CN204193799U - 一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置 - Google Patents
一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN204193799U CN204193799U CN201420584158.3U CN201420584158U CN204193799U CN 204193799 U CN204193799 U CN 204193799U CN 201420584158 U CN201420584158 U CN 201420584158U CN 204193799 U CN204193799 U CN 204193799U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- folder
- film
- etching
- sub
- track
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 84
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 20
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 claims abstract description 7
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 18
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 12
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 8
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 claims description 4
- 210000002421 cell wall Anatomy 0.000 claims description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
本实用新型涉及一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，其包括：一夹持部，具体涉及一载膜夹，用以将所述潜径迹膜夹持并固定；一液体盛装部，具体涉及一蚀刻槽，用以盛装所述蚀刻液并固定所述的夹持部，对所述潜径迹膜进行蚀刻；还包括一超声波发生器，为所述蚀刻槽提供超声波，对所述潜径迹膜实现均匀蚀刻，还包括一紫外灯，对固定在所述载膜夹的所述潜径迹膜敏化，加快蚀刻速率。本实用新型采用载膜夹固定潜径迹薄膜，再将载膜夹插入蚀刻槽的固定插槽，从而使薄膜与蚀刻液充分接触，实现薄膜固定、均匀蚀刻，利用此蚀刻装置可以实现潜径迹膜的单面、双面蚀刻，该蚀刻装置制作简单，使用方便、灵活，降低成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及核径迹孔膜领域，具体涉及一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置。
技术背景
核径迹膜(属于固体核径迹技术)在膜分离、防伪技术、医药保健、电子工业、环境科学等领域展现出了重要的应用价值。上世纪八十年代开始将固体核径迹技术用于材料表面改性。例如，在1980年《应用光学》上提到只要样品表面核径迹孔达到一定条件，该样品表面就有减反增透的光学性能。ZL200612100299.X专利中提到一种抗反射材料的制备方法，在可见光区(400nm-800nm)，经过辐照蚀刻镀膜处理的聚酯核径迹膜样品表面的反射率比未经过任何处理的样品的反射率降低了98％，刘存兄等经过多年的研究，研制的材料已实现在可见-紫外-中红外波段(400nm-25μm)的反射率小于1％，但是目前研制的样品还局限于2*2cm2的面积较小的样品。
由于制备抗反射材料所需的基底材料聚合物薄膜比较薄(＜100μm)，材质柔软，大面积的薄膜直接放入蚀刻液中蚀刻时，无法控制蚀刻速率，薄膜不易均匀蚀刻，且辐照后径迹密度较大(≥108/cm2)，蚀刻后薄膜易破裂，所以必须解决样品蚀刻过程中膜固定的问题，以使潜径迹膜在蚀刻过程中更加稳定，使蚀刻速率均匀，薄膜不易破裂。
鉴于上述缺陷，本实用新型创作者经过长时间的研究和实践终于获得了本实用新型。
实用新型内容
为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案在于，提供一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，包括：
一夹持部，用以将潜径迹膜夹持并固定，使所述潜径迹膜在蚀刻时稳定，蚀刻均匀；
一液体盛装部，用以盛装蚀刻液并固定所述的夹持部，对所述潜径迹膜进行蚀刻。
其中，所述的夹持部为一载膜夹，包括：一母夹和一子夹；
所述母夹为框式结构，框的截面为倒置的L形，且所述框底部四周边缘向内设有第一延伸板，用以支撑所述的潜径迹膜；
所述子夹与所述母夹配合；
所述子夹与所述母夹边框相同位置处设有钻孔，所述潜径迹膜放在所述子夹与所述母夹之间，在所述钻孔处用固定件将所述子夹与所述母夹固定。
较佳的，所述的夹持部为一载膜夹，包括：一母夹和一子夹；
所述母夹为框式结构，框的截面为倒置的L形，框的四周底部与一第一平板密封连接；
所述子夹为框式结构，框的截面为倒置的L形，且所述子夹的框底部四周边缘向内设有第二延伸板，用以支撑所述的潜径迹膜；
所述子夹与所述母夹配合；
所述子夹与所述母夹边框相同位置处设有钻孔，所述潜径迹膜放在所述子夹与所述母夹之间，在所述钻孔处用固定件将所述子夹与所述母夹固定。
较佳的，所述的夹持部为一载膜夹，包括：一母夹和一子夹；
所述母夹为框式结构，框的截面为倒置的L形，且所述框底部四周边缘向内设有第一延伸板，用以支撑所述的潜径迹膜；
所述子夹与所述母夹配合；
所述子夹为框式结构，其框的截面为倒置的L形，框的四周底部与一第二平板密封连接；
所述子夹与所述母夹边框相同位置处设有钻孔，所述潜径迹膜放在所述子夹与所述母夹之间，在所述钻孔处用固定件将所述子夹与所述母夹固定；
其中，所述载膜夹为耐酸碱腐蚀高分子材料或不锈钢材料制成。
其中，所述的液体盛装部为一蚀刻槽，其四周设置有挂钩，用以固定在其他容器中，所述蚀刻槽的槽壁内部两侧对称设有多个能够垂直固定所述载膜夹的插槽，用以固定所述载膜夹。
其中，所述蚀刻槽为不锈钢材料制成。
较佳的，还包括一超声波发生器，为所述蚀刻槽提供超声波，对所述潜径迹膜实现均匀蚀刻。
较佳的，还包括一紫外灯，对固定在所述载膜夹的所述潜径迹膜敏化，加快蚀刻速率。
与现有技术相比较，本实用新型的有益效果在于：(1)夹持部能够将潜径迹膜固定在液体盛装部进行蚀刻，实现均匀蚀刻；(2)采用载膜夹固定聚合物薄膜，再将载膜夹插入蚀刻槽的固定插槽，从而使薄膜与蚀刻液充分接触，实现薄膜固定、均匀蚀刻；(3)利用此蚀刻装置可以实现潜径迹膜的单面、双面蚀刻；(4)利用此蚀刻装置能够制备不同尺寸，尤其是大尺寸的核径迹膜；(5)该蚀刻装置制作简单，使用方便、灵活，降低成本。
附图说明
图1为本实用新型中制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置的结构框图；
图2为本实用新型中载膜夹子夹的俯视、左视和前视图；
图3为本实用新型中载膜夹母夹的俯视、左视和前视图；
图4为本实用新型中蚀刻槽的俯视、左视和前视图；
图5为本实用新型中制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置的实施例六的功能框图；
图6为本实用新型中制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置的实施例八的功能框图。
具体实施方式
为便于本领域技术人员对本实用新型的技术方案和有益效果进行理解，特结合附图对具体实施方式进行如下描述。
实施例一
请参阅图1所示，其为本实用新型中制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置的结构框图。该蚀刻装置1包括：
一夹持部11，用以将潜径迹膜夹持并固定，使所述潜径迹膜在蚀刻时稳定，蚀刻均匀；
一液体盛装部12，用以盛装蚀刻液并固定所述的夹持部11，对所述潜径迹膜进行蚀刻；
实现了对所述潜径迹膜的固定蚀刻，避免所述潜径迹膜由于不固定造成破损。
实施例二
如实施例一所述，其区别在于，所述蚀刻装置1中所述的夹持部11是一载膜夹，所述载膜夹，包括：一母夹和一子夹。请参阅图2所示，其为本实用新型中载膜夹子夹的俯视、左视和前视图，图3所示，其为本实用新型中载膜夹母夹的俯视、左视和前视图。子夹与母夹均为框式结构，中空，其框的截面为倒置的L形，且所述母夹的框底部四周边缘向内设有第一延伸板，用以支撑所述的潜径迹膜；
所述子夹与所述母夹配合；
所述子夹与所述母夹边框相同位置处设有钻孔，所述潜径迹膜放在所述子夹与所述母夹之间，在所述钻孔处用固定件将所述子夹与所述母夹固定，固定件可以选为外旋螺母或销轴，从而使潜径迹膜固定在子夹与母夹中，且固定过程简单方便。
所述载膜夹为耐酸碱腐蚀材料制成，本实施例中优选不锈钢材料，也可以是耐酸碱的高分子材料，载膜夹的大小可根据所需径迹膜的大小设定。此外，在母夹上方还设有一提拉件，当径迹膜固定在载膜夹后，方便取用。
该蚀刻装置1中所述液体盛装部12是一蚀刻槽，其周围设置有挂钩，用以固定在其他容器中，槽壁内部两侧对称设有多个垂直固定所述载膜夹的插槽，所述蚀刻槽是用耐酸碱、传热快的材料制成，优选为不锈钢材料。
当对潜径迹膜进行蚀刻时，将潜径迹膜固定在载膜夹中，将此载膜夹固定在蚀刻槽的插槽中，进行蚀刻。如果潜径迹膜需要进行其他处理，直接将载膜夹取出即可，使用方便、灵活，且所述蚀刻装置1结构简单，便于制造，降低了成本。
实施例三
如实施例二所述，区别仅在于该蚀刻装置1的载膜夹的母夹框的四周底部与一第一平板密封连接，同样与所述子夹配合，其他部分与实施例二中的蚀刻装置1完全相同，母夹采用此种结构实现了潜径迹膜的单面蚀刻。
实施例四
如实施例二所述，区别仅在于该蚀刻装置1载膜夹的子夹框的四周底部与一第二平板密封连接，同样与所述母夹配合，其他部分与实施例二中的蚀刻装置1完全相同，子夹采用此种结构实现了潜径迹膜的单面蚀刻。
实施例五
载膜夹设置为一对子夹与母夹，子夹与母夹均为框式结构，其框的截面为倒置的L形，母夹框底部四周边缘向内设有第一延伸板，用以支撑所述的潜径迹膜且所述的延伸板包围成一个中空的部分，该中空的面积即为核径迹膜的面积；子夹与母夹配合。此外，母夹框的上部中间设置一拉环，方便取用载膜夹。载膜夹采用不锈钢材料制成，耐酸碱，可反复使用多次。
当所需的核径迹纳米孔膜的面积为18*18cm2时，则将母夹和子夹中空的部分的边长设置为18cm*18cm，母夹的延伸板的宽度为1.3cm，框的深度为1cm，框边的宽度为1.5cm，子夹的延伸板的宽度为1cm，框的深度为1cm，框边的宽度为1.8cm。在载膜夹对角线及中心十字线与边框相交处钻孔，将20*20cm2的潜径迹膜放入母夹框内，其四周与母夹的第一延伸板贴合，再配合子夹，之后用外旋螺母将子夹与母夹旋拧固定，潜径迹膜被牢固固定在子夹与母夹之间。通过设置不同的中空部分的尺寸制作的载膜夹，可以制备不同尺寸的核径迹孔膜，从而实现了核径迹孔膜的大小可调，且能实现大面积核径迹孔膜的蚀刻。
请参阅图4所示，为本实用新型中蚀刻槽的俯视、左视和前视图。该蚀刻装置1中所述液体盛装部是一蚀刻槽，其两侧设置有挂钩，用以固定在其他容器中，槽内盛放已配置好的蚀刻液。槽壁内部两侧对称设有三个垂直固定所述载膜夹的插槽，将上述已经固定潜径迹膜并且清洗干净的的载膜夹垂直插入蚀刻槽中的插槽中，使膜的两面均接触蚀刻液，进行刻蚀。
所述蚀刻槽选用不锈钢材料，其耐酸碱，且传热快，能够反复利用多次，并且很快就能使蚀刻液的温度达到所需的温度。
当潜径迹膜需要单面蚀刻时，可采用实施例三或实施例四的载膜夹。
实施例六
请参阅图5所示，其为本实用新型中制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置的实施例六的功能框图。该蚀刻装置1包括：
一夹持部11，用以将潜径迹膜夹持并固定，使所述潜径迹膜在蚀刻时稳定，蚀刻均匀；
一液体盛装部12，用以盛装蚀刻液并固定所述的夹持部11，对所述潜径迹膜进行蚀刻；
实现了对所述潜径迹膜的固定蚀刻，避免所述潜径迹膜由于不固定造成破损。
一超声波发生器13，对所述液体盛放部12提供超声波，将滞留在径迹孔中的蚀刻产物及时剥离，从而加快了蚀刻速率，且使蚀刻速率更加均匀，不易损坏潜径迹薄膜。
实施例七
请参阅图5所示，其为本实用新型中制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置的实施例六的功能框图。该蚀刻装置1包括：
一夹持部11，用以将潜径迹膜夹持并固定，使所述潜径迹膜在蚀刻时稳定，蚀刻均匀；
一液体盛装部12，用以盛装蚀刻液并固定所述的夹持部11，对所述潜径迹膜进行蚀刻；
实现了对所述潜径迹膜的固定蚀刻，避免所述潜径迹膜由于不固定造成破损。
一超声波发生器13，对所述液体盛放部12提供超声波，将滞留在径迹孔中的蚀刻产物及时剥离，从而加快了蚀刻速率，且使蚀刻速率更加均匀，不易损坏潜径迹薄膜。
夹持部11和液体盛装部12的具体结构同实施例二、三或四，当对潜径迹膜进行蚀刻时，将装有蚀刻液的蚀刻槽至于装有水的超声波发生器13中，利用超声波发生器13给蚀刻槽提供超声波，将潜径迹膜固定在载膜夹中，将此载膜夹固定在蚀刻槽的插槽中，进行蚀刻，利用超声波蚀刻过程中，超声波能够将滞留在径迹孔中的蚀刻产物及时剥离，从而使径迹孔更加均匀，蚀刻速率更加均匀，不易损坏潜径迹膜。
实施例八
请参阅图6所示，其为本实用新型中制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置的实施例八的功能框图。该蚀刻装置1包括：
一夹持部11，用以将潜径迹膜夹持并固定，使所述潜径迹膜在蚀刻时稳定，蚀刻均匀；
一液体盛装部12，用以盛装蚀刻液并固定所述的夹持部11，对所述潜径迹膜进行蚀刻；
实现了对所述潜径迹膜的固定蚀刻，避免所述潜径迹膜由于不固定造成破损。
一超声波发生器13，对所述液体盛放部12提供超声波，用以在对所述潜径迹膜的蚀刻过程中，将滞留在径迹孔中的蚀刻产物及时剥离，从而使加快了蚀刻速率，且使蚀刻速率更加均匀；
一紫外灯14，用以辐照敏化所述潜径迹膜，加速蚀刻速率。
实施例九
请参阅图6所示，其为本实用新型中制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置的实施例八的功能框图。该蚀刻装置1包括：
一夹持部11，用以将潜径迹膜夹持并固定；
一液体盛装部12，用以盛装蚀刻液并固定所述的夹持部11，对所述潜径迹膜进行蚀刻；
实现了对所述潜径迹膜的固定蚀刻，避免所述潜径迹膜由于不固定造成破损。
一超声波发生器13，对所述液体盛放部12提供超声波，用以在对所述潜径迹膜的蚀刻过程中，将滞留在径迹孔中的蚀刻产物及时剥离，从而使加快了蚀刻速率，且使蚀刻速率更加均匀；
一紫外灯14，用以辐照敏化所述潜径迹膜，加速蚀刻速率。
所述的夹持部11、液体盛装部12的具体结构及超声波发生器13如实施例七中所描述，当对潜径迹膜进行蚀刻时，将装有蚀刻液的蚀刻槽置于装有水的超声波发生器13中，利用超声波发生器13给蚀刻槽提供超声波，将潜径迹膜固定在载膜夹中，将此载膜夹固定在蚀刻槽的插槽中，进行蚀刻。利用超声波蚀刻过程中，超声波能够将滞留在径迹孔中的蚀刻产物及时剥离，从而使径迹孔更加均匀，蚀刻速率更加均匀，不易损坏径迹膜。
在蚀刻过程中需要对潜径迹膜进行紫外线辐照敏化，将载膜夹从蚀刻槽中取出，清洗干净后，直接放在紫外灯14处进行辐照敏化一定时间，进而加快了蚀刻速率。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，对本实用新型而言仅仅是说明性的，而非限制性的。本专业技术人员理解，在本实用新型权利要求所限定的精神和范围内可对其进行许多改变和修改，甚至等效，但都将落入本实用新型的保护范围内。
Claims (9)
1.一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，其特征在于，包括：
一夹持部，用以将潜径迹膜夹持并固定，使所述潜径迹膜在蚀刻时稳定，蚀刻均匀；
一液体盛装部，用以盛装蚀刻液并固定所述的夹持部，对所述潜径迹膜进行蚀刻。
2.根据权利要求1所述的制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，其特征在于，所述的夹持部为一载膜夹，包括：一母夹和一子夹；
所述母夹为框式结构，框的截面为倒置的L形，且所述框底部四周边缘向内设有第一延伸板，用以支撑所述的潜径迹膜；
所述子夹与所述母夹配合；
所述子夹与所述母夹边框相同位置处设有钻孔，所述潜径迹膜放在所述子夹与所述母夹之间，在所述钻孔处用固定件将所述子夹与所述母夹固定。
3.根据权利要求1所述的制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，其特征在于，所述的夹持部为一载膜夹，包括：一母夹和一子夹；
所述母夹为框式结构，框的截面为倒置的L形，框的四周底部与一第一平板密封连接；
所述子夹为框式结构，框的截面为倒置的L形，且所述子夹的框底部四周边缘向内设有第二延伸板，用以支撑所述的潜径迹膜；
所述子夹与所述母夹配合；
所述子夹与所述母夹边框相同位置处设有钻孔，所述潜径迹膜放在所述子夹与所述母夹之间，在所述钻孔处用固定件将所述子夹与所述母夹固定。
4.根据权利要求1所述的制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，其特征在于，所述的夹持部为一载膜夹，包括：一母夹和一子夹；
所述母夹为框式结构，框的截面为倒置的L形，且所述框底部四周边缘向内设有第一延伸板，用以支撑所述的潜径迹膜；
所述子夹与所述母夹配合；
所述子夹为框式结构，其框的截面为倒置的L形，框的四周底部与一第二平板密封连接；
所述子夹与所述母夹边框相同位置处设有钻孔，所述潜径迹膜放在所述子夹与所述母夹之间，在所述钻孔处用固定件将所述子夹与所述母夹固定；
5.根据权利要求2或3或4所述的制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，其特征在于，所述载膜夹为耐酸碱腐蚀高分子材料或不锈钢材料制成。
6.根据权利要求5所述的制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，其特征在于，所述的液体盛装部为一蚀刻槽，其四周设置有挂钩，用以固定在其他容器中，所述蚀刻槽的槽壁内部两侧对称设有多个能够垂直固定所述载膜夹的插槽，用以固定所述载膜夹。
7.根据权利要求6所述的制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，其特征在于，所述蚀刻槽为不锈钢材料制成。
8.根据权利要求7所述的制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，其特征在于，还包括一超声波发生器，为所述蚀刻槽提供超声波，对所述潜径迹膜实现均匀蚀刻。
9.根据权利要求8所述的制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，其特征在于，还包括一紫外灯，对固定在所述载膜夹的所述潜径迹膜敏化，加快蚀刻速率。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201420584158.3U CN204193799U (zh) | 2014-10-10 | 2014-10-10 | 一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201420584158.3U CN204193799U (zh) | 2014-10-10 | 2014-10-10 | 一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN204193799U true CN204193799U (zh) | 2015-03-11 |
Family
ID=52651800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201420584158.3U Expired - Lifetime CN204193799U (zh) | 2014-10-10 | 2014-10-10 | 一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN204193799U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104307378A (zh) * | 2014-10-10 | 2015-01-28 | 中国原子能科学研究院 | 一种制备大面积高密度核径迹纳米孔膜的设备、方法及膜 |
-
2014
- 2014-10-10 CN CN201420584158.3U patent/CN204193799U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104307378A (zh) * | 2014-10-10 | 2015-01-28 | 中国原子能科学研究院 | 一种制备大面积高密度核径迹纳米孔膜的设备、方法及膜 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA3160109A1 (en) | Apparatuses and systems for preparing a meat product | |
| WO2009149467A3 (en) | Method and system for concentrating particles from a solution | |
| WO2015166625A1 (ja) | 細胞培養器具 | |
| CN204193799U (zh) | 一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置 | |
| Zhao et al. | Thermo and pH dual–actuating smart porous anodic aluminum for controllable drug release | |
| CN202290110U (zh) | 一种用于水浴加热的离心试管架 | |
| US20180005853A1 (en) | Multiple wafer single bath etcher | |
| Stadermann et al. | Fabrication of large-area free-standing ultrathin polymer films | |
| CN216260857U (zh) | 一种水浴振荡器 | |
| CN104307378A (zh) | 一种制备大面积高密度核径迹纳米孔膜的设备、方法及膜 | |
| CN101445783B (zh) | 简易细胞爬片培养及实验装置 | |
| CN104307378B (zh) | 一种制备大面积高密度核径迹纳米孔膜的设备、方法及膜 | |
| CN206692747U (zh) | 氢氧分离膜组件 | |
| CN203484180U (zh) | 便携式试管架 | |
| CN202330222U (zh) | 一种用于颗粒固定和细胞固定的微流控芯片 | |
| CN108389998A (zh) | 传感器固定件及电池模组 | |
| CN206315829U (zh) | 用于空气采样滤膜恒重处理的试样台架 | |
| CN202351108U (zh) | 聚丙烯酰胺凝胶染色、拍照及切胶装置 | |
| CN218414512U (zh) | 一种用于硅片清洗的承载花篮 | |
| CN203897750U (zh) | 一种置物架支架穿管连接固定装置 | |
| CN205088230U (zh) | 一种西林瓶架 | |
| CN210353838U (zh) | 一种工程管理用的图纸阅览架 | |
| CN210875456U (zh) | 一种试管架 | |
| CN206002429U (zh) | 一种旋光管放置盘 | |
| CN211578709U (zh) | 一种适应多尺寸硅片的活动卡齿湿式花篮 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant |