CN203484365U - 光掩模清洗机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种光掩模清洗机，该光掩模清洗机包括去离子水喷射单元、气体干燥单元、旋转马达，所述光掩模清洗机还包括与去离子水喷射单元、气体干燥单元和旋转马达相连的中央控制器和执行控制模块。本实用新型光掩模清洗机通过显示屏的GUI界面进行清洗程序的设置、更改和选择，有助于操作人员对整个清洗程序的监控；执行控制模块有效的简化了设置清洗方案流程，提高工作效率；中央控制器为各个步骤提供了更为精确的时长设定。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域，特别是涉及一种光掩模清洗机。
背景技术
掩模清洗是成品掩模检测过程中重复次数最多的工序，清洗的目的在于清除表面颗粒，清洗的质量直接影响检测的结果和效率。
目前世界各国在半导体器件生产中普遍采用的是Kern于1970年实用新型的RCA标准清洗方法。许多研究人员对RCA标准清洗方法进行了大量研究和改进。自90年代初期，人们开始致力于新型清洗工艺和清洗剂的研究以取代RCA清洗技术。1996年Cady和Varadarajan提出了采用四甲基氢氧化氨[N(CH3)4OH]与羧酸盐缓冲剂配置的碱性水溶液喷雾清洗法；1997年Jeon和Raghavan提出了利用兆声波激发臭氧水对硅片进行清洗；1998年Bakker等人提出了用水和水/CO2混合溶液在高温、高压下的清洗等等。
然而现有技术中清洗程序设定复杂，在使用过程中容易出错；人机界面不直观，无法清楚显示当前动作；清洗时间设定不精确，影响清洗效果；结构复杂，维修不方便。
因此，针对上述技术问题，有必要提供一种光掩模清洗机。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种光掩模清洗机。
为了实现上述目的，本实用新型实施例提供的技术方案如下：
一种光掩模清洗机，所述光掩模清洗机包括去离子水喷射单元、气体干燥单元、旋转马达，所述光掩模清洗机还包括与去离子水喷射单元、气体干燥单元和旋转马达相连的中央控制器和执行控制模块。
作为本实用新型的进一步改进，所述中央控制器包括：
控制芯片，用于控制清洗流程时长；
DIP开关，用于控制清洗进程；
电源，与控制芯片和DIP开关相连，用于为中央控制器供电；
以及若干第一端口，用于和中央控制器外部进行连接。
作为本实用新型的进一步改进，所述第一端口包括RS232C端口和以太网端口中的一种或多种。
作为本实用新型的进一步改进，所述执行控制模块包括：
与去离子水喷射单元相连的去离子水喷射控制单元；
与气体干燥单元相连的气体干燥控制单元；
与旋转马达相连的旋转马达控制单元；
以及若干第二端口。
作为本实用新型的进一步改进，所述第二端口包括RS232C端口和以太网端口中的一种或多种。
作为本实用新型的进一步改进，所述中央控制器上还连接有用于显示图形用户界面的显示屏。
本实用新型的有益效果是：本实用新型光掩模清洗机通过显示屏的GUI界面进行清洗程序的设置、更改和选择，有助于操作人员对整个清洗程序的监控；执行控制模块有效的简化了设置清洗方案流程，提高工作效率；中央控制器为各个步骤提供了更为精确的时长设定。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型中记载的一些实施例，对于本领域普通 技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型一实施方式中光掩模清洗机的模块示意图；
图2为本实用新型一实施方式中WinPLC控制器的模块示意图；
图3为本实用新型一实施方式中DL205控制模块的模块示意图；
图4为本实用新型一实施方式中旋转马达控制单元的控制电路原理图。
具体实施方式
本实用新型公开了一种光掩模清洗机，包括去离子水喷射单元、气体干燥单元、旋转马达，光掩模清洗机还包括与去离子水喷射单元、气体干燥单元和旋转马达相连的中央控制器和执行控制模块。
优选地，中央控制器包括：
控制芯片，用于控制清洗流程时长；
DIP开关，用于控制清洗进程；
电源，与控制芯片和DIP开关相连，用于为中央控制器供电；
以及若干第一端口，用于和中央控制器外部进行连接。
优选地，第一端口包括RS232C端口和以太网端口中的一种或多种。
优选地，执行控制模块包括：
与去离子水喷射单元相连的去离子水喷射控制单元；
与气体干燥单元相连的气体干燥控制单元；
与旋转马达相连的旋转马达控制单元；
以及若干第二端口。
优选地，第二端口包括RS232C端口和以太网端口中的一种或多种。
优选地，中央控制器上还连接有用于显示图形用户界面的显示屏。
为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型中的技术方案，下面将 结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。
参图1所示为本实用新型一优选实施方式中光掩模清洗机的模块示意图，在本实施方式中，光掩模清洗机包括去离子水喷射单元10、气体干燥单元20、旋转马达30，光掩模清洗机还包括与去离子水喷射单元10、气体干燥单元20和旋转马达30相连的中央控制器40和执行控制模块50。
结合参图2所示，在本实施方式中，中央控制器40选取Koyo公司生产的WinPLC控制器，WinPLC(PLC：Programmable Logic Controller)控制器为可编程逻辑控制器，其包括：
控制芯片41，用于控制清洗流程时长；
DIP(dual inline-pin package)开关42，用于控制清洗进程，本实施方式中选用旋转型DIP开关；
电源43，用于为WinPLC控制器供电；
以及若干第一端口44，用于与WinPLC控制器外部相连，本实施方式中的第一端口包括RS232C端口和以太网端口。
结合参图3所示，在本实施方式中，执行控制模块50选取Koyo公司生产的DL205控制模块，其包括：
与去离子水喷射单元10相连的去离子水喷射控制单元51；
与气体干燥单元20相连的气体干燥控制单元52；
与旋转马达30相连的旋转马达控制单元53；
以及若干第二端口54，本实施方式中第二端口54包括RS232C端口和以太网端口。
优选地，中央控制器40上还连接有用于显示图形用户界面(GUI，Graphical User Interface)的显示屏60，显示屏可以设为触摸屏或其他形式。
相应地，基于该光掩模清洗机的清洗方法包括以下步骤：
S1、通过喷射高压去离子水对掩模版正反面同时进行清洗，并使用旋转马达甩干，优选地，旋转马达的转速为50-1500RPM，用户根据需要设置在此范围内的任意转速；
S2、利用压缩气体进行辅助版面干燥处理，压缩气体为压缩空气或压缩氮气。
在该方法中还包括：分别设定清洗、甩干和干燥的时间，时间长度的设定通过编程完成，根据不同的需要，可以设定相应的时长，编程简单，容易掌握。
根据各步骤目的不同(如清洗和甩干)，旋转马达控制单元可以提供50-1500RPM的转速，并且可以设定成此范围内的任意转速，为提高清洗质量提供了必要条件。
参图4所示为本实用新型一具体实施方式中旋转马达控制单元53的控制电路原理图。本实施方式中根据电压来调节旋转马达的转速，如图中电压SIG取值在0～10V内变化时，旋转马达分别提供50-1500RPM内的对应转速，用户根据不同的需求，设定不同的电压，从而得到所需的马达转速，完成清洗过程中的各步骤。
本实用新型光掩模清洗机及其清洗方法通过显示屏的GUI(Graphical User Interface)图形用户界面进行清洗程序的设置、更改和选择，有助于操作人员对整个清洗程序的监控；DL205控制模块有效的简化了设置清洗方案流程，提高工作效率；WinPLC控制器为各个步骤提供了更为精确的时长设定。
由上述技术方案可以看出，本实用新型具有以下有益效果：
通用性强，控制程序可变，使用方便；
编程简单，容易掌握；
系统的设计、安装、调试工作量少；
维修工作量小，维护方便；
体积小，能耗低。
对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (5)
1.一种光掩模清洗机，所述光掩模清洗机包括去离子水喷射单元、气体干燥单元、旋转马达，其特征在于，所述光掩模清洗机还包括与去离子水喷射单元、气体干燥单元和旋转马达相连的中央控制器和执行控制模块。
2.根据权利要求1所述的光掩模清洗机，其特征在于，所述中央控制器包括：
控制芯片，用于控制清洗流程时长；
DIP开关，用于控制清洗进程；
电源，与控制芯片和DIP开关相连，用于为中央控制器供电；
以及若干第一端口，用于和中央控制器外部进行连接。
3.根据权利要求2所述的光掩模清洗机，其特征在于，所述第一端口包括RS232C端口和以太网端口中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的光掩模清洗机，其特征在于，所述执行控制模块包括：
与去离子水喷射单元相连的去离子水喷射控制单元；
与气体干燥单元相连的气体干燥控制单元；
与旋转马达相连的旋转马达控制单元；
以及若干第二端口。
5.根据权利要求4所述的光掩模清洗机，其特征在于，所述第二端口包括RS232C端口和以太网端口中的一种或多种。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201320355807.8U CN203484365U (zh) | 2013-06-20 | 2013-06-20 | 光掩模清洗机 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201320355807.8U CN203484365U (zh) | 2013-06-20 | 2013-06-20 | 光掩模清洗机 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN203484365U true CN203484365U (zh) | 2014-03-19 |
Family
ID=50255226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201320355807.8U Expired - Lifetime CN203484365U (zh) | 2013-06-20 | 2013-06-20 | 光掩模清洗机 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN203484365U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103341459A (zh) * | 2013-06-20 | 2013-10-09 | 无锡华润微电子有限公司 | 光掩模清洗机及其清洗方法 |
| CN117644074A (zh) * | 2024-01-30 | 2024-03-05 | 深圳市龙图光罩股份有限公司 | 掩模版清洗方法、装置、终端设备以及存储介质 |
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2013
- 2013-06-20 CN CN201320355807.8U patent/CN203484365U/zh not_active Expired - Lifetime
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| CN117644074A (zh) * | 2024-01-30 | 2024-03-05 | 深圳市龙图光罩股份有限公司 | 掩模版清洗方法、装置、终端设备以及存储介质 |
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