CN203481203U

CN203481203U - 硅片承载台之水平度调节装置

Info

Publication number: CN203481203U
Application number: CN201320497451.1U
Authority: CN
Inventors: 龚荟卓; 仇建华; 金懿
Original assignee: Shanghai Huali Microelectronics Corp
Current assignee: Shanghai Huali Microelectronics Corp
Priority date: 2013-08-14
Filing date: 2013-08-14
Publication date: 2014-03-12
Anticipated expiration: 2023-08-14

Abstract

一种硅片承载台之水平度调节装置，包括：硅片承载台，用于承载所述硅片，以在所述工艺腔室内进行薄膜沉积；螺纹丝杆，设置在所述硅片承载台内，并用于所述硅片承载台之水平度调节；螺母调节装置，设置在所述螺纹丝杆一侧，所述螺母调节装置的行程n对应所述螺纹丝杆的行程m，且n＞m。本实用新型通过在用于调节所述硅片承载台之水平度的两个螺纹丝杆一侧均设置螺母调节装置，且所述螺母调节装置的行程n对应所述螺纹丝杆的行程m，n＞m，从而提高了所述硅片承载台之水平度调节装置的控制精度，解决传统螺母丝杆调节精确度不足问题，避免因为固定扳手用力过度造成的螺纹损坏，更换新配件所产生的时间和额外费用。

Description

硅片承载台之水平度调节装置

技术领域

本实用新型涉及半导体设备技术领域，尤其涉及一种硅片承载台之水平度调节装置。

背景技术

AMAT Produce GT设备工艺是在腔体内的高温环境下，通过对特定的工艺气体在等离子体增强条件下，在硅片表面进行化学气相沉积形成薄膜。所述等离子体增强化学气相沉积法沉积薄膜的特点是沉膜速度快、薄膜均匀性好。

为了控制腔体内等离子电浆的电场环境和气流分布，通常地，对所述硅片承载体（Heater）的螺纹丝杆（Lead Screw）进行调整来调节所述硅片承载台的水平度，以获得工艺所需的高均匀性薄膜。另一方面，在进行工艺腔室（Chamber）保养后或者特定的工艺条件下，需要调节所述硅片承载台的水平度。

但是，传统的硅片承载台包括呈三角关系设置的三个支撑点，所述硅片承载台的水平度通过其中两根螺纹丝杆进行调节，在调节时只能通过目测六边形调节螺母之旋转角度来判断调节量，并使用固定板手进行调节。明显地，传统的硅片承载台之水平调节方法调试精度不够，且效率低下。更严重地，当使用者使用固定扳手进行调节时，容易损坏螺纹，导致需要切割螺纹丝杆，更换配件，造成不必要的损失。

故针对现有技术存在的问题，本案设计人凭借从事此行业多年的经验，积极研究改良，于是有了本实用新型一种硅片承载台之水平度调节装置。

实用新型内容

本实用新型是针对现有技术中，传统的硅片承载台之水平调节方法调试精度不够，且效率低下。更严重地，当使用者使用固定扳手进行调节时，容易损坏螺纹，导致需要切割螺纹丝杆，更换配件，造成不必要的损失等缺陷提供一种硅片承载台之水平度调节装置。

为实现本实用新型之目的，本实用新型提供一种硅片承载台之水平度调节装置，所述硅片承载台之水平度调节装置包括：硅片承载台，所述硅片承载台用于承载所述硅片，以在一工艺腔室内进行薄膜沉积；螺纹丝杆，所述螺纹丝杆设置在所述硅片承载台内，并用于所述硅片承载台之水平度调节；螺母调节装置，所述螺母调节装置设置在所述螺纹丝杆一侧，所述螺母调节装置的行程n对应所述螺纹丝杆的行程m，且n＞m。

可选地，在所述用于调节所述硅片承载台之水平度的两个螺纹丝杆一侧均设置螺母调节装置。

可选地，所述螺母调节装置的行程n为所述螺母的旋转行程，所述螺纹丝杆的行程m为所述螺纹丝杆的上行程或下行程。

可选地，所述螺母调节装置的行程n对应所述螺纹丝杆的行程m，当n＝km（k为任一自然数取值）时，则所述硅片承载台之水平度调节装置的精度提高k倍。

可选地，所述所述螺母调节装置的行程n对应所述螺纹丝杆的行程m，当n＝10m时，所述硅片承载台之水平度调节装置的精度提高10倍。

可选地，所述螺母调节装置控制所述螺纹丝杆运动，所述螺纹丝杆运动的精度为10μm。

可选地，所述螺母调节装置处设置用于显示所述旋转行程的行程显示装置。

综上所述，本实用新型通过在用于调节所述硅片承载台之水平度的两个螺纹丝杆一侧均设置螺母调节装置，且所述螺母调节装置的行程n对应所述螺纹丝杆的行程m，n＞m，从而提高了所述硅片承载台之水平度调节装置的控制精度，解决传统螺母丝杆调节精确度不足问题，避免因为固定扳手用力过度造成的螺纹损坏，更换新配件所产生的时间和额外费用。

附图说明

图1所示为本实用新型硅片承载台之水平度调节装置的结构示意图。

具体实施方式

为详细说明本实用新型创造的技术内容、构造特征、所达成目的及功效，下面将结合实施例并配合附图予以详细说明。

请参阅图1，图1所示为本实用新型硅片承载台之水平度调节装置的结构示意图。所述硅片承载台之水平度调节装置1包括：硅片承载台11，所述硅片承载台11用于承载所述硅片（未图示），以在一工艺腔室（未图示）内进行薄膜沉积；螺纹丝杆12，所述螺纹丝杆12设置在所述硅片承载台11内，并用于所述硅片承载台11之水平度调节；螺母调节装置13，所述螺母调节装置13设置在所述螺纹丝杆12一侧，所述螺母调节装置13的行程n对应所述螺纹丝杆12的行程m，且n＞m。

作为本领域技术人员，容易理解地，用于调节所述硅片承载台11之水平度的螺纹丝杆12为两个，则在所述用于调节所述硅片承载台11之水平度的两个螺纹丝杆12一侧均设置螺母调节装置13。所述螺母调节装置13的行程n为所述螺母131的旋转行程。所述螺纹丝杆12的行程m为所述螺纹丝杆12的上行程或下行程。为了更直观的观察本实用新型之螺母调节装置13的旋转行程，优选地，在所述螺母调节装置13上设置行程显示装置（未图示），所述形成显示装置实时显示所述螺母调节装置13之旋转行程。

作为具体的实施方式，非限制性的列举，但不应视为对本实用新型技术方案的限制，在本实用新型中，所述螺母调节装置13设置在所述螺纹丝杆12一侧，所述螺母调节装置13的行程n对应所述螺纹丝杆12的行程m，当n＝10m时，则所述硅片承载台之水平度调节装置1的精度提高10倍。明显地，若所述螺母调节装置13的行程n对应所述螺纹丝杆12的行程m，当n＝km（k为任一自然数取值）时，则所述硅片承载台之水平度调节装置1的精度提高k倍。更具体地，通过所述螺母调节装置13控制所述螺纹丝杆12运动，所述螺纹丝杆运动的精度可达10μm。

本领域技术人员均应了解，在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，可对本实用新型进行各种修改和变型。因而，如果任何修改或变型落入所附权利要求书及等同物的保护范围内时，认为本实用新型涵盖这些修改和变型。

Claims

1.一种硅片承载台之水平度调节装置，其特征在于，所述硅片承载台之水平度调节装置包括：

硅片承载台，所述硅片承载台用于承载所述硅片，以在一工艺腔室内进行薄膜沉积；

螺纹丝杆，所述螺纹丝杆设置在所述硅片承载台内，并用于所述硅片承载台之水平度调节；

螺母调节装置，所述螺母调节装置设置在所述螺纹丝杆一侧，所述螺母调节装置的行程n对应所述螺纹丝杆的行程m，且n＞m。

2.如权利要求1所述的硅片承载台之水平度调节装置，其特征在于，在所述用于调节所述硅片承载台之水平度的两个螺纹丝杆一侧均设置螺母调节装置。

3.如权利要求1所述的硅片承载台之水平度调节装置，其特征在于，所述螺母调节装置的行程n为所述螺母的旋转行程，所述螺纹丝杆的行程m为所述螺纹丝杆的上行程或下行程。

4.如权利要求3所述的硅片承载台之水平度调节装置，其特征在于，所述螺母调节装置的行程n对应所述螺纹丝杆的行程m，当n＝km（k为任一自然数取值）时，则所述硅片承载台之水平度调节装置的精度提高k倍。

5.如权利要求4所述的硅片承载台之水平度调节装置，其特征在于，所述螺母调节装置的行程n对应所述螺纹丝杆的行程m，当n＝10m时，所述硅片承载台之水平度调节装置的精度提高10倍。

6.如权利要求3所述的硅片承载台之水平度调节装置，其特征在于，所述螺母调节装置控制所述螺纹丝杆运动，所述螺纹丝杆运动的精度为10μm。

7.如权利要求3所述的硅片承载台之水平度调节装置，其特征在于，所述螺母调节装置处设置用于显示所述旋转行程的行程显示装置。