CN204094613U - 一种晶片研磨机中的防护装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种可以将研磨时飞溅出来的碎屑完全遮挡的晶片研磨机中的防护装置，包括：设置在下磨座上的环形防护筒，该环形防护筒包括一对通过箱包锁扣锁紧在一起的半圆弧形板；环形防护筒的内壁上设置有与下磨盘相配合的搁置凸台，环形防护筒的内壁在搁置凸台的上、下侧分别设置有环形缓冲槽和环形密封槽，环形密封槽中设置有环形密封圈，环形缓冲槽的上沿不低于与下磨盘配套使用的上磨盘的下表面即上磨盘的研磨面，环形防护筒上的搁置凸台搁置在下磨盘外侧的下磨座上；所述的机座上在环形保护筒的下方还设置有与所述的下磨座同心的环形搁置平台。该防护装置尤其适用于对晶片进行研磨的研磨机中。

Description

一种晶片研磨机中的防护装置

技术领域

本实用新型涉及到一种对晶片进行研磨的研磨机，尤其涉及到一种晶片研磨机中的防护装置。

背景技术

目前，传统的晶片研磨机中的防护装置，结构比较简单，通常包括：通过主动轴活动设置在研磨机机座上的下磨座，下磨座的侧壁上密封设置有与下磨座同心的环形防护筒。这种环形防护筒在实际使用过程中，并不能将研磨时飞溅出来的碎屑完全遮挡，为此，在环形防护筒的外侧还要设置第二道环形防护筒，尽管这样，飞溅出来的碎屑无序散落四周，清理非常麻烦；而且，被阻挡在上述环形保护筒中的碎屑清理起来也非常麻烦。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种可以将研磨时飞溅出来的碎屑完全遮挡、并且清理十分方便的晶片研磨机中的防护装置。

为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案为：一种晶片研磨机中的防护装置，包括：通过主动轴活动设置在研磨机机座上的下磨座，下磨座大于同心安装在下磨座上的下磨盘，所述的下磨座上设置有与下磨座同心的环形防护筒，所述的环形防护筒包括：一对半圆弧形板，这一对半圆弧形板通过一对锁扣机构锁紧在一起；该环形防护筒与下磨座之间的具体设置方式为：环形防护筒的内壁上设置有与下磨盘相配合的搁置凸台，该搁置凸台上设置有与下磨座上的排污孔相通的导污孔，环形防护筒的内壁在搁置凸台的上、下侧分别设置有环形缓冲槽和环形密封槽，环形密封槽中设置有环形密封圈，环形缓冲槽的上沿不低于与下磨盘配套使用的上磨盘的下表面即上磨盘的研磨面，环形防护筒上的搁置凸台搁置在下磨盘外侧的下磨座上；所述的机座上在环形保护筒的下方还设置有与所述的下磨座同心、用于搁置环形保护筒的环形搁置平台。

作为一种优选方案，在所述的晶片研磨机中的防护装置中，所述的环形缓冲槽中还设置有阻燃缓冲垫。

作为一种优选方案，在所述的晶片研磨机中的防护装置中，所述环形缓冲槽为圆弧形槽，其圆弧长度大于该圆弧所在圆的周长的一半。

作为一种优选方案，在所述的晶片研磨机中的防护装置中，所述的环形搁置平台的外沿还设置有防止环形防护筒掉落的拦阻凸台。

作为一种优选方案，在所述的晶片研磨机中的防护装置中，所述的环形搁置平台通过至少一对支撑立柱设置在机座上。

作为一种优选方案，在所述的晶片研磨机中的防护装置中，所述的锁扣机构为箱包锁扣。

本实用新型的有益效果是：本实用新型通过设置环形缓冲槽，使得研磨时飞溅出来的碎屑在环形缓冲槽内多次撞击，在不断吸收碎屑动能的同时，不断改变碎屑的运动方向，从而保证了碎屑不会溅出环形缓冲筒；除此之外，将缓冲筒设置成弧长大于圆周长一半的圆弧形槽以及设置在缓冲筒中的缓冲垫均可以更好地吸收碎屑的动能，可以防止碎屑过分破碎；设置在环形搁置平台外沿处的拦阻凸台，可有效地防止拆解之后的环形防护筒从环形搁置平台上滑落。

附图说明

图1是本实用新型所述晶片研磨机中的防护装置结构示意图。

图2是图1中环形防护筒的俯视结构示意图。

图1至图2中的附图标记为：1、主动轴，2、上磨盘，3、下磨盘，4、被动轴，5、晶片安置板，6、环形防护筒，60、半圆弧形板，601、圆弧形定位凸起，61、环形缓冲槽，62、搁置凸台，621、导污孔，63、箱包锁扣，7、环形密封圈，8、阻燃缓冲垫，9、搁置平台，91、内孔，92、阻拦凸台，10、支撑立柱，11、上磨座，12、下磨座，121、排污孔。

具体实施方式

下面结合附图，详细描述本实用新型所述的一种晶片研磨机中的防护装置的具体实施方案：

如图1所示，本实用新型所述的晶片研磨机中的防护装置，包括：通过主动轴1活动设置在研磨机的机座(属于本领域的惯常技术，图中未画出)上的下磨座12，下磨座12大于同心安装在下磨座12上的下磨盘3，下磨座12上设置有与下磨座12同心的环形防护筒6，如图2所示，该环形防护筒6包括：一对半圆弧形板60，这一对半圆弧形板60的端面上分别设置有相互配合的圆弧形定位凸起601和圆弧形定位凹槽，即：一块半圆弧形板60的端面上设置有圆弧形定位凸起601，则另一块相应端上设置与圆弧形定位凸起601相配合的圆弧形定位凹槽，这一对半圆弧形板60通过一对箱包锁扣63即锁扣机构锁紧在一起；该环形防护筒6与下磨座12之间的具体设置方式为：环形防护筒6的内壁上设置有与下磨盘3相配合的搁置凸台62，该搁置凸台62上设置有与下磨座12上的排污孔121相通的导污孔621，环形防护筒6的内壁在搁置凸台62的上侧设置有圆弧形的环形缓冲槽61，环形缓冲槽61横截面的圆弧长度大于该圆弧所在圆的周长的一半，环形缓冲槽61的上沿不低于与下磨盘3配套使用的上磨盘2的下表面即上磨盘2的研磨面，环形缓冲槽61中设置有阻燃缓冲垫8，环形防护筒6的内壁在搁置凸台62的下侧设置有环形密封槽，环形密封槽中设置有环形密封圈7，环形防护筒6上的搁置凸台62搁置在下磨盘3外侧的下磨座12上；所述的机座上在环形保护筒6的下方还通过至少一对支撑立柱10设置有与所述的下磨座12同心、用于搁置拆解后的环形保护筒6的环形搁置平台9，环形搁置平台9的外沿处还设置有防止环形防护筒6掉落的拦阻凸台92。

在实际应用过程中，上磨盘2设置在上磨座11上，上磨座11通过被动轴4活动设置在其上方的升降座中(属于本领域的惯常技术，图中未画出)，升降座通过机架设置在机座上(属于本领域的惯常技术，图中未画出)。

研磨前，首先将一对半圆弧形板60通过其搁置凸台62搁置在下磨座12上拼装，并通过一对箱包锁扣63锁定在下磨座12的外侧，使得环形密封圈7与下磨座12紧贴在一起，并将晶片安置板5放至下磨盘3上，然后，将多个晶片放置到晶片安置板5上的相应网格中，调整上磨盘2的高度，使得下磨盘3搁置在晶片上，这时，便可启动研磨机，对晶片进行研磨。研磨后，打开箱包锁扣63，将拆解后的一对半圆弧形板60向外拉，搁置在环形搁置平台9上，大大方便了对碎屑的清理。

综上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用来限定本实用新型实施的范围，凡依本实用新型权利要求范围所述的形状、构造、特征及精神所作的均等变化与修饰，均应包括在本实用新型的权利要求范围内。

Claims (6)

1.一种晶片研磨机中的防护装置，包括：通过主动轴活动设置在研磨机机座上的下磨座，下磨座上设置有与下磨座同心的环形防护筒，其特征在于：所述的下磨座大于同心安装在下磨座上的下磨盘，所述的环形防护筒包括：一对半圆弧形板，这一对半圆弧形板通过一对锁扣机构锁紧在一起；该环形防护筒与下磨座之间的具体设置方式为：环形防护筒的内壁上设置有与下磨盘相配合的搁置凸台，该搁置凸台上设置有与下磨座上的排污孔相通的导污孔，环形防护筒的内壁在搁置凸台的上、下侧分别设置有环形缓冲槽和环形密封槽，环形密封槽中设置有环形密封圈，环形缓冲槽的上沿不低于与下磨盘配套使用的上磨盘的下表面即上磨盘的研磨面，环形防护筒上的搁置凸台搁置在下磨盘外侧的下磨座上；所述的机座上在环形保护筒的下方还设置有与所述的下磨座同心、用于搁置环形保护筒的环形搁置平台。

2.如权利要求1所述的晶片研磨机中的防护装置，其特征在于，所述的环形缓冲槽中还设置有阻燃缓冲垫。

3.如权利要求1所述的晶片研磨机中的防护装置，其特征在于，所述环形缓冲槽为圆弧形槽，其圆弧长度大于该圆弧所在圆的周长的一半。

4.如权利要求1所述的晶片研磨机中的防护装置，其特征在于，所述的环形搁置平台的外沿还设置有防止环形防护筒掉落的拦阻凸台。

5.如权利要求1至4之一所述的晶片研磨机中的防护装置，其特征在于，所述的环形搁置平台通过至少一对支撑立柱设置在机座上。

6.如权利要求1至4之一所述的晶片研磨机中的防护装置，其特征在于，所述的锁扣机构为箱包锁扣。