CN202954105U - 一种电解槽进液均流装置 - Google Patents

一种电解槽进液均流装置 Download PDF

Info

Publication number
CN202954105U
CN202954105U CN 201220683334 CN201220683334U CN202954105U CN 202954105 U CN202954105 U CN 202954105U CN 201220683334 CN201220683334 CN 201220683334 CN 201220683334 U CN201220683334 U CN 201220683334U CN 202954105 U CN202954105 U CN 202954105U
Authority
CN
China
Prior art keywords
electrolytic tank
feed liquor
electrolyzer
liquid inlet
equalizing device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN 201220683334
Other languages
English (en)
Inventor
孟庆芳
马才明
程东
刘海峰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CHONGQING SMELTTED Co Ltd
Original Assignee
CHONGQING SMELTTED Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CHONGQING SMELTTED Co Ltd filed Critical CHONGQING SMELTTED Co Ltd
Priority to CN 201220683334 priority Critical patent/CN202954105U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN202954105U publication Critical patent/CN202954105U/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)

Abstract

本实用新型涉及电解槽进液均流装置,包括电解槽和进液总管,所述进液总管的出口端设置有两个以上的进液支管,所述进液支管上部分在所述电解槽外,下部分在所述电解槽内且所述电解槽内的所述进液支管上均布有出液孔,所述进液支管底部还设置了均布有出液孔的横向支管。本实用新型可使电解液均匀流入电解槽内,实现了电解液在电解槽中的均匀循环,保证电解过程所需稳定的电解液温度、电解液铜离子浓度、酸浓度等生产工艺条件,降低电解槽电压,节约电能,保证铜阳极均匀溶解,降低残极率。本实用新型结构简单,制作容易,适于工业化生产。

Description

一种电解槽进液均流装置
技术领域
本实用新型涉及一种进液均流装置,特别是一种利用电解方法生产电解铜粉的电解槽进液均流装置。
背景技术
电解铜粉是一种重要的有色金属粉末,广泛应用于粉末冶金制品。电解槽是电解制取铜粉的主要生产装置,而电解槽中的电解液必须通过充分的循环才能保持电解过程所需稳定的生产工艺条件,包括稳定的电解液温度、电解液铜离子浓度、酸浓度等,降低电解槽电压,节约电能,保证铜阳极均匀溶解,降低残极率。传统电解铜粉生产方法采取简单的电解液进液装置,即简单采用一根进液管补充电解液,导致电解槽中电解液进液不均匀,造成电解工艺条件不稳定、槽压升高、电耗增加、残极率升高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种电解液进液均匀的电解铜粉电解槽进液均流装置,该装置可稳定电解工艺并降低生产成本。
本实用新型的目的是通过这样的技术方案实现的,一种电解槽进液均流装置,包括电解槽和进液总管,其特征在于:所述进液总管的出口端设置有两个以上的进液支管,所述进液支管上部分在所述电解槽外,下部分在所述电解槽内,且所述电解槽内的所述进液支管上均布有出液孔。
为了使进入电解槽内的电解液分布均匀,所述进液支管底部还固定设置了均布有出液孔的横向支管,且横向支管两端密封。
为了使进入电解槽内的电解液扩散均匀,不会因浓度变化引起电解波动,所述进液支管和横向支管上均布的出液孔面向所述电解槽壁。
为了提高所述电解槽和所述进液支管和横向支管的耐防腐能力,所述电解槽为玻璃钢电解槽,所述进液支管和横向支管均为聚氯乙烯管或聚丙烯管。
由于采用了上述技术方案,本实用新型具有如下的优点:
本实用新型可使电解液均匀流入电解槽内,从而实现电解液在电解槽中的均匀循环,保证电解过程所需稳定的电解液温度、电解液铜离子浓度、酸浓度等生产工艺条件,降低电解槽电压,节约电能,保证铜阳极均匀溶解,降低残极率。本实用新型结构简单,制作容易,适于工业化生产。
附图说明
本实用新型的附图说明如下:
图1为本实用新型实施例的安装示意图;
图2为本实用新型实施例的位置示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明,但实用新型并不局限于本实施方式,任何在本实施例基本精神上的改进或替代,仍属于本实用新型权利要求所要求保护的范围。
实施例1,参见图1、2:一种电解槽进液均流装置,包括电解槽1和进液总管2,所述进液总管2的出口端设置有两个进液支管3,所述进液支管3上部分在所述电解槽1外,下部分在所述电解槽1内且所述电解槽1内的所述进液支管3上均布有出液孔,
进一步参见图2:所述进液支管3底部分别固定设置了均布有出液孔的横向支管4,且横向支管4两端密封。
进一步参见图1、2:所述进液支管3和横向支管4上均布的出液孔面向所述电解槽1壁。
进一步参见图1:进入电解槽1内的电解液经所述进液支管3和横向支管4上均布的出液孔均匀流入整个电解槽1,并从电解槽1另一端的出液管口5流出,形成电解液在电解槽1中稳定均匀的循环。
所述电解槽1为玻璃钢电解槽,所述进液支管3和横向支管4均为聚氯乙烯管。

Claims (3)

1.一种电解槽进液均流装置,包括电解槽(1)和进液总管(2),其特征在于:所述进液总管(2)的出口端设置有两个以上的进液支管(3),所述进液支管(3)上部分在所述电解槽(1)外,下部分在所述电解槽(1)内,且所述电解槽(1)内的所述进液支管(3)上均布有出液孔。
2.如权利要求1所述的电解槽进液均流装置,其特征在于:所述进液支管(3)底部固定设置了均布有出液孔的横向支管(4),且横向支管(4)两端密封。
3.如权利要求1或2所述的电解槽进液均流装置,其特征在于:所述进液支管(3)和横向支管(4)上均布的出液孔面向所述电解槽(1)壁。
CN 201220683334 2012-12-12 2012-12-12 一种电解槽进液均流装置 Expired - Fee Related CN202954105U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201220683334 CN202954105U (zh) 2012-12-12 2012-12-12 一种电解槽进液均流装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201220683334 CN202954105U (zh) 2012-12-12 2012-12-12 一种电解槽进液均流装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN202954105U true CN202954105U (zh) 2013-05-29

Family

ID=48459686

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 201220683334 Expired - Fee Related CN202954105U (zh) 2012-12-12 2012-12-12 一种电解槽进液均流装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN202954105U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104032332B (zh) 一种底部进液循环高电流密度电解沉积金属的装置及实现方法
CN202072769U (zh) 一种制备四甲基氢氧化铵的双膜电解装置
CN203923411U (zh) 一种底部进液循环高电流密度电解沉积金属的装置
CN203200349U (zh) 一种制备高纯钴的隔膜电解槽
CN201801606U (zh) 一种电积镍的隔膜式电解槽
CN104294313A (zh) 黄金电化学溶解装置及其方法
CN206256187U (zh) 一种电解槽
CN204982087U (zh) 一种铜电解液循环装置
CN103409772B (zh) 一种密闭框式电积镍或电积钴电解液的循环系统装置
CN202954105U (zh) 一种电解槽进液均流装置
CN204550732U (zh) 一种可均匀进液的高效卧式电解铜装置
CN103436913B (zh) 一种电积镍或电积钴的装置
CN202297800U (zh) 隔膜电解装置
CN104726901A (zh) 一种隔膜旋流电解装置
CN204530000U (zh) 一种隔膜旋流电解装置
CN203474950U (zh) 一种金属制品表面处理循环装置
CN204898099U (zh) 阳极包覆的间隔式铝电解槽
CN208279695U (zh) 一种用于黄金精炼的高效金电解精炼装置
CN210632632U (zh) 一种土壤重金属治理用阳极结构及土壤重金属处理装置
CN200940161Y (zh) 立式高温高压贵金属电解沉积槽装置
CN204111883U (zh) 一种新型硫酸钴电解槽
CN204690126U (zh) 一种铜阳极旋转电解制合格阴极铜的装置
CN102851709B (zh) 一种高电流密度循环流阳极隔膜电解装置
US20200141012A1 (en) Multi-Tank Hydrogen-Oxygen Separation Reactor
CN207581955U (zh) 一种次氯酸钠发生装置

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20130529

Termination date: 20181212