经射流排泥阀6和电动阀7流出，同时在射流排泥阀6的负压腔及其连接的小孔排泥管5产生负压，吸取V型泥斗4中的淤泥，以补偿由于絮凝池2高度低而水头不足造成排泥不畅。电磁阀8关闭后，由自然水头挤压淤泥至小孔排泥管5排出。在排泥剩下的时间内，可编程控制箱每隔一定时间都会给电磁阀8发出一个短时间脉冲，短时开启电磁阀8，用以维持排泥过程的连续性和快速性。

Claims (4)

1.一种小型一体化絮凝沉淀设备，该设备包括沉淀池、絮凝池、斜流沉淀池、加药桶、变频加压供水设备和可编程控制箱，其特征在于，所述沉淀池、絮凝池和斜流沉淀池下方均设有V型泥斗，所述絮凝池和斜流沉淀池的V型泥斗内设有小孔排泥管，所述小孔排泥管出口端设有射流排泥阀，所述射流排泥阀一端连接电动阀，所述射流排泥阀一侧通过管道与变频加压供水设备连接，且管道上设有电磁阀；

所述絮凝池内一侧壁上设有射流孔，所述射流孔通过管道连接射流器，所述射流器另一端通过管道与变频加压供水设备连接，所述连接絮凝池的射流器一侧通过管道与加药桶连接。

2.如权利要求1所述的小型一体化絮凝沉淀设备，其特征在于，所述沉淀池内设有进水管、管式均流器、导流槽，所述进水管与管式均流器连通，所述管式均流器开口向下，所述V型泥斗底部设有海底阀，所述导流槽设在沉淀池顶部。

3.如权利要求2所述的小型一体化絮凝沉淀设备，其特征在于，所述絮凝池内设有均流器、一级絮凝反应池、二级絮凝反应池、三级絮凝反应池和四级絮凝反应池，所述均流器与沉淀池内导流槽相连通，所述一、二、三、四级絮凝反应池内均设有折板，所述一级絮凝反应池和二级絮凝反应池之间上部设有通水口，所述二级絮凝反应池和三级絮凝反应池之间下部设有通水口，所述三级絮凝反应池和四级絮凝反应池之间上部设有通水口。

4.如权利要求3所述的小型一体化絮凝沉淀设备，其特征在于，所述斜流沉淀池内设有布水管、斜流管层、导流槽和出水口，所述布水管与絮凝池内四级絮凝池反应池相连通，所述斜流管层在布水管上方，所述导流槽在斜流管层上方，所述导流槽与出水口相连通。