CN204166147U - 提升应用值指标的x射线辐射成像安检系统 - Google Patents
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Abstract
一种提升应用值指标的X射线辐射成像安检系统，包括：X射线源，配置用以发射X射线辐射束照射被检查对象；探测器，配置成探测从被检查对象散射或透射的X辐射束；检查通道，布置在X射线源和探测器之间，被检查对象在检查通道中沿第一方向通过检查通道以便接收检查；其中，X射线源布置在检查通道的一侧的沿第二方向的中间部位，探测器布置在检查通道的与X射线源相对的一侧，所述第二方向与第一方向正交。本实用新型的安检系统不需要对现有系统作大的调整即可以提高系统中射线的穿透力，解决现有的安全检查系统穿透力偏小的难题。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种X射线辐射成像安检领域，尤其地，涉及一种检查手提行李的X射线辐射成像安检系统，其中X射线机和探测器阵列布置方式提升应用值指标。
背景技术
辐射成像检查是海关、地铁、民航机场和铁路系统必需的安全检测手段。
目前，以X射线机作为辐射源的辐射成像系统作为一种成熟的安检技术手段被广泛应用。现有技术中，检查手提行李的X射线辐射成像安检系统，其X射线源(即X射线机)大多布置在扫描通道下面，探测器阵列布置成倒“L”形排布(由横探测器阵列和竖探测器阵列组成)，位于扫描通道上方。在这种成像系统中，X射线机安装在竖探测器阵列的对面的下方，X射线机的靶点与横探测器阵列的起始位置在同一垂直面。这种X射线机和探测器位置布置方式可以使在同样扫描通道截面尺寸下，探测器数量最少，从而降低设备成本。然而，在这种X射线机位置和倒“L”形探测器排布方式下，由于X射线机靶点靠近扫描通道一侧，使得成像系统的最大穿透力位置(成像系统的典型穿透力位置)在靠近光机一侧的通道边附近，这时靠近扫描通道中心位置(即成像系统的应用穿透力位置)由于距离光机靶点较远使得穿透力会下降，达不到典型位置的穿透力。而实际应用时，被扫描物体大多放置在扫描通道中央，即被放置在应用值位置。这样就意味着扫描检查时设备的最强穿透区域不能扫描到被检查的行李，即扫描时被检查行李不能到达扫描设备的最佳穿透区域，系统指标和扫描图像质量必然会受到较大影响。
实用新型内容
为了克服上述技术方案中存在的缺点，本实用新型的目的是提供一种X射线辐射成像安检系统，其中X射线机和探测器阵列的布置方式使得成像系统的穿透力应用值能够到达系统的最大穿透力，即系统的穿透力应用值和典型值一样大。
为了达到上述的实用新型目的，解决上述问题的关键在于如何使成像系统的穿透力典型值位置和应用值位置能够重合。
本实用新型技术方案以如下方式实现：
一种X射线辐射成像安检系统，包括：X射线源，配置用以发射X射线辐射束照射被检查对象；探测器，配置成探测从被检查对象散射或透射的X辐射束，检查通道，布置在X射线源和探测器之间，被检查对象在检查通道中沿第一方向通过检查通道以便接收检查，其中，X射线源布置在检查通道的一侧的沿第二方向的中间部位，探测器布置在检查通道的与X射线源相对的一侧，所述第二方向与第一方向正交。
根据本实用新型一方面，所述探测器阵列布置在检查通道的与X射线源相对的一侧并且沿第二方向分布形成至少一列。
根据本实用新型一方面，所述探测器阵列布置在检查通道的与X射线源相对的一侧并且沿第二方向分布形成排列以便覆盖检查通道的一侧，收集X射线。
根据本实用新型一方面，所述探测器阵列布置在检查通道的一侧，并且在第二方向上分布形成排列以便包围位于检查通道中被检查对象的三侧面。
根据本实用新型一方面，所述探测器阵列布置在检查通道的与X射线源相对的一侧分布以在与第一方向正交的横向平面内形成“门”形排列或“U”形排列。
根据本实用新型一方面，所述探测器阵列布置在检查通道的与X射线源相对的一侧并且分布在与第一方向正交的横向平面内形成弧形排列。
根据本实用新型一方面，所述探测器阵列中的每个探测器的探测表面布置成探测表面的法线方向指向X射线源。
根据本实用新型一方面，X射线源是单一靶点X射线源。
采用本方案探测器的排列方式，原设备的其他分系统结构不需要做大的调整，能有效的在不提高现有射线源能量的情况下，解决安全检查系统穿透力偏小的难题。
试验表明，采用本方案X射线机和探测器排列方式，最大穿透力由原来的40mm钢板达到46mm钢板；很好的解决了高端用户对于安全检查系统穿透力的要求。
通过对射线源的调整，很好解决了原设备典型值与应用值之间的差距，采用本方案的探测器排列，使设备的典型值与应用值相同，提升了设备的性能。
附图及其简要说明
图1示出根据本实用新型的一个实施例的X射线辐射成像安检系统。
图2示出根据本实用新型的另一个实施例的X射线辐射成像安检系统。
图3示出根据本实用新型的另一个实施例的X射线辐射成像安检系统。
具体实施方式
下面参照图1描述根据本实用新型一个实施例的X射线辐射成像安检系统。X射线辐射成像安检系统包括X射线源1、探测器2以及布置在X射线源1和探测器2之间的检查通道3。X射线源1配置用以发射X射线辐射束照射被检查对象。探测器2配置成探测从被检查对象M散射或透射的X辐射束。被检查对象M被置于检查通道3中静止或沿垂直于纸面的方向移动通过检查通道3。在被检查对象M处于检查通道中的时候，X射线照射被检查对象M，并且X射线透射通过被检查对象M或被被检查对象M散射。
探测器2具有探测表面4，探测器2的探测表面4布置成面向散射或透射的X射线以便散射或透射的X射线以接近垂直的方式入射到探测表面4。即，每个探测器的探测表面4的法线方向基本上指向X射线源1，或法向方向基本上平行于X射线入射方向。
如图1所示，X射线源1布置在检查通道的下方，即如图所示的靶点1。从X射线源向上发射X射线照射被检查对象M。探测器2布置在X射线源的相对侧，即布置在检查通道的上方接收从被检查对象透射或反射的X射线从而完成检查的目的。在如图1所示的实施例中，探测器是具有多个探测器的探测器列或阵列。在纸面所在的平面内，即在沿检查通道的横向截面的平面内，探测器阵列布置成“门”形的阵列。“门”形探测器阵列布置成包围被检查对象M的三个侧面。探测器阵列还可以布置成覆盖检查通道的一侧，以便收集X射线。
在如图1所示的实施例中，X射线源是单一靶点源。
在如图1所示的实施例中，探测器采用“门”形排列，射线源布置在检查通道的正下方，使射线尽可能垂直通过检查通道中的被检查对象，并减少射线到达探测器的距离，增加了射线到达探测器的有效能量。成像系统的最大穿透力位置(成像系统的典型穿透力位置)在通道中心位置附近，从而提高设备的穿透力，并且成像系统的典型值和成像系统的应用值做到基本上相等。
并且，采用本实施例的X射线源和探测器的排列方式，现有的原设备的其他分系统结构不需要做大的调整，能有效的在不提高现有X射线源能量的情况下，解决安全检查系统穿透力偏小的难题。
试验表明，采用本方案X射线机和探测器排列方式，最大穿透力由原来的40mm钢板达到46mm钢板；很好的解决了高端用户对于安全检查系统穿透力的要求。
在本实施例中，可以提供例如成像装置的系统，其与探测器耦接以便将探测器的信号以图像的方式输出。
根据本实用新型的X射线辐射成像安检系统操作过程如下：当被检查对象被置于检查通道中，X射线源发射X射线辐射束照射被检查对象，X射线透射被检查对象，或者被反射，透射辐射或反射辐射被探测器阵列收集，从而在配套系统的显示器中显示被检查对象的X射线像。操作者可以由此观察被检查对象是否携带违禁物品。
图2示出根据本实用新型的另一实施例。在如图2所示的实施例中，安全检查系统与图1中的安全检查系统不同之处在于，探测器阵列与X射线源的位置互换。在图2中，X射线源布置在检查通道的上方，也即是被检查对象M的上方，而探测器阵列布置在通道的下方附近。在如图2所示的实施例中，探测器阵列是“U”形的阵列，其包围被检查对象的三个侧面。探测器阵列中的每个探测器的探测表面的法线方向基本上指向X射线源。
图3示出根据本实用新型的还一实施例。在如图3所示的实施例中，安全检查系统与图1中的安全检查系统类似。不同之处在于，探测器阵列布置在检查通道的上方，并且呈弧形排列，每个探测器的探测表面的法线方向基本上指向X射线源。
Claims (8)
1.一种X射线辐射成像安检系统，其特征在于，包括：
X射线源，配置用以发射X射线辐射束照射被检查对象；
探测器，配置成探测从被检查对象散射或透射的X辐射束，
检查通道，布置在X射线源和探测器之间，被检查对象在检查通道中静止放置或沿第一方向通过检查通道以便接收检查，
其中，X射线源布置在检查通道的一侧的沿第二方向的中间部位，探测器布置在检查通道的与X射线源相对的一侧，所述第二方向与第一方向正交。
2.如权利要求1所述的X射线辐射成像安检系统，其特征在于，
探测器是探测器阵列，所述探测器阵列布置在检查通道的与X射线源相对的一侧并且沿第二方向分布形成至少一列。
3.如权利要求2所述的X射线辐射成像安检系统，其特征在于，
所述探测器阵列布置在检查通道的与X射线源相对的一侧并且沿第二方向分布形成排列以便覆盖检查通道的一侧，以便收集X射线。
4.如权利要求2所述的X射线辐射成像安检系统，其特征在于，所述探测器阵列布置在检查通道的一侧，并且在第二方向上分布形成排列以便包围位于检查通道中被检查对象的三侧面。
5.如权利要求2所述的X射线辐射成像安检系统，其特征在于，
所述探测器阵列布置在检查通道的与X射线源相对的一侧分布以在与第一方向正交的横向平面内形成“门”形排列或“U”形排列。
6.如权利要求2所述的X射线辐射成像安检系统，其特征在于，
所述探测器阵列布置在检查通道的与X射线源相对的一侧并且分布在与第一方向正交的横向平面内形成弧形排列。
7.如权利要求2所述的X射线辐射成像安检系统，其特征在于，
所述探测器阵列中的每个探测器的探测表面布置成探测表面的法线方向指向X射线源。
8.如权利要求1所述的X射线辐射成像安检系统，其特征在于，
X射线源是单一靶点X射线源。
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