CN203923434U - 一种电镀清洗装置及清洗系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种电镀清洗装置及清洗系统，包括供水系统、清洗液储存槽、清洗槽、进水管道、出水管道、水泵、排空管道、排空阀、高液位传感器、低液位传感器、浓度传感器；所述高液位传感器、进水管道设置在清洗槽的顶部；所述出水管道、排空管道、低液位传感器、浓度传感器设置在清洗槽的底部；排空阀用于控制排空管道的排水；进水管道与供水系统之间、出水管道与清洗液储存槽之间均设置水泵，水泵用于控制向清洗槽中泵入水及将清洗槽中的液体泵出；清洗系统包括多个电镀清洗装置，该装置可有效节约清洗用水，提高清洗质量，清洗水的排水浓度增高，部分可用作镀液的补充。

Description

一种电镀清洗装置及清洗系统

技术领域

本实用新型属于电镀设备领域，特别是涉及一种电镀清洗装置及清洗系统。

背景技术

目前公知的电镀件漂洗水清洗装置，在自动电镀生产线上，为降低水污染，通常采用局部长流水形式的连续逆流漂洗。其逆流漂洗是一种多槽逆流一槽长流水的形式。一般设4只清洗槽，前3只为连续逆流漂洗，即根据镀液带出量和蒸发量的消耗，随时以第1清洗水槽之等量漂洗水作镀液的补充，第2槽水补第1槽，第3 槽水补第2槽，补第3槽的第4只槽是长流水清洗排放。这种方法比非逆流全部长流水多级漂洗节水效果明显，污染相应降低，但是，流水量还是很大，排污量大，污水处理费用高，清洗产品效率低。而间歇式逆流清洗装置用水量更为节省，是将来值得推荐使用的一种节能清洗方法。但是这种装置也不能够完全彻底的对工件清洗干净。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是：针对现有电镀漂洗装置存在的因连续排水而造成的用水量增加等问题，提供一种电镀清洗装置及清洗系统，通过检测清洗液浓度控制清洗槽中清洗液的泵出及注入，以最大限度地节省用水量，同时能够有效彻底地清洗工件。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的解决方案为：

一种电镀清洗装置，包括供水系统、清洗液储存槽、清洗槽、进水管道、出水管道、水泵、排空管道、排空阀、高液位传感器、低液位传感器、浓度传感器；所述高液位传感器、进水管道设置在清洗槽的顶部；所述出水管道、排空管道、低液位传感器、浓度传感器设置在清洗槽的底部；排空阀用于控制排空管道的排水；进水管道与供水系统之间、出水管道与清洗液储存槽之间均设置水泵，水泵用于控制向清洗槽中泵入水及将清洗槽中的液体泵出。

所述的水泵采用计量泵，或配备计量装置的离心泵、磁力泵或隔膜泵。

所述的供水系统包括电磁阀和供水槽。

所述的清洗槽采用平底、斜坡底或锥体底结构。

电镀清洗系统，包括供水系统、清洗液贮存槽和n个电镀清洗装置,所述n个电镀清洗装置依次连接，相邻两个电镀清洗装置的进水管道与出水管道连接，且中间设置水泵；其中第一个电镀清洗装置的进水管道与供水系统连接，最后一个电镀清洗装置的出水管道与清洗液储存槽连接，进水管道与供水系统之间、出水管道与清洗液储存槽之间均设置水泵，其中，n大于1。

本实用新型与现有技术相比，具备的有益效果为：

1、水位可精密控制，排水量相应大幅度减少。

2、可精密控制水位和流量，而只需较小的泵送功率。

3、采用浓度传感器检测清洗槽中的液体浓度，实时控制液体的泵入及泵出，保持清洗槽中的液体浓度始终保持在一个固定值，有效防止液体的浪费。

4、无液位差溢流结构，可根据清洗要求添加足够多的清洗槽。

5、逆流漂洗水的排水浓度增高，部分可用作镀液的补充，可回收再利用，达到了节能减排的要求。

附图说明

图1是本实用新型的电镀清洗装置的结构示意图。

图2是本实用新型的电镀清洗系统的结构示意图。

其中，图中的标识为：1-第一级清水槽；2-清洗槽；3-进水管道；4-出水管道；5-排空阀；6-排空管道；7-第一水泵；8-第二水泵；9-低液位传感器；10-高液位传感器；11-浓度传感器；12-清洗液储存槽。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施方式，对本实用新型做进一步的描述。

本实用新型的原理是：通过安装在管道上的输送泵控制各级清洗水槽间的流量达到减少清洗水用量的目的，正常情况下，当被清洗的镀件出清洗水槽时，输送泵定量排出规定量的清洗水。此时排出的清洗水，废物浓度最高，用水量最省。每次定量排出的水量根据经验或通过试验来确定最优值。建议设置的单次排水量不大于高低液位之间的水量，若生产要求排水量大于高低液位之间的水量时，将会增加泵出泵入的频次，此时建议加大漂洗水槽，以满足上述要求。

同时，通过浓度传感器检测清洗槽中液体浓度，使得浓度超过设定值上限时泵出一定量的液体，同时泵入一定量的清水或前一级清洗槽内的液体，使得清洗槽内的液体浓度始终保持在一个固定的值，这样，可有效节约清洗用水，提高清洗质量。

为防止设备运行时发生意外，在逆流清洗的各水槽中设置了高低液位传感器。在被清洗的镀件进入清洗水槽时，若清洗水槽水位低于下液位，由下一级清洗水槽的输送泵开启将水送入，待水位升至下液位时输送泵关闭。确保镀件在清洗时完全浸没在水中；若清洗水槽水位高于上液位以上，由本级输送泵将水泵入上一级清洗水槽，至水位下降到上液位关闭输送泵。如此通过被清洗件进、出清洗槽时，两次精确控制用水量及水位，并大幅度降低清洗水用量。最终逆流清洗的排出水部分被导入至镀槽，从而在资源再利用，降低镀液损耗量的同时也降低了废水的处理量。其余的清洗排出水则必须进入废水处理。

如图1所示：电镀清洗装置包括供水系统、清洗液储存槽12、清洗槽2、进水管道3、出水管道4、水泵、排空管道6、排空阀5、高液位传感器10、低液位传感器9、浓度传感器11；所述高液位传感器10、进水管道3设置在清洗槽2的顶部；所述出水管道4、排空管道6、低液位传感器9、浓度传感器11设置在清洗槽2的底部；排空阀5用于控制排空管道6的排水；进水管道3与供水系统之间设置第一水泵7、出水管道4与清洗液储存槽12之间设置第二水泵8，第一水泵7用于控制向清洗槽中泵入清水，第二水泵8用于将清洗槽2中的液体泵出。

水泵采用计量泵，或配备计量装置的离心泵、磁力泵或隔膜泵。

供水系统包括电磁阀和供水槽。

所述的清洗槽2采用平底、斜坡底或锥体底结构。

如图2所示，电镀清洗系统，包括供水系统、清洗液贮存槽和n个电镀清洗装置,所述n个电镀清洗装置依次连接，相邻两个电镀清洗装置的进水管道与出水管道连接，且中间设置水泵；其中第一个电镀清洗装置的进水管道与供水系统连接，最后一个电镀清洗装置的出水管道与清洗液储存槽连接，进水管道与供水系统之间、出水管道与清洗液储存槽之间均设置水泵，其中，n大于1。

下面以3个具有相同结构的电镀清洗装置为例说明本实用新型清洗系统的结构和工作过程：

电镀清洗装置个数为3个，从左只有依次为第一级清水槽、第二级清水槽、第三级清水槽。

高低液位传感器可用来控制各级清洗水槽的最高警戒液位及最低保证液位，漂洗装置的工作流程为：各级清洗水槽漂洗水量处于最高液位与最低液位之间，当镀件离开第三级清洗槽时，打开第三级水泵，将第三级清洗槽中的液体泵出某一规定量至清洗液贮存槽，该量视镀件的清洗难易，以节水为原则，或者与浓度传感器检测的浓度成比例，以清洗槽中的液体浓度低于设定浓度为准，由试验确定或者通过控制系统计算，且该量应小于最高液位与最低液位间该级清洗槽容量；当镀件离开第二级清洗槽时，打开第二级水泵，将第二级清洗槽中的水泵至第三级清洗槽，泵出量与从第三级清洗槽泵出量相同。泵入第三级清洗槽的漂洗水量至少应达到第三级高低液位传感器所控制的最低液位，不超过第三级高低液位传感器所控制的最高液位，若达到第三级高低液位传感器所控制的最高液位，第二级水泵自动停泵；当镀件离开第一级清洗水槽时，打开第一级水泵，将第一级清洗槽中的水泵至第二级清洗槽，泵出量与从第二级清洗槽泵出量相同。泵入第二级清洗槽的清洗水量至少应达到第二级高低液位传感器所控制的最低液位，不超过第二级高低液位传感器所控制的最高液位，若达到第二级高低液位传感器所控制的最高液位，第一级水泵自动停泵；第一级水泵停泵后，供水系统的电磁阀自动开启，从供水系统补充清水到第一级清洗槽，至第一级高低液位传感器所控制的最低液位。如上述即完成了镀件清洗的一个完整过程。

如图2所示，所述的第三级清洗槽、第二级清洗槽、第一级清洗槽1的底部根据不同的电镀生产要求可采用平底、斜坡底、锥体底等不同结构，以完全除去槽中随电镀液而带来的少许沉淀和杂质等。

本实用新型通过安装在管道上的输送泵控制各级清洗水槽间的水流量达到减少清洗水用量的目的，在逆流清洗的各水槽中设置了高低液位传感器。当镀件出各级清洗水槽时，由开启该级输送泵，将规定量的漂洗水泵入上一级清洗水槽，由此来精确控制用水量及水位，并大幅度降低清洗水用量；整个清洗过程新鲜水的补充量通过最后一级高低液位传感器的最低液位控制。最终逆流清洗的排出水部分被导至镀槽，用于补充镀液损耗，达到资源再利用的目的。另一部分进入废水处理。因废水浓度高，反应速度快，较易处理。

以上实施方式只是本实用新型的两个实例，不是用来限制本实用新型的实施与权利范围，凡依据本实用新型申请专利保护范围所述的内容做出的等效变化和修饰，均应包括在本实用新型申请专利范围内。

Claims (5)

1.一种电镀清洗装置，其特征在于，包括供水系统、清洗液储存槽、清洗槽、进水管道、出水管道、水泵、排空管道、排空阀、高液位传感器、低液位传感器、浓度传感器；所述高液位传感器、进水管道设置在清洗槽的顶部；所述出水管道、排空管道、低液位传感器、浓度传感器设置在清洗槽的底部；排空阀用于控制排空管道的排水；进水管道与供水系统之间、出水管道与清洗液储存槽之间均设置水泵，水泵用于控制向清洗槽中泵入水及将清洗槽中的液体泵出。

2.根据权利要求1所述的电镀清洗装置，其特征在于，所述的水泵采用计量泵，或配备计量装置的离心泵、磁力泵或隔膜泵。

3.根据权利要求1所述的电镀清洗装置，其特征在于，所述的供水系统包括电磁阀和供水槽。

4.根据权利要求1所述的电镀清洗装置，其特征在于，所述的清洗槽采用平底、斜坡底或锥体底结构。

5.基于权利要求1至4中任一项所述电镀清洗装置的电镀清洗系统，其特征在于，包括供水系统、清洗液贮存槽和n个电镀清洗装置,所述n个电镀清洗装置依次连接，相邻两个电镀清洗装置的进水管道与出水管道连接，且中间设置水泵；其中第一个电镀清洗装置的进水管道与供水系统连接，最后一个电镀清洗装置的出水管道与清洗液储存槽连接，进水管道与供水系统之间、出水管道与清洗液储存槽之间均设置水泵，其中，n大于1。