CN203618208U - 一种新型等离子体处理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种新型等离子体处理装置，包括外壳、电源和电极组件，所述外壳上方可拆卸设置有盖体，所述外壳壁体上设置有用于反应气体进入外壳内的气体入口和用于抽真空的抽气口，所述外壳内设置有反应腔室，所述电极组件为设置于同一平面的螺旋状电极，所述螺旋状电极两端分别与所述电源电连接。本实用新型中电极组件为同一平面的螺旋状电极，螺旋状电极通电并在附近形成高频电场，高频电场的空间相较于现有技术中的大并且在这高频电场的空间内无任何干扰，提高处理效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子体处理装置，尤其涉及一种新型等离子体处理装置。
背景技术
低温等离子体技术作为一种新的表面改性手段，能快速、高效、无污染地改善纺织材料的表面性能，赋予新的特征，同时又不改变材料的本体特点，已经越来越被世界各国的研究人员所重视，等离子体表面处理是利用气体放电产生的等离子体对材料表面进行物理和化学反应。参与反应的有激发态粒子、自由基和离子，也包括等离子体辐射紫外线的作用。通过表面反应有可能在表面引入特定官能团，产生表面活化和刻蚀，形成交联结构或生成表面自由基。这些作用一般不是单一的，往往某种作用为主，几种作用并存。正是这些作用决定了等离子体表面处理的有效性。
现有技术中，通常采用一对平板电极作为电极组件，材料在电极组件之间进行表面处理，由于平板电极结构的局限性，材料的反应空间小，效率低。
因此，亟需一种新型等离子体处理装置。
实用新型内容
本实用新型的目的是克服现有技术存在的缺陷，提供一种新型等离子体处理装置。
实现本实用新型目的的技术方案是：一种新型等离子体处理装置，包括外壳、电源和电极组件，所述外壳上方可拆卸设置有盖体，所述外壳壁体上设置有用于反应气体进入外壳内的气体入口和用于抽真空的抽气口，所述外壳内设置有反应腔室，所述电极组件为设置于同一平面的螺旋状电极，所述螺旋状电极两端分别与所述电源电连接。
进一步的，所述盖体为玻璃盖体。
进一步的，还包括震动盘和与所述震动盘连接的震动机构，所述震动盘设置于所述反应腔室底部。
本实用新型具有积极的效果：本实用新型中电极组件为同一平面的螺旋状电极，螺旋状电极通电并在附近形成高频电场，高频电场的空间相较于现有技术中的大并且在这高频电场的空间内无任何干扰，提高处理效率。
附图说明
为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中：
图1为本实用新型第一实施例的结构示意图；
图2为本实用新型第二实施例的结构示意图。
其中：1、震动机构，2、震动盘，3、反应腔室，4、盖体，5、电极组件，6、电源，7、外壳。
具体实施方式
实施例1
如图1所示，本实用新型第一实施例提供一种新型等离子体处理装置，包括外壳7、电源6和电极组件5，外壳7上方可拆卸设置有盖体4，外壳7壁体上设置有用于反应气体进入外壳7内的气体入口和用于抽真空的抽气口，外壳7内设置有反应腔室3，电极组件5为设置于同一平面的螺旋状电极，螺旋状电极两端分别与电源6电连接。
本实施例中电极组件5为同一平面的螺旋状电极，螺旋状电极通电并在附近形成高频电场，高频电场的空间相较于现有技术中的大并且在这高频电场的空间内无任何干扰，提高处理效率。
实施例2
如图2所示，其余与实施例1相同，不同之处在于，本实用新型第二实施例还包括震动盘2和与震动盘2连接的震动机构1，震动盘2设置于反应腔室3底部，盖体4为玻璃盖体。
本实施例中增加震动盘2，可适用于颗粒状材料的表面处理，颗粒状材料在震动下翻转使得处理更加均匀，处理效果好；盖体4为玻璃盖体，可方便查看颗粒材料在处理过程中的工作情况。
以上所述的具体实施例，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (3)
1. 一种新型等离子体处理装置，其特征在于，包括外壳、电源和电极组件，所述外壳上方可拆卸设置有盖体，所述外壳壁体上设置有气体入口和抽气口，所述外壳内设置有反应腔室，所述电极组件为设置于同一平面的螺旋状电极，所述螺旋状电极两端分别与所述电源电连接。
2. 根据权利要求1所述的新型等离子体处理装置，其特征在于，所述盖体为玻璃盖体。
3. 根据权利要求1或2所述的新型等离子体处理装置，其特征在于，还包括震动盘和与所述震动盘连接的震动机构，所述震动盘设置于所述反应腔室底部。
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|---|---|---|---|---|
| CN103607836A (zh) * | 2013-11-27 | 2014-02-26 | 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 | 一种新型等离子体处理装置 |
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- 2013-11-27 CN CN201320755740.7U patent/CN203618208U/zh not_active Expired - Lifetime
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