CN203999789U - 蒸镀坩埚装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，包括第一坩埚以及嵌套于第一坩埚内部的多个第二坩埚，第一坩埚用于对多个第二坩埚加热。本实用新型的蒸镀坩埚装置为两级加热方式，通过第一坩埚对多个第二坩埚加热，这样可以利用多个第二坩埚进行同时蒸镀，即实现了高速蒸镀，同时一方面减少了生产成本，一方面保证了产品的均一性。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示装置技术领域，特别是涉及一种蒸镀坩埚装置。
背景技术
在对显示装置的显示器件中的有机发光二极管进行加工制造时，一般采用蒸镀坩埚。有机发光二极管根据设计的不同，可以分为顶发射结构和底发射结构。对于需要做得较厚的底发射结构器件，为了防止金属氧化，需要尽快的完成蒸镀，这时候就需要较高的蒸发速率。
目前的蒸镀坩埚难以达到高速蒸镀金属的目的，这是因为坩埚的主要材质为陶瓷，单纯的增加坩埚和蒸镀源的体积无法达到高速蒸镀的目的。在现实生产中，为了实现高速蒸镀，需要利用多个蒸镀源同时蒸镀，这种做法一方面增加了生产成本，一方面很容易影响产品的均一性。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种可以有效的提高蒸镀速率的蒸镀坩埚装置。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，包括第一坩埚以及嵌套于所述第一坩埚内部的多个第二坩埚，所述第一坩埚用于对多个所述第二坩埚加热。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，所述第一坩埚的第一表面设置有多个凹槽，多个所述凹槽与多个第二坩埚分别一一对应配合，所述第一坩埚通过所述凹槽对所述第二坩埚加热。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，所述第一坩埚与所述第二坩埚之间留有间隙。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，所述第一坩埚的与第一表面相对的第二表面设置有用于容纳加热棒的容纳腔。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，所述凹槽的中轴线与所述第一坩埚的中轴线平行。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，所述第一坩埚的中轴线到多个所述凹槽的中轴线的距离均相同。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，所述容纳腔的中轴线与所述第一坩埚的中轴线重合。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，所述第一坩埚为金属坩埚，所述第二坩埚为陶瓷坩埚。
本实用新型的蒸镀坩埚装置为两级加热方式，通过第一坩埚对多个第二坩埚加热，这样可以利用多个第二坩埚进行同时蒸镀，有效的提高蒸镀速率，即实现了高速蒸镀，同时一方面减少了生产成本，一方面保证了产品的均一性。
附图说明
图1为本实用新型的蒸镀坩埚装置的结构示意图的主视图；
图2为本实用新型的蒸镀坩埚装置的第一坩埚的结构示意图的俯视图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好的理解本实用新型并能予以实施，但所举实施例不作为对本实用新型的限定。
如图1和图2所示，本实用新型的蒸镀坩埚装置，包括第一坩埚1以及嵌套于第一坩埚1内部的多个第二坩埚2，第一坩埚1用于对多个第二坩埚2加热，第二坩埚2用于对工件进行蒸镀。
本实用新型的蒸镀坩埚装置为两级加热方式，通过第一坩埚对多个第二坩埚加热，这样可以利用多个第二坩埚进行同时蒸镀，即实现了高速蒸镀，同时一方面减少了生产成本，一方面保证了产品的均一性。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，第一坩埚1的第一表面10设置有多个凹槽3，多个凹槽3与多个第二坩埚2分别一一对应配合，第一坩埚1通过凹槽3对第二坩埚2加热。
为防止因第一坩埚1与第二坩埚2的材料的膨胀系数不同而引起第二坩埚2的损坏，本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，第一坩埚1与第二坩埚2之间留有间隙。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，第一坩埚1的与第一表面10相对的第二表面20设置有用于容纳加热棒的容纳腔4。利用底部的容纳腔4的内部的加热装置（例如电阻丝或电热棒）进行加热可以进一步保证第二坩埚2的受热均匀。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，容纳腔4的上边缘的高度高于凹槽3的底部的高度，这样有利于容纳腔4的内部的加热装置对第二坩埚2进行加热。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，凹槽3的中轴线与第一坩埚1的中轴线平行。
为进一步保证所有的第二坩埚受热均一，本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，第一坩埚1的中轴线到多个凹槽3的中轴线的距离均相同。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，容纳腔4的中轴线与第一坩埚1的中轴线重合。
本实用新型的蒸镀坩埚装置，其中，第一坩埚1为金属坩埚，第二坩埚2为陶瓷坩埚。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (6)
1.一种蒸镀坩埚装置，其特征在于，包括第一坩埚以及嵌套于所述第一坩埚内部的多个第二坩埚，所述第一坩埚用于对多个所述第二坩埚加热，所述第一坩埚的第一表面设置有多个凹槽，多个所述凹槽与多个第二坩埚分别一一对应配合，所述第一坩埚通过所述凹槽对所述第二坩埚加热，所述第一坩埚的与第一表面相对的第二表面设置有用于容纳加热棒的容纳腔。
2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚装置，其特征在于，所述第一坩埚与所述第二坩埚之间留有间隙。
3.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚装置，其特征在于，所述凹槽的中轴线与所述第一坩埚的中轴线平行。
4.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚装置，其特征在于，所述第一坩埚的中轴线到多个所述凹槽的中轴线的距离均相同。
5.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚装置，其特征在于，所述容纳腔的中轴线与所述第一坩埚的中轴线重合。
6.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚装置，其特征在于，所述第一坩埚为金属坩埚，所述第二坩埚为陶瓷坩埚。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107630190A (zh) * | 2017-11-08 | 2018-01-26 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 坩埚及蒸镀方法 |
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2014
- 2014-04-02 CN CN201420158557.3U patent/CN203999789U/zh not_active Expired - Lifetime
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