CN203353256U - 一种铁皮石斛种植装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及植物种植技术领域，特别涉及一种铁皮石斛种植装置，包括支撑架、活动式种植槽、导流板和接水盘，支撑斜面上设置有若干个活动式种植槽，每个活动式种植槽沿着所述支撑斜面呈阶梯设置，活动式种植槽的底面设置有若干个底排水孔，活动式种植槽的前后侧面上设置有若干个侧透气孔；每两个活动式种植槽之间是通过导流板相固定连接，接水盘固定设置在支撑斜面上，接水盘位于最底端的活动式种植槽的正下方。使用本实用新型时，极大地提高了活动式种植槽的透气性能，改善了植物的生长环境，能够促进植物的生长，同时也能够有利于植物的喷淋、滴水和保温工作。本实用新型具有结构简单，设置合理，制作成本低等优点。

Description

一种铁皮石斛种植装置

【技术领域】

本实用新型涉及植物种植技术领域，特别涉及一种铁皮石斛种植装置。 

【背景技术】

野生铁皮石斛的习性宜生长在温暖、湿润、少光照、适当透风、根系透气好、排水好的环境中丛生，需要附着树木、崖缝进行爬升或吊挂生长。目前各地相继建立了铁皮石斛人工种植基地，大都采用大棚平面垄地种植或种植床平面种植等种植方式，现有种植技术普遍存在产量低，易烂根、成活率不高、植株透气不好，质量不佳，易受病虫害、易受水灾、难管理诸多问题，平面种植效果不理想，很难进行集约化种植或农户分散种植的推广。 

有为效解决现有技术中存在的问题，业内做了诸多有意义的探索，如专利号CN201220160177.4，专利名称为铁皮石斛种植装置公布的技术方案为：它包括支撑架和活动式种植槽，支撑架至少包括一侧具有一定坡度的支撑斜面，支撑斜面上设置两个以上活动式种植槽，每个活动式种植槽沿着支撑斜面呈阶梯放置。 

该装置能够有利于通风、喷淋、滴水、保温，比之前的大棚要符合石斛的生长习性，但种植槽的透气性不够好，这样便影响了植物的生长，故有必要对现有种植槽结构进行进一步地技术革新。 

【实用新型内容】

本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种结构简单，设计合理、使用方便的铁皮石斛种植装置。 

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是： 

本实用新型所述的一种铁皮石斛种植装置，包括支撑架和活动式种植槽，所述支撑架至少包括一侧具有一定坡度的支撑斜面，支撑斜面上设置有若干个活动式种植槽，每个活动式种植槽沿着所述支撑斜面呈阶梯设置，所述活动式种植槽的底面设置有若干个底排水孔，所述活动式种植槽的前后侧面上设置有若干个侧透气孔，所述底排水孔的直径为5～20mm，所述底排水孔之间的中心距为3～8cm；所述侧透气孔的直径为5～10mm，所述侧透气孔之间的中心距为2～6cm；它还包括导流板和接水盘，每两个活动式种植槽之间是通过导流板相固定连接，所述接水盘固定设置在支撑斜面上，所述接水盘位于最底端的活动式种植槽的正下方。 

进一步地，所述底排水孔的直径为12mm，所述底排水孔之间的中心距为5.5cm；所述侧透气孔的直径为6.5mm，所述侧透气孔之间的中心距为4cm。 

采用上述结构后，本实用新型有益效果为：本实用新型所述的一种铁皮石斛种植装置，包括支撑架和活动式种植槽，所述支撑架至少包括一侧具有一定坡度的支撑斜面，支撑斜面上设置有若干个活动式种植槽，每个活动式种植槽沿着所述支撑斜面呈阶梯设置，所述活动式种植槽的底面设置有若干个底排水孔，所述活动式种植槽的前后侧面上设置有若干个侧透气孔，所述底排水孔的直径为5～20mm，所述底排水孔之间的中心距为3～8cm；所述侧透气孔的直径为5～10mm，所述侧透气孔之间的中心距为2～6cm；它还包括导流板和接水盘，每两个活动式种植槽之间是通过导流板相固定连接，所述接水盘固定设置在支撑斜面上，所述接水盘位于最底端的活动式种植槽的正下方。使用本实用新型时，通过一定规律的方式来设置侧透气孔和底排水孔，极大地提高了活动式种植槽的透气性能，大大改善了植物的生长环境，能够很好地促进植物的生长， 同时也能够有利于植物的喷淋、滴水和保温工作。本实用新型具有结构简单，设置合理，制作成本低等优点。 

【附图说明】

此处所说明的附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，但并不构成对本实用新型的不当限定，在附图中： 

图1是本实用新型的结构示意图； 

附图标记说明： 

1、支撑架；11、支撑斜面；2、活动式种植槽；21、底排水孔； 

22、侧透气孔；3、导流板；4、接水盘。 

【具体实施方式】

下面将结合附图以及具体实施例来详细说明本实用新型，其中的示意性实施例以及说明仅用来解释本实用新型，但并不作为对本实用新型的限定。 

如图1所示，本实用新型所述的一种铁皮石斛种植装置，包括支撑架1和活动式种植槽2，所述支撑架1至少包括一侧具有一定坡度的支撑斜面11，支撑斜面11上设置有若干个活动式种植槽2，每个活动式种植槽2沿着所述支撑斜面11呈阶梯设置，所述活动式种植槽2的底面设置有若干个底排水孔21，所述活动式种植槽2的前后侧面上设置有若干个侧透气孔22，所述底排水孔21的直径为5～20mm，所述底排水孔21之间的中心距为3～8cm；所述侧透气孔22的直径为5～10mm，所述侧透气孔22之间的中心距为2～6cm；它还包括导流板3和接水盘4，每两个活动式种植槽2之间是通过导流板3相固定连接，导流板3一端与位于上端的活动式种植槽2的底端后边缘相固定连接，导流板3另一端与位于下端的活动式种植槽2的顶端前边缘相固定连接；所述接水盘4 固定设置在支撑斜面11上，所述接水盘4位于最底端的活动式种植槽2的正下方。当工人浇水时，位于上端的活动式种植槽2流出的水会经导流板3流至位于下端的活动式种植槽2中，而位于最底端的活动式种植槽2流出的水是通过接水盘4来盛放，这样便改善了种植环境。 

作为本实用新型的一种优选方式，所述底排水孔21的直径为12mm，所述底排水孔21之间的中心距为5.5cm；所述侧透气孔22的直径为6.5mm，所述侧透气孔22之间的中心距为4cm。 

用本实用新型种植铁皮石斛时，不仅可以提高活动式种植槽的透气性能，改善植物的生长环境，而且有利于植物的喷淋、滴水和保温工作；也可以解决因底排水孔滴水而影响周围环境等问题，从而改善现场作业环境。另外，该结构简单、设计合理，制造成本低。 

以上所述仅是本实用新型的较佳实施方式，故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本实用新型专利申请范围内。 

Claims (2)

1.一种铁皮石斛种植装置，包括支撑架(1)，所述支撑架(1)至少包括一侧具有一定坡度的支撑斜面(11)，支撑斜面(11)上设置有若干个活动式种植槽(2)，每个活动式种植槽(2)沿着所述支撑斜面(11)呈阶梯设置，所述活动式种植槽(2)的底面设置有若干个底排水孔(21)，所述活动式种植槽(2)的前后侧面上设置有若干个侧透气孔(22)，所述底排水孔(21)的直径为5～20mm，所述底排水孔(21)之间的中心距为3～8cm；所述侧透气孔(22)的直径为5～10mm，所述侧透气孔(22)之间的中心距为2～6cm；其特征在于：它还包括导流板(3)和接水盘(4)，每两个活动式种植槽(2)之间是通过导流板(3)相固定连接，所述接水盘(4)固定设置在支撑斜面(11)上，所述接水盘(4)位于最底端的活动式种植槽(2)的正下方。 

2.根据权利要求1所述的铁皮石斛种植装置，其特征在于：所述底排水孔(21)的直径为12mm，所述底排水孔(21)之间的中心距为5.5cm；所述侧透气孔(22)的直径为6.5mm，所述侧透气孔(22)之间的中心距为4cm。 

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