CN203447186U - 煎烤机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种煎烤机，包括下盘及与下盘盖合的上盘，所述下盘包括下烤盘、安装所述下烤盘的下盘座及设于所述下烤盘与下盘座之间的发热装置，所述上盘包括上烤盘及容纳所述上烤盘的上盘座，所述下烤盘设有至少一个使用时盛有水的水容纳装置。本实用新型提供的煎烤机有保湿功能，可以保持煎烤食物的水分，使其不焦硬.。

Description

煎烤机

技术领域

本实用新型涉及厨房电器技术领域，特别涉及一种煎烤机。

背景技术

现有煎烤机，一般家庭主要用于烤饼，烤肉等煎烤食物。加热的方式一般是下烤盘置于发热装置上，由加热装置发热将热量传至下烤盘。工作时，食物直接放置于下烤盘上，由下烤盘导热至食物，从而达到给食物加热的目的。但是煎烤机工作时，食物的水分不断散失，且无法得到补偿，从而使得煎烤出的食物容易焦硬，影响食物口感。

故，有必要对上述缺陷进行改进。

发明内容

本实用新型的目的是提供了煎烤机，其具有保湿功能，可以保持煎烤食物的水分，使其不焦硬。

为实现上述目的，本实用新型提供一种煎烤机，包括下盘及与下盘盖合的上盘，所述下盘包括下烤盘、安装所述下烤盘的下盘座及设于所述下烤盘与下盘座之间的发热装置，所述上盘包括上烤盘及容纳所述上烤盘的上盘座，其特征在于,所述下烤盘设有至少一个使用时盛有水的水容纳装置。

进一步，所述容纳装置可拆的设置于烤盘上。

进一步，所述下烤盘包括设于烤盘中心的煎烤区及围绕所述煎烤区的保湿区，所述容纳装置设于保湿区内。

进一步，所述容纳装置为多个，在所述保湿区内均匀分布。

进一步，所述下烤盘可拆设置。

进一步，所述容纳装置为凹槽或凹孔。

进一步，所述凹槽或凹孔底部横截面呈弧形。

进一步，所述凹槽呈环形设置以使水在下烤盘周向分布。

进一步，所述凹槽垂直高度为5mm~20mm。

根据本实用新型的技术方案，由于在煎烤机的下烤盘上设置有容纳水的水容纳装置，煎烤前只需将水注入水容纳装置中，煎烤时水容纳装置中的水受热蒸发，产生的水蒸汽使煎烤机内食物不断补充水分，故食物不易焦硬，口感更佳。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：

图1是本实用新型煎烤机结构示意图。

图2是本实用新型一种实施例结构示意图。

图3是图2结构的安装结构示意图。

图4是本实用新型另一种实施例结构示意图。

图5是图4结构的安装结构示意图。

图6是本实用新型又一种实施例结构示意图。

图中，下盘—1；上盘—2；水容纳装置—3；下烤盘—11；下盘座—12；发热装置—13；上烤盘—21；煎烤区—111；保湿区—112。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，进一步对本实用新型详细说明：

为克服现有技术煎烤机煎烤的食物容易焦硬，口感不佳的缺陷，本实用新型提供了一种煎烤机，可使煎烤机煎烤的食物不易焦硬，保持较佳的口感。

根据图1所示，本实用新型提供的煎烤机包括下盘1及与下盘1盖合的上盘2，所述下盘1包括下烤盘11、安装所述下烤盘11的下盘座12及设于所述下烤盘11与下盘座12之间的发热装置13，所述上盘2包括上烤盘21及容纳所述上烤盘21的上盘座22，所述下烤盘11设有至少一个使用时盛有水的水容纳装置3。其中，上盘2与下盘1作为固定与支持装置，其内部可装有PLC控制电路板及其他控制部件，外部可设有操作面板及手柄等必要操作部件（附图中未示意出）。下烤盘11作为热传递件，其直接与食物接触，可以将发热装置13产生的热传导给食物供食物加热。上烤盘21与食物直接接触，根据需要也可以在上烤盘21与上盘座22之间设发热装置13，使上烤盘21也具备加热食物功能。

根据本实用新型的煎烤机，由于在下烤盘11上设置有容纳水的水容纳装置3，使用本实用新型的煎烤机烹饪食物前只需将水注入水容纳装置3中，烹饪时水容纳装置3中的水会受热蒸发产生高温水蒸汽。与现有技术相比，产生的水蒸汽使煎烤机煎烤中的食物不断补充水分，故食物不易焦硬，口感更佳。与此同时，由于水蒸汽的存在，可以使该煎烤机煎烤食物时也对食物进行蒸煮，高温水蒸汽可充分与食物接触，减少食物煮熟所需时间或者避免煎烤后的食物内部夹生。

根据需要也可以在下盘座12和/或上盘座22上分别设有反射罩14（如果上盘1中也设有发热装置13的话，则上盘座也22也可设反射罩14）用于反射加热装置13中的热辐射，使加热装置13的热辐射更好的被上烤盘21和/或下烤盘11吸收，提高煎烤机的热效率。

优选的实施方式，水容纳装置3可拆的设于下烤盘11上，其独立成为一体。如图2~图3示出的一种实施例，水容纳装置3为一条环形的凹槽，凹槽首尾连通。根据烹饪的食物不同，在烹饪需要保湿的食物时，将水容纳装置3从下烤盘11上拆卸下装水，然后安装至下烤盘11上。当不需要保湿烹饪的情况下，则可拆卸下来，避免浪费烹饪空间或者额外的造成热量的浪费。上述水容纳装置3可以设为多个，鉴于安装方便考虑，也可以在一个容纳装置3中设多个环形凹槽，为方便往凹槽中注水，无需每个凹槽中均逐次注水，各个环形凹槽之间相互连通。往水容纳装置中注水时，可选任意一个凹槽，水可在凹槽直接流动，直至各凹槽内水位平衡。

上述可拆的方式具有多种，只需方便实现水容纳装置3的移除与安装即可。在未示意出的实施例中，例如其可以是利用卡口与下烤盘11卡合；也可以是利用螺钉与下烤盘3可拆相连，为考虑操作者使用便捷性，螺钉可设置成操作者利用双手旋转螺钉即可完成紧固与拆卸工作。

如图4~图5所示，为了方便下烤盘11与水容纳装置3的制造，减少繁琐的制造与安装工艺，上述水容纳装置3也可以与下烤盘11为一体成型，在下烤盘3制作过程中冲压成型获得。

优选实施例，为使煎烤的食物充分湿润，所述下烤盘11包括设于烤盘中心的煎烤区111及围绕所述煎烤区的保湿区112，所述水容纳装置设于保湿区112内。将水容纳装置3设于保湿区112内，而且保湿区112围绕煎烤区111设置，可以使得烹饪的食物周围都具有蒸汽产生，使食物受热、保湿更均匀。

另一种优选实施例，如图1所示，所述下烤盘11可拆设置。在煎烤机工作完后，水容纳装置3中可能还存有一定量未蒸发完的水，将下烤盘3设置为可以拆卸，则需要清洗或者倒水的时候用户只需将下烤盘11从下盘座12拆卸即可方便完成操作。

应理解，上述水容纳装置3为可容纳水的槽或者腔，及具备一定的高度与体积以便于储存水的其他形状。该水容纳装置为金属材料制成，以可以通过热传导将水容纳装置中水转化为高温水蒸汽。

如图6所示，在上述结构中，凹槽也可以为凹腔。同样为了使煎烤的食物充分湿润或者加热，一种优选地方式为凹腔环形均布于煎烤区。一种优选的实施例，该水容纳装置3处于煎烤区上方且与煎烤区有间隙，以使食物不易接触到水容纳装置3中的水，同时也可避免水容纳装置3被加热装置13直接加热，如此可以延长蒸汽产生的时间。

优选的，为保证足够的水容量，凹槽垂直高度为5mm~20mm。高度过高则增加煎烤机高度，而且或导致煎烤完成后剩余较多的水。而垂直高度过低，则容易导致水与食物接触，影响食物口感；又或者储水量不够，而导致烹饪过程中水过早烧干。

根据本实用新型的技术方案，由于在煎烤机的下烤盘11上设置有容纳水的水容纳装置3，煎烤机烹饪食物前只需将水注入水容纳装置3中，烹饪时水容纳装置3中的水受热蒸发，产生的水蒸汽使煎烤机内食物不断补充水分。与现有技术相比，使用本实用新型的煎烤机煎烤出的食物不易焦硬，口感更佳。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1..煎烤机，包括下盘及与下盘盖合的上盘，所述下盘包括下烤盘、安装所述下烤盘的下盘座及设于所述下烤盘与下盘座之间的发热装置，所述上盘包括上烤盘及容纳所述上烤盘的上盘座，其特征在于,所述下烤盘设有至少一个使用时盛有水的水容纳装置。

2.根据权利要求1所述的煎烤机，其特征在于，所述水容纳装置可拆的设置于烤盘上。

3.根据权利要求1~2任意一项所述的煎烤机，其特征在于，所述下烤盘包括设于烤盘中心的煎烤区及围绕所述煎烤区的保湿区，所述水容纳装置设于保湿区内。

4.根据权利要求3所述的煎烤机，其特征在于，所述水容纳装置为多个，在所述保湿区内均匀分布。

5.根据权利要求1~2任意一项所述的煎烤机，其特征在于，所述下烤盘可拆设置。

6.根据权利要求5所述的煎烤机，所述水容纳装置为凹槽或凹孔。

7.根据权利要求6所述的煎烤机，其特征在于，所述凹槽或凹孔底部横截面呈弧形。

8.根据权利要求7所述的煎烤机，其特征在于，所述凹槽呈环形设置以使水在下烤盘周向分布。

9.根据权利要求8所述的煎烤机，其特征在于，所述凹槽垂直高度为5mm~20mm。

10.根据权利要求3所述的煎烤机，其特征在于，所述发热装置设于煎烤区下方，所述水容纳装置设于煎烤区的上方且与煎烤区有间隙。

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