CN203292708U - 一种薄膜切割设备 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种薄膜切割设备,包括机架、设于机架上的工作台、设于机架且与工作台配合的薄膜切割光学系统和设于工作台下方的抽烟系统。本实用新型采用以上结构,激光切割薄膜时产生的灰尘,经过排气扇抽出,保证了激光光路不受灰尘影响,保证了切割质量和薄膜质量。

Description

一种薄膜切割设备
技术领域
本实用新型涉及薄膜切割技术领域,具体涉及一种薄膜切割设备。 
背景技术
目前,现有薄膜切割设备存在如下问题: 
1、光路系统中的反射镜、扩束镜都是固定的,这就要求设备在安装时就得调整好位置,使反射镜和激光器配合;导致反射镜安装、调整难度大、薄膜切割设备生产效率低;同时设备在使用过程中如果反射镜发生偏移,得把反射镜拆卸后重装,调整不便。同时固定的反射镜导致激光射向工作台上固定的一点,激光出射方向固定,切割不便。 
2、在切割薄膜的过程中会产生灰尘,影响激光光路,导致薄膜的切口不平整,切割质量差,薄膜损耗率高。 
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种薄膜切割设备,解决反射镜、扩束镜安装、调整难度大,激光出射方向固定,且切割产生的灰尘影响激光光路的问题。 
为达到上述目的,本实用新型采用如下技术方案: 
一种薄膜切割设备,包括机架、设于机架上的工作台、设于机架且与工作台配合的薄膜切割光学系统和设于工作台下方的抽烟系统。 
进一步,薄膜切割光学系统包括用于发射激光的激光器、与该激光器配合的第一反射镜组件、与该第一反射镜组件配合的第二反射镜组件、与该第二反射镜组件配合的第三反射镜组件、X轴导轨组件和Y轴导轨组件;X轴导轨组件设有沿着X轴方向的X轴导轨,Y轴导轨组件设有沿着Y轴方向的Y轴导轨;X轴导轨组件和Y轴导轨组件活动连接,且X轴导轨组件沿着Y轴导轨位移; 第二反射镜组件和第三反射镜组件设于X轴导轨组件上,且第三反射镜组件和X轴导轨活动连接,第三反射镜组件沿着X轴导轨位移。 
进一步,第一反射镜组件包括第一万向调整座结构,还包括设于该第一万向调整座结构上的第一反射镜本体;第二反射镜组件包括第二万向调整座结构,还包括设于该第二万向调整座结构上的第二反射镜本体;第三反射镜组件包括第三万向调整座结构,还包括设于该第三万向调整座结构上的第三反射镜本体。 
进一步,薄膜切割光学系统还包括扩束镜组件,该扩束镜组件设于激光器和第一反射镜组件之间;该扩束镜组件包括扩束镜本体和用于安装该扩束镜的扩束镜万向调整座结构;扩束镜本体和激光器相互配合,且第一反射镜本体和扩束镜本体相互配合。 
进一步,薄膜切割光学系统还包括聚焦镜组件,聚焦镜组件由聚焦镜固定套和聚焦镜本体构成,聚焦镜固定套设于第三反射镜组件下方,聚焦镜本体套设在聚焦镜固定套内,聚焦镜本体和第三反射镜本体沿着Z轴方向布置。 
进一步,第三反射镜组件和聚焦镜固定套之间伸缩配合连接,以调整聚焦镜本体和第三反射镜本体之间的距离。 
进一步,激光器为二氧化碳激光器。 
进一步,薄膜切割光学系统还包括电荷耦合元件CCD定位组件,该CCD定位组件位于第三反射镜组件一侧。 
进一步,工作台的台面呈镂空结构,抽烟系统包括至少一个排气扇、漏斗盒和排气箱,排气扇设于台面下方,排气扇通过漏斗盒连接排气箱,排气箱设有排气口。 
与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下: 
1、本实用新型采用以上结构,激光器发出的激光依次经过第一反射镜本体、第二反射镜本体和第三反射镜本体反射至工作台;第二反射镜本体、第三反射镜本体利用X轴导轨组件、Y轴导轨组件调节位置,同时第一反射镜本体、第二反射镜本体和第三反射镜本体分别利用第一万向调整座结构、第二万向调整 座结构和第三万向调整座结构微调自身位置,从而调整激光的射向工作台的位置,且使激光器、第一反射镜本体、第二反射镜本体和第三反射镜本体之间定位精密,激光可射向工作台上不同的位置,安装调试方便; 
2、将扩束镜本体设于第一反射镜本体和激光器之间,将激光器发出的激光放大光束直径后射向第一反射镜本体,利于激光的传播,光路稳定;且采用扩束镜万向调整座结构,实现扩束镜沿着Y轴方向位移,绕Z轴方向旋转且绕Y轴方向旋转的功能,便于调整扩束镜的位置,实现扩束镜和激光器的精密配合,使扩束镜安装简易、可使激光聚焦至更小光斑直徑、使激光光斑質量更好,薄膜切割设备生产效率高。 
3、激光切割薄膜时产生的灰尘,经过排气扇抽出,保证了激光光路不受灰尘影响,保证了切割质量和薄膜质量。 
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。 
图1是本实用新型一种薄膜切割设备实施例的立体示意图; 
图2是图1的俯视示意图; 
图3是图1中X轴导轨组件的结构示意图; 
图4是图1中第一反射镜组件的结构示意图; 
图5是图1中抽烟系统的结构示意图; 
图中,1-激光器;2-第一反射镜组件;21-第一反射镜本体;22-第一Y轴微调结构;221-微调旋杆;23-第一调节轮;3-第二反射镜组件;31-第二反射镜本体;32-调节板;33-第二反射镜座板;34-第二调节轮;4-第三反射镜组件;41-第三反射镜本体;42-第三反射镜座座板;43-第三反射镜座;44-反射镜调节环; 5-X轴导轨组件;51-X轴导轨;52-X轴驱动装置;6-Y轴导轨组件;61-Y轴导轨;62-Y轴驱动装置;7-工作台;71-台面;8-扩束镜组件;81-扩束镜本体;82-扩束镜万向调整座结构;9-聚焦镜固定套;10-CCD定位组件;11-抽烟系统;111-排气扇;112-漏斗盒;113-排气箱;114-排气口。 
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。 
如图1至图5实施例所示一种薄膜切割设备,包括机架、设于机架上的工作台7、设于机架且与工作台7配合的薄膜切割光学系统和设于工作台下方的抽烟系统。本实施例中,X轴方向、Y轴方向和Z轴方向相互垂直。本实施例中的激光器1为二氧化碳激光器。 
薄膜切割光学系统包括用于发射激光的激光器1、与该激光器1配合的第一反射镜组件2、与该第一反射镜组件2配合的第二反射镜组件3、与该第二反射镜组件3配合的第三反射镜组件4、X轴导轨组件5和Y轴导轨组件6。X轴导轨组件5设有沿着X轴方向的X轴导轨51,Y轴导轨组件6设有沿着Y轴方向的Y轴导轨61。X轴导轨组件5和Y轴导轨组件6活动连接,且X轴导轨组件5沿着Y轴导轨61位移;第二反射镜组件3和第三反射镜组件4设于X轴导轨组件5上,且第三反射镜组件4和X轴导轨51活动连接,第三反射镜组件4沿着X轴导轨51位移。激光器1发出的激光依次经过第一反射镜组件2、第二反射镜组件3和第三反射镜组件4反射至用于承载薄膜的工作台7。 
本实施例中,Y轴导轨61设于X轴导轨组件5底部,第一反射镜组件2位于Y轴导轨61的端部。Y轴导轨组件6还包括Y轴驱动装置62,Y轴驱动装置62连接X轴导轨组件5,Y轴驱动装置62驱动X轴导轨组件5沿着Y轴导轨61位移。 
第二反射镜组件3设于X轴导轨51上,第三反射镜组件3和X轴导轨51活动连接。X轴导轨组件5还包括X轴驱动装置52,X驱动装置52连接第三反 射镜组件4,X驱动装置52驱动X轴导轨组件5沿着X轴导轨51位移。 
X轴驱动装置52和Y轴驱动装置62可以为伺服电机、气缸、液压驱动装置或手动驱动装置。 
本实施例中,第一反射镜组件2包括第一万向调整座结构,还包括设于该第一万向调整座结构上的第一反射镜本体21。第二反射镜组件3包括第二万向调整座结构,还包括设于该第二万向调整座结构上的第二反射镜本体31。第三反射镜组件4包括第三万向调整座结构,还包括设于该第三万向调整座结构上的第三反射镜本体41。 
第一万向调整座结构包括第一Y轴微调结构22和第一调节轮23。设于第一Y轴微调结构22的微调旋杆221驱动第一反射镜本体21沿着Y轴方向位移;三个第一调节轮23可调节第一反射镜本体21的位置,使其绕竖直方向Z轴和/或水平面摆动;采用以上结构,可调整第一反射镜本体21的位置,使第一反射镜本体21和激光器1精密配合。 
第二万向调整座结构包括设于调节板32、设于调节板32上的第二反射镜座板33和第二调节轮34。第二反射镜本体31设于第二反射镜座板33。调节板32可以微调二反射镜座板33在Y轴方向上的位移;三个第二调节轮35可调节第二反射镜座板33的位置,使其绕竖直方向Z轴和/或水平面摆动。采用以上结构,可调整第二反射镜本体31的位置,使第二反射镜本体31和第一反射镜本体21精密配合。 
第三万向调整座包括与X轴导轨51连接的第三反射镜座座板42、设于第三反射镜座座板42上的第三反射镜座43,第三反射镜座43沿着第三反射镜座座板42在Z轴方向上位移。第三反射镜本体41通过反射镜调节环44连接第三反射镜座43,反射镜调节环44实现对第三反射镜本体41位置的微调功能。第三反射镜本体41使激光沿着Z轴方向射向工作台7。 
薄膜切割光学系统还包括扩束镜组件8,该扩束镜组件8设于激光器1和第一反射镜组件2之间;该扩束镜组件8包括扩束镜本体81和用于安装该扩束镜 的扩束镜万向调整座结构82;扩束镜本体81和激光器1相互配合,且第一反射镜本体21和扩束镜本体81相互配合。 
薄膜切割光学系统还包括聚焦镜组件,聚焦镜组件由聚焦镜固定套9和聚焦镜本体构成,聚焦镜固定套设于第三反射镜组件4下方,聚焦镜本体套设在聚焦镜固定套9内。 
薄膜切割光学系统还包括CCD定位组件10(CCD:Charge-coupledDevice,电荷耦合元件),该CCD定位组件10位于第三反射镜组件4一侧。 
工作台7的台面71呈镂空结构,抽烟系统11包括至少一个排气扇111、漏斗盒112和排气箱113,排气扇111设于台面71下方,排气扇111通过漏斗盒112连接排气箱113,排气箱113设有排气口114。 
本实施例一种薄膜切割设备的其它结构参见现有技术。 
作为对本实施例的进一步说明,现说明其工作原理: 
1、激光器1发出的激光依次经过第一反射镜本体21、第二反射镜本体31和第三反射镜本体41反射至工作台7;第二反射镜本体31、第三反射镜本体41利用X轴导轨组件5、Y轴导轨组件6调节位置,同时第一反射镜本体21、第二反射镜本体31和第三反射镜本体41分别利用第一万向调整座结构、第二万向调整座结构和第三万向调整座结构微调自身位置,从而调整激光的射向工作台7的位置,且使激光器1、第一反射镜本体21、第二反射镜本体31和第三反射镜本体41之间定位精密,激光可射向工作台上不同的位置,安装调试方便; 
2、将扩束镜本体81设于第一反射镜本体21和激光器1之间,将激光器1发出的激光放大光束直径后射向第一反射镜本体21,利于激光的传播,光路稳定;且采用扩束镜万向调整座结构82,实现扩束镜沿着Y轴方向位移,绕Z轴方向旋转且绕Y轴方向旋转的功能,便于调整扩束镜的位置,实现扩束镜和激光器的精密配合,使扩束镜安装简易、薄膜切割设备生产效率高。 
3、激光切割薄膜时产生的灰尘,经过排气扇111抽出,保证了激光光路不受灰尘影响,保证了切割质量和薄膜质量。 
本实用新型并不局限于上述实施方式,如果对本实用新型的各种改动或变型不脱离本实用新型的精神和范围,倘若这些改动和变型属于本实用新型的权利要求和等同技术范围之内,则本实用新型也意图包含这些改动和变型。 

Claims (9)

1.一种薄膜切割设备,其特征在于:包括机架、设于机架上的工作台、设于机架且与工作台配合的薄膜切割光学系统和设于工作台下方的抽烟系统。
2.根据权利要求1所述一种薄膜切割设备,其特征在于:薄膜切割光学系统包括用于发射激光的激光器、与该激光器配合的第一反射镜组件、与该第一反射镜组件配合的第二反射镜组件、与该第二反射镜组件配合的第三反射镜组件、X轴导轨组件和Y轴导轨组件;X轴导轨组件设有沿着X轴方向的X轴导轨,Y轴导轨组件设有沿着Y轴方向的Y轴导轨;X轴导轨组件和Y轴导轨组件活动连接,且X轴导轨组件沿着Y轴导轨位移;第二反射镜组件和第三反射镜组件设于X轴导轨组件上,且第三反射镜组件和X轴导轨活动连接,第三反射镜组件沿着X轴导轨位移。
3.根据权利要求2所述一种薄膜切割设备,其特征在于:第一反射镜组件包括第一万向调整座结构,还包括设于该第一万向调整座结构上的第一反射镜本体;第二反射镜组件包括第二万向调整座结构,还包括设于该第二万向调整座结构上的第二反射镜本体;第三反射镜组件包括第三万向调整座结构,还包括设于该第三万向调整座结构上的第三反射镜本体。
4.根据权利要求3所述一种薄膜切割设备,其特征在于:薄膜切割光学系统还包括扩束镜组件,该扩束镜组件设于激光器和第一反射镜组件之间;该扩束镜组件包括扩束镜本体和用于安装该扩束镜的扩束镜万向调整座结构;扩束镜本体和激光器相互配合,且第一反射镜本体和扩束镜本体相互配合。
5.根据权利要求3所述一种薄膜切割设备,其特征在于:薄膜切割光学系统还包括聚焦镜组件,聚焦镜组件由聚焦镜固定套和聚焦镜本体构成,聚焦镜固定套设于第三反射镜组件下方,聚焦镜本体套设在聚焦镜固定套内,聚焦镜本体和第三反射镜本体沿着Z轴方向布置。
6.根据权利要求5所述一种薄膜切割设备,其特征在于:第三反射镜组件和聚焦镜固定套之间伸缩配合连接,以调整聚焦镜本体和第三反射镜本体之间的距离。
7.根据权利要求2所述一种薄膜切割设备,其特征在于:激光器为二氧化碳激光器。
8.根据权利要求2所述一种薄膜切割设备,其特征在于:薄膜切割光学系统还包括电荷耦合元件CCD定位组件,该CCD定位组件位于第三反射镜组件一侧。
9.根据权利要求1所述一种薄膜切割设备,其特征在于:工作台的台面呈镂空结构,抽烟系统包括至少一个排气扇、漏斗盒和排气箱,排气扇设于台面下方,排气扇通过漏斗盒连接排气箱,排气箱设有排气口。
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