CN203265834U - 一种二极管生产用真空吸盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种二极管生产用真空吸盘，具有相连接的顶板和底板，所述顶板上开有真空吸孔，真空吸孔连接顶板内部的真空通道；所述顶板和底板之间具有真空腔；所述真空吸盘的侧面设置有抽真空吸嘴。本实用新型采用真空吸盘定位运送芯片，取代手工操作，大大提高生产效率，节省人力物力；采用双侧抽真空吸嘴，使用时吸力更加均匀，更高效稳定；合理设置螺栓等间距使得真空吸盘更加稳定可靠。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种吸附转运装置，特别涉及一种二极管生产用真空吸盘。
背景技术
随着科学技术的不断发展，人们应用的电器设备随之崛起，因此半导体也随之发展，它在许多的电路中起着重要作用。例如：在冶金工业、化工生产、电力工程、造纸行业、机械制造和食品加工等诸多领域中，人们都需要各种机器、设备、进行和调试控制；在农业生产、粮食储备、计算机机房，家用电器等都存在二极管。因此二极管对新进社会各种器材和设备是非常有价值的。
二极管是由Ⅲ—Ⅳ族化合物，如砷化镓、磷化镓、磷砷化镓等半导体制成的，其核心是PN结。因此正向导通，反向截止、击穿的特性。抗震性能好、功耗低、成本低等优点。
现有二极管生产工艺主要包括：焊接、酸洗、上胶、模压、固化等步骤。其中焊接的目的是利用焊片通过一定温度，将芯片与金属引线连接，形成欧姆触角。该工序的辅助工序由排向、装填、进炉、出炉、转换组成。其中装填工序是将芯片装填在焊接槽里引线上端，现有技术中这个工序还是纯人工手动装填完成的，工作效率低，耗时耗工，且人工将芯片吸笔将芯片运送到指定位置，容易发生遗漏等。
实用新型内容
本实用新型的目的是解决上述不足提供一种二极管生产用真空吸盘。
实现本实用新型目的的技术方案是：一种二极管生产用真空吸盘，具有相连接的顶板和底板，所述顶板上开有真空吸孔，真空吸孔连接顶板内部的真空通道；所述顶板和底板之间具有真空腔；所述真空吸盘的侧面设置有抽真空吸嘴。
上述的二极管生产用真空吸盘，所述真空吸孔为圆形，其直径大于真空通道的横截面直径。
上述的二极管生产用真空吸盘，所述真空吸孔的数量为1500~2100孔，直径为1.6毫米，所述真空通道的横截面直径为0.5毫米。
上述的二极管生产用真空吸盘，所述顶板和底板之间为螺栓连接。
上述的二极管生产用真空吸盘，所述螺栓数量为14个间隔60毫米设置。
上述的二极管生产用真空吸盘，所述两两真空吸孔之间的横向或纵向间隔为3~4毫米。
本实用新型二极管生产用真空吸盘，抽真空吸嘴优选方案为2个，对称设置在真空吸盘的两侧端面上。
本实用新型具有积极的效果：（1）采用真空吸盘定位运送芯片，取代手工操作，大大提高生产效率，节省人力物力；（2）采用双侧抽真空吸嘴，使用时吸力更加均匀，更高效稳定；（3）合理设置螺栓等间距使得真空吸盘更加稳定可靠。
附图说明
为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中
图1为本实用新型的结构示意图，图2为图1的剖视图。
其中1顶板； 2底板；3真空吸孔；4真空通道；5真空腔；6抽真空吸嘴。
具体实施方式
见图1，本实用新型具有相连接的顶板1和底板2，二者之间为螺栓连接，顶板1上开有1500个圆形真空吸孔3，真空吸孔连接顶板1内部的真空通道4；顶板1和底板2之间具有真空腔5；真空吸盘的侧面设置有抽真空吸嘴6；真空吸孔3直径为1.6毫米，真空通道4的横截面直径0.5毫米。螺栓数量为14个间隔60毫米设置；两两真空吸孔3之间的横向或纵向间隔为3毫米。
以上所述的具体实施例，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种二极管生产用真空吸盘，具有相连接的顶板（1）和底板（2），所述顶板（1）上开有真空吸孔（3），真空吸孔连接顶板（1）内部的真空通道（4）；所述顶板（1）和底板（2）之间具有真空腔（5）；所述真空吸盘的侧面设置有抽真空吸嘴（6）。
2.根据权利要求1所述的二极管生产用真空吸盘，其特征在于：所述真空吸孔（3）为圆形，其直径大于真空通道的横截面直径。
3.根据权利要求2所述的二极管生产用真空吸盘，其特征在于：所述真空吸孔（3）的数量为1500~2100孔，直径为1.6毫米，所述真空通道的横截面直径为0.5毫米。
4.根据权利要求1所述的二极管生产用真空吸盘，其特征在于：所述顶板（1）和底板（2）之间为螺栓连接。
5.根据权利要求4所述的二极管生产用真空吸盘，其特征在于：所述螺栓数量为14个间隔60毫米设置。
6.根据权利要求1~4任一所述的二极管生产用真空吸盘，其特征在于：抽真空吸嘴（6）为2个，对称设置在真空吸盘的两侧端面上。
7.根据权利要求3所述的二极管生产用真空吸盘，其特征在于：所述两两真空吸孔（3）之间的横向或纵向间隔为3~4毫米。
Priority Applications (1)
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| CN 201320266481 CN203265834U (zh) | 2013-05-15 | 2013-05-15 | 一种二极管生产用真空吸盘 |
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| CN 201320266481 CN203265834U (zh) | 2013-05-15 | 2013-05-15 | 一种二极管生产用真空吸盘 |
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| CN (1) | CN203265834U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104175321A (zh) * | 2014-08-08 | 2014-12-03 | 歌尔声学股份有限公司 | 整体式真空取料装置 |
| CN105500094A (zh) * | 2015-12-28 | 2016-04-20 | 惠州Tcl移动通信有限公司 | 一种真空吸附装置 |
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2013
- 2013-05-15 CN CN 201320266481 patent/CN203265834U/zh not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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