CN203786464U - 网板曝光机监控系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种网板曝光机监控系统，用于监控网板曝光机的曝光装置的工作状态，包括：设定曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程，并透过持续侦测所述曝光装置中的光学元件的即时光功率（mW），俾于分析所述侦测到的即时光功率（mW）值与所述曝光参数值不吻合，即可依据设定的异常处理操作流程执行相应的操作，从而达到可在后续轻易筛选出曝光不良品并分析导致曝光不良的原因的目的，同时还能透过控制所述曝光装置自动调整工作状态，以减少曝光不良品的产生，从而提高生产效率。

Description

网板曝光机监控系统

技术领域

本实用新型涉及网板制造领域，特别是涉及一种可改善网板曝光质量的网板曝光机监控系统。

背景技术

随着电路板微型化以及功能强化的发展下，对于线路板的图形导线的宽度及其线距的要求亦越来越高，而于电路板的整体制造过程中，电路板的曝光程序又是其中至关重要的一个步骤。

然而，于现有生产工业中，PCB板经常由于曝光度掌握不够精准，而导致PCB板的导电性及美观性受到影响，因而如何克服上述缺陷，即为本实用新型待解决的技术课题。

实用新型内容

鉴于上述先前技术之种种问题，本实用新型之目的在于提供一种网板曝光机监控系统，可全程监控网板曝光机的曝光装置的工作状态，以轻易筛选出曝光不良品并分析产生曝光不良之原因。

本实用新型之另一目的在于提供一种网板曝光机监控系统，可控制所述曝光装置自动调整工作状态，以确保产品之曝光质量，并延长机台零部件之工作寿命。

为达到上述目的以及其他目的，本实用新型提供一种网板曝光机监控系统，应用于具有曝光装置的网板曝光机，用于监控所述网板曝光机的曝光装置的工作状态，所述系统包括：曝光监控模块，其设于网板曝光机中，所述曝光监控模块具有：曝光参数设定单元，用于提供设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程；曝光侦测器，与所述网板曝光机的曝光装置邻近设置，且所述曝光装置还具有光学元件，所述曝光侦测器用于持续地侦测所述光学元件的即时光功率（mW），并输出所侦测的即时光功率（mW）值；曝光分析单元，与所述曝光侦测器电性连接，用于收集所述曝光侦测器所输出的所述光学元件的即时光功率（mW）值，并于分析所述输出的即时光功率（mW）值与所述曝光参数设定单元所设定的曝光参数值不吻合时，输出异常信号；以及异常处理模块，其设于所述网板曝光机中，并与所述曝光装置电性连接，于接收到所述曝光分析单元所输出的异常信号时，依据所述设定的异常处理操作流程执行相应的操作。

较佳地，藉由所述曝光参数设定单元所设定的异常处理操作流程至少包括：输出警报信号、调整所述光学元件的工作状态以及令所述网板曝光机停止操作的所组群组之其中一者。

较佳地，所述系统还包括：记录模块，记录所述网板曝光机对网板进行曝光的曝光处理信息，且其还于所述曝光分析单元输出异常信号时，记录所述输出的异常信号所对应的曝光作业数据。其中，所述曝光作业数据包括：输出所述异常信号的时间及在输出所述异常信号时间下的光学元件的光功率（mW）值所组群组之其中一者。

较佳地，所述系统中的曝光参数设定单元还提供客制化标准作业程序(SOP)测光功能的设定，用以供用户设定其所欲输入的光能量值(mJ)，以在曝光作业时，所述曝光分析单元依据用户所设定的光能量值，以线性处理方式来控制累积光能量。此外，所述曝光参数设定单元还提供二次曝光的功能设定，且所述光学元件的光路径中设有一可动式滤片，所述曝光分析单元依据曝光参数设定单元所设定的二次曝光的功能，于曝光作业中，使光学元件提供预定波长，待一预定时间后，控制所述滤片的移动来调整所述光学元件所提供的所述预定波长，而达到以单一波长进行多重波长的曝光。

较佳地，所述系统还设有数据传输接口，藉由所述数据传输接口供用户近端或远程设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程。

较佳地，所述网板曝光机监控系统还包括：真空监控模块，用于侦测所述曝光装置的曝光室内的真空压力值，所述真空监控模块具有：真空参数设定单元，用于提供设定所述曝光室内的真空参数值及其对应的异常处理操作流程；压力传感器，用于感测所述曝光室内的真空压力，并输出所感测的真空压力值；以及真空分析单元，其与该压力传感器电性连接，用于接收所述压力传感器所输出的真空压力值，并于分析所述输出的真空压力值与所述真空参数设定单元所设定的真空参数值不吻合时，输出异常信号。较佳地，所述异常处理模块还包括：于接收到所述真空分析单元所输出的异常信号时，依据所述真空参数设定单元所设定的异常处理操作流程执行相应的操作。再者，所述异常处理模块判定在一预定时间真空压力无法到达所设定的真空参数值时，停止曝光作业及发出警报状态消息。

较佳地，所述系统还包括：温度监控模块，其具有：温度参数设定单元，用于提供设定所述曝光装置内的光学元件的工作温度参数值；散热单元，设于所述曝光装置上，用于调降所述光学元件的工作温度；温度传感器，用于感测所述光学元件当前的工作温度，并输出所感测到的工作温度值；以及温控单元，与该散热单元及温度传感器电性连接，用于接收所述温度传感器所输出的工作温度值，并于分析所述输出的工作温度值高于所述温度参数设定单元所设定的工作温度参数值时，启动所述散热单元对所述光学元件实施降温操作。

较佳地，所述系统还包括与所述温控单元电性连接的接触式温度传感器以及与所述温控单元电性连接的玻璃台面散热单元，该玻璃台面散热单元邻近于该曝光玻璃台面玻璃设置，且所述接触式温度传感器接触于所述曝光玻璃台面，用以感测曝光玻璃台面的温度，当所述温控单元分析出所述接触式温度传感器所输出的温度值高于所述温度参数设定单元所设定的工作温度参数值时，启动所述网板曝光机内的散热单元对所述曝光玻璃台面实施降温操作。此外，所述异常处理模块判定在一预定时间下未能使所述曝光玻璃台面温度降温时，停止曝光作业及发出警报状态消息。

相较于现有技术，本实用新型可侦测网板曝光机的曝光装置的工作状态，俾于分析机台运作发生异常时输出警示信号，故可轻易找出在机台曝光不良情况下生产出的不良品。再者，本实用新型还可于侦测机台曝光装置产生曝光不良的问题时，透过默认的异常处理操作流程控制机台的曝光装置自动调整工作状态，以减少曝光不良品的产生。还有，本实用新型更可供用户于网板曝光机本端、近端或远程的输入方式来设定曝光作业所需的参数，提高了曝光作业的便利性。另外，因应用户的使用需求可供用户自行设定所需的灯管光能量值(mJ)，提供一种客制化的标准作业程序的功能设定。

附图说明

图1用以说明本实用新型的网板曝光机监控系统的第一实施例系统架构图。

图2用以说明本实用新型的网板曝光机监控系统的第二实施例系统架构图。

图3用以说明本实用新型的网板曝光机监控系统的第三实施例系统架构图。

图4用以说明本实用新型的网板曝光机监控系统的第四实施例系统架构图。

图5为应用所述图1的系统架构图所执行的曝光监控运作流程图。

图6为应用所述图3的系统架构图所执行的真空监控运作流程图。

图7为应用所述图4的系统架构图所执行的温度监控运作流程图。

组件标号说明

100,100A,100B,100C 网板曝光机监控系统

110                曝光监控模块

111                曝光参数设定单元

113                曝光侦测器

115                曝光分析单元

120                异常处理模块

130                记录模块

150                真空监控模块

151                真空参数设定单元

153                压力传感器

155                真空分析单元

160                温度监控模块

161                温度参数设定单元

163                散热单元

165                温度传感器

167                温控单元

200,200A,200B,200C 网板曝光机

201                网板

210                曝光装置

211                光学元件

300                信息处理设备

S101～S107         步骤

S201～S207         步骤

S301～S305         步骤

具体实施方式

以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。

请参阅图1，其系本实用新型的网板曝光机监控系统的第一实施例系统架构图，本实用新型的网板曝光机监控系统100应用于具有曝光装置210的网板曝光机200，用于监控所述网板曝光机200的曝光装置210的工作状态，如图1所示，所述系统100包括：曝光监控模块110及异常处理模块120。

曝光监控模块110具有曝光参数设定单元111、曝光侦测器113及曝光分析单元115。

曝光参数设定单元111用于提供人机操作接口，供用户针对所述网板曝光机200的曝光装置210设定相应的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程，于本实施例中，所述异常处理操作流程的设定是指当所述系统100侦测到曝光装置210的曝光值与所述设定的参数值不吻合时，针对所述网板曝光机200所执行的一系列后续处理操作，其中，所述后续处理操作可包括：输出警报信号、调整所述曝光装置210的工作状态以及令所述网板曝光机200停止曝光操作的所组群组的其中一者（请容后续详述）。需说明的是，所述曝光参数设定单元111所提供的人机操作接口更包括：操作权限的控制功能，藉此以有效保护特定网板的曝光参数的信息安全，亦能避免人员误操作的异常情事发生。

曝光侦测器113系与该网板曝光机200之曝光装置210邻近设置，其中，所述曝光装置210中复设置有光学元件211（例如灯管），所述曝光侦测器113用于侦测所述光学元件211的光功率（mW），并输出所侦测的光功率（mW）值。最佳实施例中，所述曝光侦测器113在曝光过程中持续地侦测所述光学元件211的即时光功率（mW），并输出所侦测的即时光功率（mW）值。

曝光分析单元115用于收集所述曝光侦测器113所输出的光学元件211的即时光功率（mW）值，分析所述输出的即时光功率（mW）值是否与使用者藉由所述曝光参数设定单元111所设定的曝光参数值相吻合，并于分析上述两者不吻合时即输出异常信号。

异常处理模块120与该曝光装置210电性连接，用于当接收到所述曝光分析单元115所输出的异常信号时，依据前述藉由所述曝光参数设定单元111所设定的异常处理操作流程执行相应的操作，例如，若所述曝光分析单元115分析所述输出的即时光功率（mW）值与所述曝光参数值的偏差系处于允许范围内时，所述异常处理模块120则可仅输出一警报信号以提醒操作人员注意；若所述曝光分析单元115分析于一时间段内所持续收集到的即时光功率（mW）值均相较于曝光参数值偏弱时，可判断所述光学元件211开始发生老化现象，此时可令所述异常处理模块120自动调整所述光学元件211的工作状态，例如，控制所述光学元件211适当延长曝光时间以进行曝光补偿，以使实际的曝光度仍能符合所述曝光参数值的设定要求，再者，若所述曝光分析单元115分析所述输出的即时光功率（mW）值与所述曝光参数值的偏差持续地超过警戒范围时，则可初步判断为所述光学元件211已经老化且需更换，即令所述异常处理模块120强制所述网板曝光机200停止曝光操作。因此可知，即使灯管会随着使用时间及环境变化产生光功率（mW）改变，但藉由本实用新型对灯管的实时侦测，在灯管光功率（mW）改变时，用户可得到即时光功率（mW）变化数据。

在此须特别补充说明的是，前述曝光参数设定单元111除可供用户设定所需的曝光时间以及累积光能量(mJ)等曝光参数值外，更提供二次曝光的功能设定。前述所谓二次曝光的功能，是指曝光监控模块110会依据所述二次曝光的功能设定，控制曝光装置210在曝光过程中提供两种光波长，具体而言，因特定网板的涂布材料，其在单一波段进行曝光后，会使所述网板曝光后的线径边际不平整，而这种不平整的线径边际，易导致不良的电气特性，例如两条接近的导线间易产生短路，而本实用新型的网板曝光机监控系统即可解决此种问题，详而言的，本实用新型的曝光装置210中，于所述光学元件211的光路径中设有一可动式滤片(在此未予以图式)，当所述光学元件211为一提供高波长的灯管时，即所述高波长作为第一次曝光的光波段，然，将所述滤片移动到所述光学元件211进行曝光作业的光路径中，使所述光学元件211光路径的波长改变，而所述改变后的波长将作为第二次曝光的光波段。因此，所述曝光分析单元111依据曝光参数设定单元111所设定的二次曝光的功能，控制所述滤片的移动，而达到使用单一波长灯管进行多重波长的曝光，而解决前述网板曝光后的线径边际不平整的问题。另外，为突显本实用新型网板曝光的效果，可在所述光学元件211的出光路径上设置一凸透镜(在此未予以图示)，以使穿过的光线均匀发散，令光线的行进方向趋于一致。

再者，现有的网板印刷机对于灯管光能量检测方式，用户大多是采用外接式的光能量检测仪进行灯管检测，因应此检测方式，本实用新型网板曝光机监控系统100更提供一种客制化标准作业程序(SOP)测光功能的设定，具体而言，用户在使用外接式的光能量检测仪量测出本端光学元件211的光能量值(mJ)后，可透过所述曝光参数设定单元111进一步设定所述用户其所量测到的光能量值(mJ)，即表示用户开启客制化标准作业程序测光功能的设定，以在曝光作业时，所述曝光分析单元115依据用户所设定的光能量值，以线性处理方式来控制累积光能量，即累积光能量(mJ)=曝光时间*累积光功率(mW)，藉由前述需求参数的设定，来达到有效管理网板及灯管质量管控。

还有要再补充说明的一点是，本实用新型的网板曝光机监控系统还设有输出入接口(在此未予以图标)，例如包括按键或键盘的输入单元以及显示屏幕等，以供用户设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程，然，除了可藉由网板曝光机监控系统本端的输出入接口进行用户设定外，所述网板曝光机监控系统还设有数据传输接口(在此未予以图示)，用以外接例如计算机装置般的信息处理设备(在此未予以图标)，依据所述数据传输接口的传输通信规格，所述信息处理设备相较于网板曝光机200可以是近端设备或远程设备，因此，藉由所述数据传输接口可近端或远程设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程。

请参阅图2，其用以说明本实用新型的网板曝光机监控系统的第二实施例系统架构图。所述第二实施例与前述第一实施例的系统架构大致相同，差异仅在于所述第二实施例的网板曝光机监控系统100A更包括：记录模块130，为避免重复叙述，以下仅就与前述差异之处进行具体说明。于本实施例中，记录模块130用以记录所述网板曝光机200A对网板201进行曝光的曝光处理信息，所述曝光处理信息可包括：曝光组别数据、曝光参数以及曝光时间等数据，更甚者，于所述曝光分析单元115输出异常信号时，还可进一步记录出所述输出的异常信号所对应的曝光作业数据，所述曝光作业数据例如：在输出所述异常信号时间下的光学元件211的光功率（mW）值及/或输出所述异常信号的时间(也就是输出所述异常信号的时间及在输出所述异常信号时间下的光学元件的光功率（mW）值所组群组之其中一者)，且所述曝光作业数据更可包括：输出所述异常信号时间下所述网板曝光机200A所曝光的网板201的组别识别数据(例如第几组别以及其为所述几组别的第几个网板)；再者，所述记录模块130所生成的所有曝光处理信息或曝光作业数据可加载到信息处理设备300中储存，以供相关人员进行后续追踪或查核等处理。

补充说明的是，所述信息处理设备300可例如为与所述网板曝光机200A电性连接的计算机设备，且所述计算机设备可透过网络系统与远程的另一个电子设备连接，俾供位于远程的管理人员针对所曝光出的网板201进行质量的回溯及管控。具体而言，远程管理人员可透过所储存的曝光作业数据，以取得发生所述异常信号时间下所曝光的网板201，查询所述曝光时间所对应的异常信息，进而找出所述网板201产生瑕疵的原因为何，例如：电压波动、光学元件老化等原因，因此，本实用新型可轻易找出在在光学元件211的即时光功率（mW）值产生波动的时段下所曝光出的印刷电路不良品。

图3用以说明本实用新型的网板曝光机监控系统的第三实施例系统架构图。所述第三实施例与前述第二实施例的系统架构大致相同，差异仅在于所述第三实施例的网板曝光机监控系统100B更包括：真空监控模块150，为避免重复叙述，以下仅就与前述差异的处进行具体说明。于本实施例的网络曝光机200B中，所述真空监控模块150用于侦测所述曝光装置210的曝光室内的真空压力值以及真空源的真空压力值，所述真空监控模块150包括：真空参数设定单元151、压力传感器153以及真空分析单元155。真空参数设定单元151用于提供人机操作接口，俾供用户针对所述曝光室内的真空压力设定所需的真空参数值及其对应的异常处理操作流程。压力传感器153用于感测所述曝光室内的真空压力，并输出所感测的真空压力值，于本实施例中，所述压力传感器153为多个，分别用以感测曝光室的真空压力以及真空源真空压力，就前述曝光室的真空压力而言，所述压力传感器可设于所述网板曝光机的操作盖盖缘四周的橡胶压条中或所述操作盖内面上，藉此可感测所述网板曝光机的曝光室中的网板及底片真空数值以及橡胶压条气密性；就前述真空源的真空压力而言，所述压力传感器可设于所述网板曝光机内的真空帮浦、真空管路、电磁阀控制单元等，以感测所述网板曝光机内的抽真空组件的作动状态是否正常。真空分析单元155用于接收所述压力传感器153所输出的真空压力值，并于分析所述输出的真空压力值与所述真空参数设定单元151所设定的真空参数值不吻合时，输出异常信号。俾令异常处理模块120于接收到所述真空分析单元155所输出的异常信号时，依据所述设定的异常处理操作流程执行相应的操作，例如：若判定在一预定时间或真空压力一直无法到达所设定的真空参数值时，所述异常处理模块120停止曝光作业及发出警报状态消息。

图4用以说明本实用新型的网板曝光机监控系统的第四实施例系统架构图。所述第四实施例与前述第二实施例的系统架构大致相同，差异仅在于所述第四实施例的网板曝光机监控系统100C更包括：温度监控模块160，须提出说明的是，所述温度监控模块160的应用架构并不限于图2所示，本实施例中的温度监控模块160亦可增设于图3或图1所示的系统架构中执行运作。为避免重复叙述，以下仅就本实施例中的温度监控模块160进行具体说明。于本实施例的网板曝光机200C中，所述温度监控模块160还具有温度参数设定单元161、邻近于所述光学元件211设置的散热单元163、温度传感器165、以及温控单元167。温度参数设定单元161用于提供设定所述曝光装置210内的光学元件211的工作温度参数值。散热单元163用于调降所述光学元件211的工作温度。温度传感器165用于感测所述光学元件211当前的工作温度，并输出所感测到的工作温度值。温控单元167则用于接收所述温度传感器165所输出的工作温度值，并于分析所述输出的工作温度值高于所述温度参数设定单元161所设定的工作温度参数值时，启动所述散热单元163对所述光学元件211实施降温操作；此外，若温控单元167在一预定时间下未能使光学元件211温度降温时，所述异常处理模块120则停止曝光作业及发出警报状态消息，藉此避免所述光学元件211运作温度过高，因而可延长所述光学元件211的工作寿命并降低硬件组件更换成本。

再者，在此须特别补充说明的是，本实施例中的被温度监控的对象并不限于曝光装置210内的光学元件211，还可针对曝光玻璃台面的温度进行监控，具体而言，用以承载底片以及网板的曝光玻璃台面(在此未予以图示)因紫外线光的持续照射下，其温度会不断上升，为避免底片在长时间的曝光操作下因所述曝光玻璃台面温度过高而发生变形，本实施例中可于所述曝光玻璃台面上设置温度传感器，最佳实施例中，所述温度传感器为一接触式温度传感器，其以触压方式与所述曝光玻璃台面接触，因此，当所述温控单元167分析出所述接触式温度传感器所输出的温度值高于所述温度参数设定单元161所设定的工作温度参数值时(此时，所述异常处理模块120亦可发出警报状态消息通知用户)，启动所述网板曝光机200C内的散热单元(与前述用以使所述光学元件211温度降温的散热单元163为不同的对象，也就是说，于网板曝光机200C中，邻近于所述曝光玻璃台面设置有至少一个玻璃台面散热单元)对所述曝光玻璃台面实施降温操作，而其中，更利用二维线性方程式计算出温度与曝（玻璃台面温度变化）的关系，以有效达到底片不会在长时间曝光操作下发生变形。当然，当所述温控单元167在启动所述散热单元163对所述曝光玻璃台面实施降温操作后，仍分析出所述接触式温度传感器所输出的温度值仍高于所述温度参数设定单元161所设定的工作温度参数值时，所述异常处理模块120可发出警报状态消息通知用户。

图5为应用所述图1的系统架构图所执行的曝光监控运作流程图。如图5所示，首先执行步骤S101，网板曝光机监控系统提供人机操作接口，俾供设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程，于本实施例中，所述设定的异常处理操作流程至少包括：输出警报信号、调整所述光学元件的工作状态以及令所述网板曝光机停止操作的所组群组的其中一者，接着进行步骤S103。

于步骤S103中，网板曝光机监控系统侦测所述曝光装置中光学元件的即时光功率（mW），并输出所侦测的即时光功率（mW）值，接着进行步骤S105。

于步骤S105中，网板曝光机监控系统收集所输出的即时光功率（mW）值，分析所述输出的即时光功率（mW）值是否与所述设定的曝光参数值相吻合，并于分析所述两者不吻合时，输出异常信号，接着进行步骤S107。

于步骤S107中，网板曝光机监控系统响应所述输出的异常信号，并依据所述设定的异常处理操作流程执行相应的操作，具体而言，若分析所述输出的即时光功率（mW）值与所述曝光参数值的偏差系处于允许范围内时，则可仅输出一警报信号以提醒操作人员；若分析于一时间段内所持续收集到的即时光功率（mW）值相较于曝光参数值偏弱时，则可判断所述光学元件开始老化，此时可自动调整所述光学元件的工作状态，例如控制所述光学元件适当延长曝光时间进行曝光补偿以使实际的曝光度仍能符合所述曝光参数值的设定要求，若分析所述输出的即时光功率（mW）值与所述曝光参数值的偏差系持续地超过警戒范围时，则可判断为所述光学元件211已经老化需更换，即强制所述网板曝光机停止曝光操作。

较佳地，图1所示本实用新型的网板曝光机监控系统100在对曝光装置210执行曝光监控的过程中更可执行下述步骤：网板曝光机监控系统记录所述输出的异常信号所对应的曝光作业数据，所述曝光作业数据例如：输出所述异常信号的时间及/或输出所述异常信号时间下的光学元件的即时光功率（mW）值；此外，所述网板曝光机监控系统100针对所述网板曝光机200所曝光的网板标识一唯一的识别卷标，于所述识别卷标内记录有所述网板对应的曝光时间，藉以提供管理人员针对所曝光出的网板进行质量管控，可轻易找出在曝光度不良的情况下所曝光出的印刷电路不良品。

请继续参阅图6，其为应用所述图3的系统架构图所执行的真空监控运作流程图。如图6所示，首先进行步骤S201，设定所述曝光室内的真空参数值及其对应的异常处理操作流程，接着进行步骤S203。

于步骤S203中，网板曝光机监控系统感测所述曝光室内的真空压力，并输出所感测的真空压力值，接着进行步骤S205。

于步骤S205中，网板曝光机监控系统分析所述输出的真空压力值与所述设定的真空参数值是否吻合，并于分析结果为两者不吻合时即输出异常信号，接着进行步骤S207。

于步骤S207中，响应所述输出的异常信号，并依据所述设定的异常处理操作流程执行相应的操作。

接着，请参阅图7，其为应用图4的系统架构图所执行的温度监控运作流程图。如图7所示，首先进行步骤S301，设定所述曝光装置内的光学元件的工作温度参数值，接着进行步骤S303。

于步骤S303中，网板曝光机监控系统感测所述光学元件当前的工作温度，并输出所感测到的工作温度值，接着进行步骤S305。

于步骤S305中，网板曝光机监控系统接收所述输出的工作温度值，并于分析所述输出的工作温度值高于所述设定的工作温度参数值时，启动设于所述曝光装置上的散热单元，以针对所述光学元件实施降温操作，以防止所述光学元件的运作温度过高而损坏。

综上所述，本实用新型的网板曝光机监控系统透过全程侦测网板曝光机的曝光装置的工作状态，包括：光学元件的即时光功率（mW）值及当前工作温度，以及曝光室的真空压力值，俾于分析上述各项工作指标与预设的工作参数值不吻合时，可实时发出警信以提醒操作人员，更可依据默认的异常操作处理流程来控制机台上各零部件自动调整工作状态，以减少曝光不良品的产生，亦能延长机台零部件的工作寿命，藉以降低生产成本。

上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。

Claims (16)

1.一种网板曝光机监控系统，应用于具有曝光装置的网板曝光机，用于监控所述网板曝光机的曝光装置的工作状态，其特征在于，所述系统包括：

曝光监控模块，其设于网板曝光机中，所述曝光监控模块具有：

曝光参数设定单元，用于提供设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程；

曝光侦测器，与所述网板曝光机的曝光装置邻近设置，且所述曝光装置还具有光学元件，所述曝光侦测器用于持续地侦测所述光学元件的即时光功率，并输出所侦测的即时光功率值；及

曝光分析单元，与所述曝光侦测器电性连接，用于收集所述曝光侦测器所输出的所述光学元件的即时光功率值，并于分析所述输出的即时光功率值与所述曝光参数设定单元所设定的曝光参数值不吻合时，输出异常信号；以及

异常处理模块，其设于所述网板曝光机中，并与所述曝光装置电性连接，于接收到所述曝光分析单元所输出的异常信号时，依据所述设定的异常处理操作流程执行相应的操作。

2.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，藉由所述曝光参数设定单元所设定的异常处理操作流程至少包括：输出警报信号、调整所述光学元件的工作状态以及令所述网板曝光机停止操作的所组群组之其中一者。

3.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，还包括：记录模块，用以记录所述网板曝光机对网板进行曝光的曝光处理信息。

4.根据权利要求3所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述记录模块还于所述曝光分析单元输出异常信号时，记录所述输出的异常信号所对应的曝光作业数据，所述曝光作业数据包括：输出所述异常信号的时间及在输出所述异常信号时间下的光学元件的光功率值所组群组之其中一者。

5.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述曝光参数设定单元还提供客制化标准作业程序测光功能的设定，用以供用户设定其所欲输入的光能量值，以在曝光作业时，所述曝光分析单元依据用户所设定的光能量值，以线性处理方式来控制累积光能量。

6.根据权利要求1或5所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述曝光参数设定单元还提供二次曝光的功能设定，且所述光学元件的光路径中设有一可动式滤片，所述曝光分析单元依据曝光参数设定单元所设定的二次曝光的功能，于曝光作业中，使光学元件提供预定波长，待一预定时间后，控制所述滤片的移动来调整所述光学元件所提供的所述预定波长，而达到以单一波长进行多重波长的曝光。

7.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，其还设有数据传输接口，藉由所述数据传输接口供用户近端或远程设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程。

8.根据权利要求第1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述光学元件的出光路径上设置一凸透镜，以使穿过的光线均匀发散。

9.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，还包括：真空监控模块，所述真空监控模块具有：

真空参数设定单元，用于提供设定所述曝光室内的真空参数值及其对应的异常处理操作流程；

压力传感器，用于感测所述曝光室内的真空压力，并输出所感测的真空压力值；以及

真空分析单元，其与该压力传感器电性连接，用于接收所述压力传感器所输出的真空压力值，并于分析所述输出的真空压力值与所述真空参数设定单元所设定的真空参数值不吻合时，输出异常信号。

10.根据权利要求9所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述异常处理模块还包括：于接收到所述真空分析单元所输出的异常信号时，依据所述真空参数设定单元所设定的异常处理操作流程执行相应的操作。

11.根据权利要求10所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述压力传感器为多个，且分别设于所述网板曝光机的曝光室及真空源中，分别用以感测所述网板曝光机内的真空帮浦真空度、设于所述网板曝光机的曝光室中的网板、底片真空数值以及橡胶压条气密性以及设于网板曝光机内的抽真空组件的状态。

12.根据权利要求9所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述异常处理模块判定在一预定时间真空压力无法到达所设定的真空参数值时，停止曝光作业及发出警报状态消息。

13.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，还包括：温度监控模块，其具有：

温度参数设定单元，用于提供设定所述曝光装置内的光学元件的工作温度参数值；

散热单元，邻近于所述光学元件设置，用于调降所述光学元件的工作温度；

温度传感器，用于感测所述光学元件当前的工作温度，并输出所感测到的工作温度值；以及

温控单元，与该散热单元及温度传感器电性连接，用于接收所述温度传感器所输出的工作温度值，并于分析所述输出的工作温度值高于所述温度参数设定单元所设定的工作温度参数值时，启动所述散热单元对所述光学元件实施降温操作。

14.根据权利要求13所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述异常处理模块判定在一预定时间下未能使所述光学元件温度降温时，停止曝光作业及发出警报状态消息。

15.根据权利要求13所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，还包括：与所述温控单元电性连接的接触式温度传感器以及与所述温控单元电性连接的玻璃台面散热单元，该玻璃台面散热单元邻近于该曝光玻璃台面玻璃设置，且所述接触式温度传感器接触于所述曝光玻璃台面，用以感测曝光玻璃台面的温度，当所述温控单元分析出所述接触式温度传感器所输出的温度值高于所述温度参数设定单元所设定的工作温度参数值时，启动所述玻璃台面散热单元对所述曝光玻璃台面实施降温操作。

16.根据权利要求15所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述异常处理模块判定在一预定时间下未能使所述曝光玻璃台面温度降温时，停止曝光作业及发出警报状态消息。