CN203894425U - 自对准金属层结构、镜片以及镜片模组 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种自对准金属层结构，包括：衬底，所述衬底包括一导电层，所述导电层上包括一图形；电镀金属层，形成于所述导电层上，所述电镀金属层具有所述图形。本实用新型还提供一种镜片，包括：玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及与所述第一面相对的第二面；所述第一面上设置有第一透明导电层，所述第一透明导电层上包括一第一图形；第一遮光层，位于所述第一透明导电层上，所述第一遮光层具有所述第一图形，所述第一遮光层为电镀金属层；所述第二面上设置有第二遮光层，所述第二遮光层中包括第二图形，所述第二图形正对所述第一图形。采用所述镜片的第一图形和第二图形可以精确对准。所述镜片可以用于制备镜片模组。

Description

自对准金属层结构、镜片以及镜片模组

技术领域

本实用新型涉及晶圆制备技术领域，特别涉及一种自对准金属层结构、镜片以及镜片模组。

背景技术

随着多媒体技术的发展，数码相机、摄影机、具有相机功能的手机越来越受到广大消费者青睐，在人们对数码相机、摄影机、具有相机功能的手机追求小型化的同时，对其拍摄出物体的影像质量提出更高要求，即希望拍摄物体的影像画面清晰，而物体的成像质量在很大程度上取决于数码相机内各光学元件的优劣。

数码相机的镜头一般由至少一个透镜光圈组成，图1是现有技术中晶圆级光学镜片的示意图。透镜光圈1包括：玻璃基板10，所述玻璃基板10包括第一面101以及与所述第一面101相对的第二面102；所述第一面101上设置有第一遮光层11，所述第一遮光层11具有第一图形111；所述第二面102上设置有第二遮光层12，所述第二遮光层12具有第二图形121。所述第二图形121正对所述第一图形111，使得光线正好可以从所述第一图形111和第二图形121中穿过。

然而，在现有技术中，所述第一图形111和第二图形121都是通过光刻-刻蚀的方法分别在所述第一遮光层11和第二遮光层12上形成，使得无法很好的将所述第一图形111与第二图形121对准，从而影响透镜模组的光学性能，进而影响数码相机的成像质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种自对准金属层结构、镜片以及镜片模组，可以采用自对准的方法制备电镀金属层(遮光层)，从而提高第一图形与第二图形对准的对准精度。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种自对准金属层结构，包括：

衬底，所述衬底包括一导电层，所述导电层上包括一图形；

电镀金属层，形成于所述导电层上，所述电镀金属层具有所述图形。

进一步的，在所述自对准金属层结构中，所述导电层为非金属导电层。

进一步的，在所述自对准金属层结构中，所述电镀金属层为电镀铬层、电镀铜层、电镀钨层、电镀铝层、电镀银层、电镀三氧化二铬层、电镀氮化铊层或电镀氧化银层。

根据本实用新型的另一面，本实用新型还提供一种镜片，包括：

玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及与所述第一面相对的第二面；

所述第一面上设置有第一透明导电层，所述第一透明导电层上包括一第一图形；

第一遮光层，位于所述第一透明导电层上，所述第一遮光层具有所述第一图形，所述第一遮光层为电镀金属层；

所述第二面上设置有第二遮光层，所述第二遮光层中包括第二图形，所述第二图形正对所述第一图形。

进一步的，在所述镜片中，所述第二面与所述第二遮光层之间还设置有一第二透明导电层，所述第二透明导电层具有所述第二图形，所述第二遮光层电镀形成于所述第二透明导电层上。

进一步的，在所述镜片中，所述第二透明导电层为氧化铟锡透明导电层、氧化铟透明导电层、氧化锌透明导电层、氧化锌铝透明导电层、氧化锡透明导电层、氧化锡锑透明导电层或氧化锡氟透明导电层。

进一步的，在所述镜片中，所述第二透明导电层的厚度为0.1μm～2μm。

进一步的，在所述镜片中，所述第二遮光层为电镀铬层、电镀铜层、电镀钨层、电镀铝层、电镀银层、电镀三氧化二铬层、电镀氮化铊层或电镀氧化银层。

进一步的，在所述镜片中，所述第二遮光层的厚度为0.05μm～1μm。

进一步的，在所述镜片中，所述第二图形的宽度为0.1mm～50mm。

进一步的，在所述镜片中，所述第一透明导电层为氧化铟锡透明导电层、氧化铟透明导电层、氧化锌透明导电层、氧化锌铝透明导电层、氧化锡透明导电层、氧化锡锑透明导电层或氧化锡氟透明导电层。

进一步的，在所述镜片中，所述第一透明导电层的厚度为0.1μm～2μm。

进一步的，在所述镜片中，所述第一遮光层为电镀铬层、电镀铜层、电镀钨层、电镀铝层、电镀银层、电镀三氧化二铬层、电镀氮化铊层或电镀氧化银层。

进一步的，在所述镜片中，所述第一遮光层的厚度为0.05μm～1μm。

进一步的，在所述镜片中，所述第一图形的宽度为0.1mm～50mm。

根据本实用新型的另一面，本实用新型还提供一种镜片模组，包括如上所述的任意一项镜片。

与现有技术相比，本实用新型提供的自对准金属层结构、镜片以及镜片模组具有以下优点：

1.在本实用新型提供的自对准金属层结构中，在所述导电层上制备所述图形，然后进行电镀工艺，对所述导电层通电，所述导电层作为电极，电镀液在所述导电层的表面析出金属，从而在所述导电层上自对准地生长出所述电镀金属层，由于所述导电层具有所述图形，所以，所述电镀金属层亦具有所述图形，避免对金属进行刻蚀，提高所述图形的精准度。

2.在本实用新型提供的镜片中，采用上述自对准金属层结构的制备方法制备遮光层，所述玻璃基板包括第一面以及与所述第一面相对的第二面，所述第一面上具有所述第一图形，在所述第二面上制备一透明导电层，在所述透明导电层上制备正对所述第一图形的一第二图形，因为所述第一透明导电层的材质透明，所以，透过所述透明导电层和玻璃基板，很容易找到所述第一图形的位置，从而对照所述第一图形的位置，在所述透明导电层上制备出位置精准的所述第二图形，从而提高镜片模组的光学性能；并且，在所述透明导电层上制备所述第二图形，相比采用黑光阻制备所述第二图形的方法，所述第二图形的关键尺寸(Critical Dimension，简称CD)精准，所述第二图形的形貌好，使得电镀的所述第二遮光层中的所述第二图形的关键尺寸精准，形貌好。

3.在本实用新型提供的镜片中，采用上述自对准金属层结构的制备方法制备遮光层，可以避免使用所述黑光阻。首先，由于所述黑光阻的粘度高，所述黑光阻容易吸附颗粒(patical)，形成缺陷(defect)，所以，采用上述自对准金属层结构的制备方法制备遮光层，避免使用所述黑光阻，所形成的所述遮光层的缺陷少；其次，当在所述黑光阻上制备所述第二图形时，往往采用手工的方法，手工制备所述第二图形的方法的缺陷率高，采用上述自对准金属层结构的制备方法制备遮光层，避免在所述黑光阻上制备所述第二图形，有利于减少缺陷；接着，所述黑光阻与所述玻璃基板的附着力差，并且，所述黑光阻与其它光学组件(如镜头)的附着力差，所以，采用上述自对准金属层结构的制备方法制备遮光层，电镀的所述遮光层与所述玻璃基板的附着力好，且电镀的所述遮光层与其它光学组件(如镜头)的附着力好。

附图说明

图1是现有技术中晶圆级光学镜片的示意图；

图2是本实用新型第一实施例的自对准金属层结构的制备流程图；

图3-图5是本实用新型第一实施例的自对准金属层结构在制备过程中的结构示意图；

图6是本实用新型第二实施例的镜片的制备流程图；

图7-图12是本实用新型第二实施例的镜片在制备过程中的结构示意图；

图13-图16是本实用新型第三实施例的镜片在制备过程中的结构示意图；

图17-图20是本实用新型第四实施例的镜片在制备过程中的结构示意图。

具体实施方式

发明人对现有技术的透镜光圈进行深入研究发现，在现有技术中，所述第一图形111和第二图形121(如图1)需要先后进行刻蚀制备，由于所述第一遮光层11和第二遮光层12均不透光，所以，没有精确的办法对准所述第一图形111和第二图形121的位置。以下以所述第一图形111先制备为例说明：

先对所述第一遮光层11进行光刻工艺，再进行刻蚀，在所述第一遮光层11中形成所述第一图形111；

然后，对第二遮光层12进行光刻工艺，先将不透明的光刻胶涂覆在第二遮光层12上；

接着，需要去除部分光刻胶，在光刻胶上形成所述第二图形121。去除部分光刻胶需要手动的将第二图形121与第一图形111进行对准，然而，由于所述第一遮光层11和第二遮光层12均不透光，所以，没有精确的办法对准所述第一图形111和第二图形121的位置。

最后，对第二遮光层12进行光刻工艺，将所述第二图形121转移到第二遮光层12上。

发明人进一步研究发现，如果可以直接在所述第二面102上直接形成具有第二图形121的第二遮光层12，则避免通过不透光的第二遮光层12对准所述第一图形111和第二图形121的位置。

因此，需要一种遮光层的自对准结构，发明人进一步研究，遮光层一般为金属材料的，所以，可以先制备一导电层，在导电层上制备出一图形，然后利用电镀工艺，金属的遮光层会自动生长在所述导电层上，而不生长在所述图形上，从而将所述图形转移到金属的遮光层上，避免光刻-刻蚀工艺。当所述导电层为透明导电层时，则可以精确地对准所述第一图形111和第二图形121的位置。

根据发明人的研究，发明人提出本实用新型，下面将结合示意图对本实用新型的自对准金属层结构、镜片以及镜片模组进行更详细的描述，其中表示了本实用新型的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型，而仍然实现本实用新型的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本实用新型的限制。

为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本实用新型由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。

在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本实用新型。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

本实用新型的核心思想在于，提供一种自对准金属层结构，包括：

衬底，所述衬底包括一导电层，所述导电层上包括一图形；

电镀金属层，形成于所述导电层上，所述电镀金属层具有所述图形。

在所述导电层上包括所述图形，然后进行电镀工艺，对所述导电层通电，所述导电层作为电极，电镀液在所述导电层的表面析出金属，从而在所述导电层上自对准地生长出所述电镀金属层，由于所述导电层具有所述图形，所以，所述电镀金属层亦具有所述图形，避免对金属进行刻蚀，提高所述图形的精准度。

根据本实用新型的核心思想，本实用新型还提供一种镜片，包括：

玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及与所述第一面相对的第二面；

所述第一面上设置有第一透明导电层，所述第一透明导电层上包括一第一图形；

第一遮光层，电镀形成于所述第一透明导电层上，所述第一遮光层具有所述第一图形；

所述第二面上设置有第二遮光层，所述第二遮光层中包括第二图形，所述第二图形正对所述第一图形。

在所述第二面上制备一透明导电层，在所述透明导电层上制备正对所述第一图形的一第二图形，因为所述透明导电层的材质透明，所以，透过所述透明导电层和玻璃基板，很容易找到所述第一图形的位置，从而对照所述第一图形的位置，在所述透明导电层上制备出位置精准的所述第二图形，从而提高镜片模组的光学性能。

以下列举本实用新型的几个实施例，以清楚说明本实用新型的内容，应当明确的是，本实用新型的内容并不限制于以下实施例，其他通过本领域普通技术人员的常规技术手段的改进亦在本实用新型的思想范围之内。

第一实施例

以下结合图2-图5说明本实施例中的自对准金属层结构。其中，图2是本实用新型第一实施例的自对准金属层结构的制备流程图；图3-图5是本实用新型第一实施例的自对准金属层结构在制备过程中的结构示意图。

在本实施例的所述自对准金属层结构的制备方法中，首先，进行步骤S11，提供一衬底20，所述衬底20包括一导电层21，如图3所示。其中，所述衬底20可以为硅衬底、锗衬底、蓝宝石衬底等等。所述导电层21可以与所述衬底20一体成型，或所述导电层21为所述衬底20上的一层单独膜层。优选的，所述导电层21为非金属导电层，例如，氧化铟锡透明导电层、氧化铟透明导电层、氧化锌透明导电层、氧化锌铝透明导电层、氧化锡透明导电层、氧化锡锑透明导电层或氧化锡氟透明导电层等金属氧化物透明导电层；或导电硅胶透明导电层等导电型有机聚合物透明导电层；或石墨透明导电层、多晶硅透明导电层等单质晶体透明导电层。上述非金属导电层的刻蚀性能优于金属的刻蚀性能，可以得到相貌较好的图形。所述导电层21并不限于为上述非金属导电层，只要可以导电的膜层，亦在本实用新型的思想范围之内。当然，所述衬底20还可以包括有源区等器件结构，可以根据需要进行设置，具体不做限制。

接着，进行步骤S12，在所述导电层21上制备所述图形211，如图4所示，在本实施例中，所述图形211为一凹槽，但是在本实用新型的其它实施例中，所述图形211还可以为通孔等结构。较佳的，采用刻蚀工艺在所述导电层21上制备所述图形211，例如光刻-干法刻蚀工艺，可以制备出相貌较好的所述图形211。

最后，进行步骤S13，进行电镀工艺，对所述导电层21通电，所述导电层21作为电极，电镀液在所述导电层21的表面析出金属，从而在所述导电层21上自对准地生长出所述电镀金属层22，由于所述导电层21具有所述图形211，所以，所述电镀金属层22亦具有所述图形211。因此，不用对所述电镀金属层22刻蚀即可在所述电镀金属层22上形成所述图形211，避免对金属进行刻蚀，提高所述图形211的精准度。较佳的，所述电镀金属层22为电镀铬层、电镀铜层、电镀钨层、电镀铝层、电镀银层、电镀三氧化二铬层、电镀氮化铊层或电镀氧化银层，但所述电镀金属层22并不限于上述膜层，只要是具有遮光性与导电性的单质金属膜层或金属氧化物膜层，亦在本实用新型的思想范围之内。

经过步骤S11-S13，形成了如图5所示的自对准金属层结构2，包括：所述衬底20，所述衬底20一侧的表面包括所述导电层21，所述导电层21上包括所述图形211；所述电镀金属层22形成于所述导电层21上，所述电镀金属层22具有所述图形211。

第二实施例

请参阅图6-图12说明本实施例中的镜片。其中，图6是本实用新型第二实施例的镜片的制备流程图；图7-图10是本实用新型第二实施例的镜片在制备过程中的结构示意图。所述第二实施例的镜片的制备方法利用所述第一实施例的方法制备第二遮光层，所述第二遮光层对应所述电镀金属层22，所述第一图形对应所述图形。具体步骤如下：

首先，进行步骤S21，提供一玻璃基板30，所述玻璃基板30包括第一面301以及与所述第一面301相对的第二面302，如图7所示。其中，所述玻璃基板30有透光材料形成，可以为凹透镜或凸透镜等光学组件。在本实施例中，所述玻璃基板30为凹透镜或凸透镜，所述镜片为透镜光圈。在本实用新型的其它实施例中，所述玻璃基板30还可以为平面镜等。在本实施例中，所述玻璃基板30的厚度较佳的为0.1mm～2mm，优选为0.5mm、1mm、1.5mm等。

然后，进行步骤S22，在所述第一面301上制备具有一第一图形311的第一遮光层31，如图8所示。较佳的，所述第一图形311的宽度为0.1mm～50mm，优选的，0.5mm、1mm、5mm、10mm、20mm、30mm、40mm等等。所述第一遮光层31的材料并不做具体限制，在本实施例中，可以为黑光阻或金属铬等，只要是不透光的材料即可。所述第一图形311可以采用常规的光刻-刻蚀工艺形成，例如：先制备所述第一遮光层31；然后在所述第一遮光层31上制备一层光阻；采用光刻工艺在所述光阻上形成所述第一图形311；采用刻蚀工艺，将所述光阻上的所述第一图形311转移到所述第一遮光层31上。其中，所述第一图形311的形状并不做具体限制，在本实施例中，所述第一图形311的形状为正方形(如图11所示)，在本实用新型的其它实施例中，所述第一图形311的形状还可以为圆形、椭圆形、长方形、三角形、五边形或圆角矩形等形状，所述第一图形311的形状可以根据需要进行设置。

接着，进行步骤S23，在所述第二面302上制备一透明导电层32，如图9所示。较佳的，所述的一透明导电层32为氧化铟锡透明导电层、氧化铟透明导电层、氧化锌透明导电层、氧化锌铝透明导电层、氧化锡透明导电层、氧化锡锑透明导电层或氧化锡氟透明导电层等，可以保证所述的一透明导电层32的透明度以及导电性。但是所述的一透明导电层32并不限于上述几种，只要是透明的导电层，例如有机的透明导电薄膜，亦在本实用新型的思想范围之内。较佳的，所述的一透明导电层32的厚度为0.1μm～2μm，优选的，0.5μm、1μm、1.5μm等等，可以保证所述的一透明导电层32的透明度以及导电性。

随后，进行步骤S24，在所述的一透明导电层32上制备正对所述第一图形311的一第二图形321，如图10所示。其中，所述第二图形321正对所述第一图形311，使得光线可以垂直穿过所述第二图形321-所述玻璃基板30-所述第一图形311。图11表示图9中沿虚线箭头所示的方向所看到的结构示意图，沿虚线箭头所示的方向所看到为所述的一透明导电层32。因为所述的一透明导电层32的材质透明，所以，透过所述的一透明导电层32和玻璃基板30，很容易找到所述第一图形311的位置，如图11所示。所以，可以对照所述第一图形311的位置，在所述的一透明导电层32上制备出位置精准的所述第二图形321，从而使得光线可以垂直穿过所述第二图形321-所述玻璃基板30-所述第一图形311。其中，所述第二图形321的形状并不做具体限制，在本实施例中，所述第二图形321的形状为正方形，在本实用新型的其它实施例中，所述第二图形321的形状还可以为圆形、椭圆形、长方形、三角形、五边形或圆角矩形等形状，所述第二图形321的形状可以根据需要进行设置。所述第二图形321与第一图形311的形状可以相同可可以不同，当所述第二图形321与第一图形311的形状相同时，可以达到较佳的对准效果。

较佳的，采用刻蚀工艺在所述的一透明导电层32上制备所述第二图形321，例如光刻-干法刻蚀工艺，可以制备出相貌较好的所述第二图形321。较佳的，所述第二图形321的宽度为0.1mm～50mm，优选的，0.5mm、1mm、5mm、10mm、20mm、30mm、40mm等等。

之后，进行步骤S25，在所述的一透明导电层32上电镀形成第二遮光层33，所述第二遮光层33具有所述第二图形321。具体的，对所述的一透明导电层32通电，所述的一透明导电层32作为电极，电镀液在所述的一透明导电层32的表面析出金属，从而在所述的一透明导电层32上自对准地生长出所述第二遮光层33，由于所述的一透明导电层32具有所述第二图形321，所以，所述第二遮光层33亦具有所述第二图形321。较佳的，所述第二遮光层33为电镀铬层、电镀铜层、电镀钨层、电镀铝层、电镀银层、电镀三氧化二铬层、电镀氮化铊层或电镀氧化银层，上述膜层具有较好的遮光性能，但所述第二遮光层33并不限于上述膜层，只要是具有遮光性与导电性的单质金属膜层或金属氧化物膜层，亦在本实用新型的思想范围之内。较佳的，所述第二遮光层33的厚度为0.05μm～1μm，优选的，0.1μm、0.2μm、0.5μm、0.8μm等等，可以保证所述第二遮光层33具有较好的遮光性。

通过本实施例的方法可以得到如图12所示的镜片3，包括：玻璃基板30，所述玻璃基板30包括第一面301以及与所述第一面301相对的第二面302；所述第一面301上设置有所述第一遮光层31，所述第一遮光层31中包括所述第一图形311；所述第二面302上设置有所述的一透明导电层32，所述的一透明导电层32上包括所述第二图形321；所述第二遮光层33电镀形成于所述的一透明导电层32上，所述第二遮光层33具有所述第二图形321，所述第二图形321正对所述第一图形311。

本实施例中的镜片3可以用于制作镜片模组，所述镜片模组可以包括一个或多个所述镜片3的组合，以提高所述镜头的光学性能。

第三实施例

请参阅图13-图16说明本实施例中的镜片。其中，图13-图16是本实用新型第三实施例的镜片在制备过程中的结构示意图。所述第三实施例的镜片与所述第二实施例的镜片基本相同，其区别在于：所述第二实施例的镜片的制备方法还利用所述第一实施例的方法制备第二遮光层，所述电镀金属层22还对应所述第一遮光层，所述图形还对应所述第二图形。

所以，在步骤S22具体包括以下子步骤：

子步骤S221，在所述第一面301上制备另一透明导电层34，如图13所示。较佳的，所述另一透明导电层34为氧化铟锡透明导电层、氧化铟透明导电层、氧化锌透明导电层、氧化锌铝透明导电层、氧化锡透明导电层、氧化锡锑透明导电层或氧化锡氟透明导电层等，可以保证所述另一透明导电层34的透明度以及导电性。但是所述另一透明导电层34并不限于上述几种，只要是透明的导电层，例如有机的透明导电薄膜，亦在本实用新型的思想范围之内。较佳的，所述另一透明导电层34的厚度为0.1μm～2μm，优选的，0.5μm、1μm、1.5μm等等，可以保证所述另一透明导电层34的透明度以及导电性。

子步骤S222，在所述另一透明导电层34上制备所述第一图形311，如图14所示。较佳的，采用刻蚀工艺在所述另一透明导电层34上制备所述第一图形311，例如光刻-干法刻蚀工艺，可以制备出相貌较好的所述第一图形311。较佳的，所述第一图形311的宽度为0.1mm～50mm，优选的，0.5mm、1mm、5mm、10mm、20mm、30mm、40mm等等。

子步骤S223，在所述另一透明导电层34上电镀形成所述第一遮光层31’，所述第一遮光层31’具有所述第一图形311。如图15所示，对所述另一透明导电层34通电，在所述另一透明导电层34上电镀形成第一遮光层31’。因为所述另一透明导电层34具有所述第一图形311，所以，所述第一遮光层31’亦具有所述第一图形311。较佳的，所述第一遮光层31’为电镀铬层、电镀铜层、电镀钨层、电镀铝层、电镀银层、电镀三氧化二铬层、电镀氮化铊层或电镀氧化银层，上述膜层具有较好的遮光性能，但所述第一遮光层31’并不限于上述膜层，只要是具有遮光性与导电性的单质金属膜层或金属氧化物膜层，亦在本实用新型的思想范围之内。较佳的，所述第一遮光层31’的厚度为0.05μm～1μm，优选的，0.1μm、0.2μm、0.5μm、0.8μm等等，可以保证所述第一遮光层31’具有较好的遮光性。

从而如图16所示，在最终形成的镜片3’中，所述第一面301与所述第一遮光层31’之间还设置有另一透明导电层34，所述另一透明导电层34具有所述第一图形311，所述第一遮光层31’电镀于所述另一透明导电层34上。

第四实施例

请参阅图17-图20说明本实施例中的镜片。其中，图17-图20是本实用新型第四实施例的镜片在制备过程中的结构示意图。所述第四实施例的镜片与所述第三实施例的镜片基本相同，其区别在于：在所述第四实施例中，所述第一遮光层和第二遮光层同时电镀形成。具体的，在本实施例中，镜片的制备方法包括：

首先，进行步骤S31，提供一玻璃基板40，所述玻璃基板40包括第一面401以及与所述第一面401相对的第二面402，如图17所示。其中，所述玻璃基板40有透光材料形成，可以为凹透镜或凸透镜等光学组件。在本实施例中，所述玻璃基板40为凹透镜或凸透镜，所述镜片为透镜光圈。在本实用新型的其它实施例中，所述玻璃基板40还可以为平面镜等。在本实施例中，所述玻璃基板40的厚度较佳的为0.1mm～2mm，优选为0.5mm、1mm、1.5mm等。

接着，进行步骤S32，在所述第一面401上制备第一透明导电层41，在所述第二面402上制备第二透明导电层43，所述第一透明导电层41上具有一第一图形411，如图18所示。其中，所述第一图形411的形状并不做具体限制，在本实施例中，所述第一图形411的形状为正方形，在本实用新型的其它实施例中，所述第一图形411的形状还可以为圆形、椭圆形、长方形、三角形、五边形或圆角矩形等形状，所述第一图形411的形状可以根据需要进行设置。

较佳的，所述第一透明导电层41为氧化铟锡透明导电层、氧化铟透明导电层、氧化锌透明导电层、氧化锌铝透明导电层、氧化锡透明导电层、氧化锡锑透明导电层或氧化锡氟透明导电层等，可以保证所述第一透明导电层41的透明度以及导电性。但是所述第一透明导电层41并不限于上述几种，只要是透明的导电层，例如有机的透明导电薄膜，亦在本实用新型的思想范围之内。较佳的，所述第一透明导电层41的厚度为0.1μm～2μm，优选的，0.5μm、1μm、1.5μm等等，可以保证所述第一透明导电层41的透明度以及导电性。较佳的，采用刻蚀工艺在所述第一透明导电层41上制备所述第一图形411，例如光刻-干法刻蚀工艺，可以制备出相貌较好的所述第一图形411。较佳的，所述第一图形411的宽度为0.1mm～50mm，优选的，0.5mm、1mm、5mm、10mm、20mm、30mm、40mm等等。

较佳的，所述第二透明导电层43为氧化铟锡透明导电层、氧化铟透明导电层、氧化锌透明导电层、氧化锌铝透明导电层、氧化锡透明导电层、氧化锡锑透明导电层或氧化锡氟透明导电层等，可以保证所述第二透明导电层43的透明度以及导电性。但是所述第二透明导电层43并不限于上述几种，只要是透明的导电层，例如有机的透明导电薄膜，亦在本实用新型的思想范围之内。较佳的，所述第二透明导电层43的厚度为0.1μm～2μm，优选的，0.5μm、1μm、1.5μm等等，可以保证所述第二透明导电层43的透明度以及导电性。

接着，进行步骤S33，在所述第二透明导电层43上制备正对所述第一图形411的一第二图形431，如图19所示。较佳的，采用刻蚀工艺在所述第二透明导电层43上制备所述第二图形431，例如光刻-干法刻蚀工艺，可以制备出相貌较好的所述第二图形431。较佳的，所述第二图形431的宽度为0.1mm～50mm，优选的，0.5mm、1mm、5mm、10mm、20mm、30mm、40mm等等。其中，所述第二图形431的形状并不做具体限制，在本实施例中，所述第二图形431的形状为正方形，在本实用新型的其它实施例中，所述第二图形431的形状还可以为圆形、椭圆形、长方形、三角形、五边形或圆角矩形等形状，所述第二图形321的形状可以根据需要进行设置。所述第二图形431与第一图形411的形状可以相同可可以不同，当所述第二图形431与第一图形411的形状相同时，可以达到较佳的对准效果。

其中，所述第二图形431正对所述第一图形411，使得光线可以垂直穿过所述第二图形421-所述玻璃基板40-所述第一图形411。同理，因为所述第一透明导电层41和所述第二透明导电层43的材质均透明，所以，透过所述第二透明导电层43和玻璃基板40，更容易找到所述第一图形411的位置，可以对照所述第一图形411的位置，在所述第二透明导电层43上制备出位置精准的所述第二图形421，从而使得光线可以垂直穿过所述第二图形421-所述玻璃基板40-所述第一图形411。

最后，进行步骤S34，在所述第一透明导电层41上电镀形成第一遮光层42，同时在所述第二透明导电层43上电镀形成第二遮光层44因为所述第一透明导电层41具有所述第一图形411，所以，所述第一遮光层42亦具有所述第一图形411。同理，所述第二遮光层44亦具有所述第二图形431。较佳的，所述第一遮光层42和第二遮光层44为电镀铬层、电镀铜层、电镀钨层、电镀铝层、电镀银层、电镀三氧化二铬层、电镀氮化铊层或电镀氧化银层，上述膜层具有较好的遮光性能，但所述第一遮光层42和第二遮光层44并不限于上述膜层，只要是具有遮光性与导电性的单质金属膜层或金属氧化物膜层，亦在本实用新型的思想范围之内。较佳的，所述第一遮光层42的厚度为0.05μm～1μm，优选的，0.1μm、0.2μm、0.5μm、0.8μm等等，可以保证所述第一遮光层42具有较好的遮光性。所述第二遮光层44的厚度为0.05μm～1μm，优选的，0.1μm、0.2μm、0.5μm、0.8μm等等，可以保证所述第二遮光层44具有较好的遮光性。

通过本实施例的方法可以得到如图20所示的镜片4，包括：玻璃基板40，所述玻璃基板40包括第一面401以及与所述第一面401相对的第二面402；所述第一面401上设置有第一透明导电层41，所述第一透明导电层41上包括一第一图形411；第一遮光层42电镀形成于所述第一透明导电层41上，所述第一遮光层42具有所述第一图形411；所述第二面402上设置有所述第二透明导电层43，所述第二透明导电层43上包括一第二图形431；第二遮光层44电镀形成于所述第二透明导电层43上，所述第二遮光层44具有所述第二图形431。

本实施例中的镜片4亦可以用于制作镜片模组，所述镜片模组可以包括一个或多个所述镜片4的组合，以提高所述镜头的光学性能。

综上所述，本实用新型提供一种自对准金属层结构、镜片以及镜片模组，与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：

1.在本实用新型提供的自对准金属层结构中，在所述导电层上制备所述图形，然后进行电镀工艺，对所述导电层通电，所述导电层作为电极，电镀液在所述导电层的表面析出金属，从而在所述导电层上自对准地生长出所述电镀金属层，由于所述导电层具有所述图形，所以，所述电镀金属层亦具有所述图形，避免对金属进行刻蚀，提高所述图形的精准度。

2.在本实用新型提供的镜片中，采用上述自对准金属层结构的制备方法制备遮光层，所述玻璃基板包括第一面以及与所述第一面相对的第二面，所述第一面上具有所述第一图形，在所述第二面上制备一透明导电层，在所述透明导电层上制备正对所述第一图形的一第二图形，因为所述第一透明导电层的材质透明，所以，透过所述透明导电层和玻璃基板，很容易找到所述第一图形的位置，从而对照所述第一图形的位置，在所述透明导电层上制备出位置精准的所述第二图形，从而提高镜片模组的光学性能；并且，在所述透明导电层上制备所述第二图形，相比采用黑光阻制备所述第二图形的方法，所述第二图形的关键尺寸(Critical Dimension，简称CD)精准，所述第二图形的形貌好，使得电镀的所述第二遮光层中的所述第二图形的关键尺寸精准，形貌好。

3.在本实用新型提供的镜片中，采用上述自对准金属层结构的制备方法制备遮光层，可以避免使用所述黑光阻。首先，由于所述黑光阻的粘度高，所述黑光阻容易吸附颗粒(patical)，形成缺陷(defect)，所以，采用上述自对准金属层结构的制备方法制备遮光层，避免使用所述黑光阻，所形成的所述遮光层的缺陷少；其次，当在所述黑光阻上制备所述第二图形时，往往采用手工的方法，手工制备所述第二图形的方法的缺陷率高，采用上述自对准金属层结构的制备方法制备遮光层，避免在所述黑光阻上制备所述第二图形，有利于减少缺陷；接着，所述黑光阻与所述玻璃基板的附着力差，并且，所述黑光阻与其它光学组件(如镜头)的附着力差，所以，采用上述自对准金属层结构的制备方法制备遮光层，电镀的所述遮光层与所述玻璃基板的附着力好，且电镀的所述遮光层与其它光学组件(如镜头)的附着力好。

显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (16)

1.一种自对准金属层结构，其特征在于，包括：

衬底，所述衬底包括一导电层，所述导电层上包括一图形；

电镀金属层，形成于所述导电层上，所述电镀金属层具有所述图形。

2.如权利要求1所述的自对准金属层结构，其特征在于，所述导电层为非金属导电层。

3.如权利要求1所述的自对准金属层结构，其特征在于，所述电镀金属层为电镀铬层、电镀铜层、电镀钨层、电镀铝层、电镀银层、电镀三氧化二铬层、电镀氮化铊层或电镀氧化银层。

4.一种镜片，其特征在于，包括：

玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及与所述第一面相对的第二面；

所述第一面上设置有第一透明导电层，所述第一透明导电层上包括一第一图形；

第一遮光层，位于所述第一透明导电层上，所述第一遮光层具有所述第一图形，所述第一遮光层为电镀金属层；

所述第二面上设置有第二遮光层，所述第二遮光层中包括第二图形，所述第二图形正对所述第一图形。

5.如权利要求4所述的镜片，其特征在于，所述第二面与所述第二遮光层之间还设置有一第二透明导电层，所述第二透明导电层具有所述第二图形，所述第二遮光层电镀形成于所述第二透明导电层上。

6.如权利要求5所述的镜片，其特征在于，所述第二透明导电层为氧化铟锡透明导电层、氧化铟透明导电层、氧化锌透明导电层、氧化锌铝透明导电层、氧化锡透明导电层、氧化锡锑透明导电层或氧化锡氟透明导电层。

7.如权利要求5所述的镜片，其特征在于，所述第二透明导电层的厚度为0.1μm～2μm。

8.如权利要求5所述的镜片，其特征在于，所述第二遮光层为电镀铬层、电镀铜层、电镀钨层、电镀铝层、电镀银层、电镀三氧化二铬层、电镀氮化铊层或电镀氧化银层。

9.如权利要求5所述的镜片，其特征在于，所述第二遮光层的厚度为0.05μm～1μm。

10.如权利要求5所述的镜片，其特征在于，所述第二图形的宽度为0.1mm～50mm。

11.如权利要求4所述的镜片，其特征在于，所述第一透明导电层为氧化铟锡透明导电层、氧化铟透明导电层、氧化锌透明导电层、氧化锌铝透明导电层、氧化锡透明导电层、氧化锡锑透明导电层或氧化锡氟透明导电层。

12.如权利要求4所述的镜片，其特征在于，所述第一透明导电层的厚度为0.1μm～2μm。

13.如权利要求4所述的镜片，其特征在于，所述第一遮光层为电镀铬层、电镀铜层、电镀钨层、电镀铝层、电镀银层、电镀三氧化二铬层、电镀氮化铊层或电镀氧化银层。

14.如权利要求4所述的镜片，其特征在于，所述第一遮光层的厚度为0.05μm～1μm。

15.如权利要求4所述的镜片，其特征在于，所述第一图形的宽度为0.1mm～50mm。

16.一种镜片模组，其特征在于，包括如权利要求4至15中任意一项所述镜片。