CN203636212U - 一种真空式激光刻蚀吸附平台 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种真空式激光刻蚀吸附平台，包括真空泵和工作台，所述真空泵设置在工作台的下方，其中，所述真空泵为复合分子泵，所述工作台包括金属底板，所述金属底板上开设有沟槽，所述金属底板上设有聚甲醛板，所述聚甲醛板上设置有多个吸附孔，所述吸附孔和沟槽相互贯通并和真空泵的吸风口相连。本实用新型提供的真空式激光刻蚀吸附平台，通过在聚甲醛板和金属底板上分别设置吸附孔和沟槽，以便真空泵抽取工作台内部气体后形成一个负压空间，从而加大吸附力，大幅降低了因工作台吸力不足造成加工材料浪费过多、加工偏位以及产品不良等缺陷。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种激光刻蚀吸附平台，尤其涉及一种真空式激光刻蚀吸附平台，属于激光微加工技术领域。
背景技术
在PET薄膜导电膜层放置固定并加工的放料平台中，现有技术是利用“潮汐原理”并采用真空发生器排空平台内的气体，从而使平台内部形成负压来吸附待加工材料。所谓真空发生器在泵体内形成高速气流，气体的流动速度越高，气体压力就越低，因此就具有越强的抽吸能力。但是由于真空发生器泵体体积有限，一般流量均比较小，这就导致工作过程中，平台吸附反应慢、吸附力小等缺陷，造成生产效率及成品率均比较低。因此，针对现有的不足，有必要提供一种新的技术以提高生产效率和成品率。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种真空式激光刻蚀吸附平台，加大吸附力，提高生产效率。
本实用新型为解决上述技术问题而采用的技术方案是提供一种真空式激光刻蚀吸附平台，包括真空泵和工作台，所述真空泵设置在工作台的下方，其中，所述真空泵为复合分子泵，所述工作台包括金属底板，所述金属底板上开设有沟槽，所述金属底板上设有聚甲醛板，所述聚甲醛板上设置有多个吸附孔，所述吸附孔和沟槽相互贯通并和真空泵的吸风口相连。
上述的真空式激光刻蚀吸附平台，其中，所述吸附孔按阵列方式均匀排列。
上述的真空式激光刻蚀吸附平台，其中，所述吸附孔是孔径为0.5mm～4mm的圆孔，相邻两个吸附孔之间的间距为2mm～20mm。
上述的真空式激光刻蚀吸附平台，其中，所述工作台的平面度为0.05mm以内。
本实用新型对比现有技术有如下的有益效果：本实用新型提供的真空式激光刻蚀吸附平台，通过在聚甲醛板和金属底板上分别设置吸附孔和沟槽，以便真空泵抽取工作台内部气体后形成一个负压空间，从而加大吸附力，大幅降低了因工作台吸力不足造成加工材料浪费过多、加工偏位以及产品不良等缺陷。此外，本实用新型通过缩小吸附孔孔径、增加吸附孔数量、增大工作台底板内部气路的截面面积，并且利用真空泵的流量及压力均较大的优点，从而更好地将待加工材料牢牢地吸附在工作台上，进一步提高了生产效率。
附图说明
图1为本实用新型的真空式激光刻蚀吸附平台整体结构示意图；
图2为本实用新型的吸附平台结构示意图。
图中：
1 真空泵 2 工作台 3 聚甲醛板
4 金属底板 5 吸附孔
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的描述。
图1为本实用新型的真空式激光刻蚀吸附平台整体结构示意图；图2为本实用新型的吸附平台结构示意图。
请参见图1和图2，本实用新型提供的真空式激光刻蚀吸附平台包括真空泵1和工作台2，所述真空泵1设置在工作台2的下方，其中，所述真空泵1为复合分子泵，所述工作台2包括金属底板4，所述金属底板4上开设有沟槽，所述金属底板4上设有聚甲醛板3，所述聚甲醛板3上设置有多个吸附孔5，所述吸附孔5和沟槽相互贯通并和真空泵1的吸风口相连。
本实用新型提供的真空式激光刻蚀吸附平台，通过在POM板3和金属底板4上分别设置吸附孔5和沟槽，以便真空泵抽取工作台内部气体后形成一个负压空间，从而吸附待加工物料。聚甲醛板(POM板)：英文名称Polyoxymethylene，俗称赛钢板，是用POM塑料粒子通过挤出机高温挤出，经过相应的模具口挤出得到不同厚度的板材，是一种高熔点、高结晶性的热塑性工程塑料。因POM板所具有的良好特性，非常适合在脉冲激光刻蚀中作为加工平台，用来进行精密定位。
本实用新型提供的真空式激光刻蚀吸附平台，所述真空泵1优选为复合分子泵，分子泵在国外半导体领域里的许多工艺场合是用来代替低温泵，尤其是溅射、刻蚀和LCVD等装置都采用复合分子泵和牵引泵作为主泵；所述吸附孔5优选按阵列方式均匀排列；比如所述吸附孔5优选孔径为0.5mm～4mm的圆孔，相邻两个吸附孔5之间的间距为2mm～20mm；所述工作台2的表面尽量光滑，如平台平面度精度最好在0.05mm以内。通过缩小吸附孔5孔径、增加吸附孔5数量、增大工作台金属底板4内部气路的截面面积，并且利用真空泵的流量及压力均较大的优点，从而更好地将待加工材料牢牢地吸附在工作台上。
虽然本实用新型已以较佳实施例揭示如上，然其并非用以限定本实用新型，任何本领域技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作些许的修改和完善，因此本实用新型的保护范围当以权利要求书所界定的为准。
Claims (4)
1.一种真空式激光刻蚀吸附平台，包括真空泵(1)和工作台(2)，所述真空泵(1)设置在工作台(2)的下方，其特征在于，所述真空泵(1)为复合分子泵，所述工作台(2)包括金属底板(4)，所述金属底板(4)上开设有沟槽，所述金属底板(4)上设有聚甲醛板(3)，所述聚甲醛板(3)上设置有多个吸附孔(5)，所述吸附孔(5)和沟槽相互贯通并和真空泵(1)的吸风口相连。
2.如权利要求1所述的真空式激光刻蚀吸附平台，其特征在于，所述吸附孔(5)按阵列方式均匀排列。
3.如权利要求2所述的真空式激光刻蚀吸附平台，其特征在于，所述吸附孔(5)是孔径为0.5mm～4mm的圆孔，相邻两个吸附孔(5)之间的间距为2mm～20mm。
4.如权利要求2所述的真空式激光刻蚀吸附平台，其特征在于，所述工作台(2)的平面度为0.05mm以内。
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| CN108176929A (zh) * | 2017-12-16 | 2018-06-19 | 武汉吉事达科技股份有限公司 | 水磨石材质吸附平台的制作方法 |
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Addressee: SUZHOU LUMI LASER TECHNOLOGY CO.,LTD. Person in charge of patents Document name: Notice of Termination of Patent Rights |
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