CN204234100U - 均匀补液的胶印版材氧化槽 - Google Patents

均匀补液的胶印版材氧化槽 Download PDF

Info

Publication number
CN204234100U
CN204234100U CN201420662503.0U CN201420662503U CN204234100U CN 204234100 U CN204234100 U CN 204234100U CN 201420662503 U CN201420662503 U CN 201420662503U CN 204234100 U CN204234100 U CN 204234100U
Authority
CN
China
Prior art keywords
oxidation trough
plate material
offset plate
trough body
import
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201420662503.0U
Other languages
English (en)
Inventor
张朝阳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Henan Huida Indo digital Mstar Technology Ltd.
Henan Huida Print All Technology Co ltd
Original Assignee
CHANGGE HUIDA PHOTOSENSITIVE MATERIAL Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CHANGGE HUIDA PHOTOSENSITIVE MATERIAL Co Ltd filed Critical CHANGGE HUIDA PHOTOSENSITIVE MATERIAL Co Ltd
Priority to CN201420662503.0U priority Critical patent/CN204234100U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN204234100U publication Critical patent/CN204234100U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

本实用新型涉及化工、胶印版材生产技术的设备，名称是均匀补液的胶印版材氧化槽，包括氧化槽本体，其特征是：所述的氧化槽本体具有多个氧化槽的进口，所述的进口安装在氧化槽本体的下面，氧化槽的进口用管道连接着氧化剂盛装槽，所述的进口处是朝向四周的花洒，在氧化槽本体下面底面每平方米的出口不小于4个，这样的胶印版材氧化槽具有减少胶印版材浪费、保证产品质量的的优点；所述的进口处是朝向四周的花洒，具有效果更好的优点；在氧化槽本体下面底面每平方米的出口不小于4个，具有保证胶印版材质量的优点。

Description

均匀补液的胶印版材氧化槽
技术领域
本实用新型涉及化工、胶印版材生产技术的设备，具体地说是涉及胶印版材氧化槽。
背景技术
胶印版材氧化槽包括氧化槽本体，使用时里面盛装氧化液，在使用的过程中，氧化剂的浓度会变低，影响使用效果，为了保证正常进行，需要向里面添加氧化剂，所述的氧化剂是液体的氧化剂；现有技术中，氧化槽本体没有设置添加氧化剂的装置，所添加的氧化剂是在氧化槽本体上面直接向里面倾倒的，这样具有由于氧化槽里面总是存有胶印版材，倾倒氧化剂时，氧化槽本体里面的氧化剂就会不均匀，产生废品,造成浪费。
发明内容
本实用新型的目的就是针对上述缺点，提供一种减少胶印版材浪费、保证产品质量的均匀补液的胶印版材氧化槽。
本实用新型的技术方案是这样实现的：均匀补液的胶印版材氧化槽，包括氧化槽本体，其特征是：所述的氧化槽本体具有多个氧化剂的进口，所述的进口安装在氧化槽本体的下面，氧化槽的进口用管道连接着氧化剂盛装槽。
进一步地讲，所述的进口处是朝向四周的花洒。
进一步地讲，在氧化槽本体下面底面每平方米的出口不小于4个。
本实用新型的有益效果是：这样的胶印版材氧化槽具有减少胶印版材浪费、保证产品质量的的优点；所述的进口处是朝向四周的花洒，具有效果更好的优点；在氧化槽本体下面底面每平方米的出口不小于4个，具有保证胶印版材质量的优点。
附图说明
图1本实用新型的侧面结构示意图。
其中：1、氧化槽本体   2、进口   3、管道   4、氧化剂盛装槽。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步的说明。
如图1所示，均匀补液的胶印版材氧化槽，包括氧化槽本体1，其特征是：所述的氧化槽本体具有多个氧化槽的进口2，所述的进口安装在氧化槽本体的下面，氧化槽的进口用管道3连接着氧化剂盛装槽4。这样安装在下面不耽误生产所用的空间，开口在下面还能保证作用于胶印版材上的氧化剂是均匀的。
进一步地讲，所述的进口处是朝向四周的花洒。
进一步地讲，在氧化槽本体下面底面每平方米的出口不小于4个，发明人经过试验，证明这样不至于设置的进口太多，又能保证生产。
以上所述仅为本实用新型的具体实施例，但本实用新型的结构特征并不限于此，任何本领域的技术人员在本实用新型的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本实用新型的专利范围内。

Claims (3)

1.均匀补液的胶印版材氧化槽，包括氧化槽本体，其特征是：所述的氧化槽本体具有多个氧化槽的进口，所述的进口安装在氧化槽本体的下面，氧化槽的进口用管道连接着氧化剂盛装槽。
2.根据权利要求1所述的胶印版材氧化槽，其特征是：所述的进口处是朝向四周的花洒。
3.根据权利要求1或2所述的胶印版材氧化槽，其特征是：在氧化槽本体下面底面每平方米的出口不小于4个。
CN201420662503.0U 2014-11-10 2014-11-10 均匀补液的胶印版材氧化槽 Active CN204234100U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201420662503.0U CN204234100U (zh) 2014-11-10 2014-11-10 均匀补液的胶印版材氧化槽

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201420662503.0U CN204234100U (zh) 2014-11-10 2014-11-10 均匀补液的胶印版材氧化槽

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN204234100U true CN204234100U (zh) 2015-04-01

Family

ID=52763656

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201420662503.0U Active CN204234100U (zh) 2014-11-10 2014-11-10 均匀补液的胶印版材氧化槽

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN204234100U (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105727872A (zh) * 2016-04-19 2016-07-06 长葛市汇达感光材料有限公司 消泡胶印版材氧化槽

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105727872A (zh) * 2016-04-19 2016-07-06 长葛市汇达感光材料有限公司 消泡胶印版材氧化槽

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN204234100U (zh) 均匀补液的胶印版材氧化槽
CN204642908U (zh) 具有感应器放置槽的传送带
WO2017134531A8 (en) In-liquid plasma devices and methods of use thereof
MY182787A (en) Water treatment apparatus and process for treating water
MX2018002113A (es) Pelotillas de polipropileno ligeramente tratadas por craqueo termico (vis-broken).
CN204467660U (zh) 一种可显示温度的加湿器杯子
CN204294575U (zh) 一种管材清洗设备
CN204395881U (zh) 用于磷肥加工的搅拌设备
CN204153309U (zh) 高压调节阀
CN203954843U (zh) 并联过滤器
CN203907066U (zh) 新型多功能便利法兰
CN105217118A (zh) 可移动水桶
CN204702500U (zh) 一种化工原料进料缓冲装置
CN106855137A (zh) 管卡式电动开关
CN108204092A (zh) 一种瓷砖
CN204710348U (zh) 一种填料环
CN106224658A (zh) 防腐型钢管
CN204533616U (zh) 一种新型加密闸阀阀芯
CN204078326U (zh) 一种釉料储存罐
CN202336328U (zh) 一种增塑剂中和釜
CN104976472A (zh) 一种新型高压管件
CN204365318U (zh) 用于反应釜的物料混合装置
CN204467704U (zh) 杯子的支架
CN204684956U (zh) 一种壳芯可分离超滤膜组件
CN203120606U (zh) 矩形浇水装置

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 461500 Henan Xuchang Changge Dazhou Town Industrial Agglomeration Zone Science Avenue Huida Intong Technology Co., Ltd.

Patentee after: HENAN HUIDA PRINT ALL TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Address before: 461500 Henan Xuchang Changge Dazhou Town Industrial Agglomeration Zone Science Avenue Huida Intong Technology Co., Ltd.

Patentee before: Henan Huida Indo digital Mstar Technology Ltd.

CP01 Change in the name or title of a patent holder
CP03 Change of name, title or address

Address after: 461500 Henan Xuchang Changge Dazhou Town Industrial Agglomeration Zone Science Avenue Huida Intong Technology Co., Ltd.

Patentee after: Henan Huida Indo digital Mstar Technology Ltd.

Address before: 461500 Henan province Xuchang city Changge City Da Zhou town industrial gathering area science Avenue Huida photosensitive material Co., Ltd.

Patentee before: CHANGGE HUIDA PHOTOSENSITIVE MATERIAL Co.,Ltd.

CP03 Change of name, title or address