CN202782000U - 一种增透型防指纹膜 - Google Patents
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Abstract
一种增透型防指纹膜,本实用新型涉及一种透光率较高的防指纹膜,应用领域包括手机、数码相机以及平板电脑等触摸产品。该指纹膜自下而上依次为强化玻璃、第一层高折射率介质层、第一层低折射率介质层、第二层高折射率介质层、第二层低折射率介质层和AF膜层。1、第一层高折射率介质层、第一层低折射率介质层、第二层高折射率介质层、第二层低折射率介质层主要作用就是减少可见光的反射,增加透射。2、AF膜是一种有机高分子聚合物,主要拥有的特性就是疏水、疏油。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种透光率较高的防指纹膜,应用领域包括手机、数码相机以及平板电脑等触摸产品。
背景技术
目前,电子产品正在向触控按键的方向发展,例如手机、数码相机和平板电脑,但是触控面板的表面由于经常触摸,极易被外界污染,因此在触控面板镀制防指纹膜技术发展迅速。防指纹膜也称作AF(anti finger)膜,是一种高分子聚合物,具有疏水、疏油特性,如果触控面板表面有脏污则极易擦拭干净,一般镀制该膜采用真空蒸镀的方法,但是该AF膜缺点为可见光透过率相对较低。
发明内容
为了解决上述缺陷,本实用新型目的在于公开了一种增透型防指纹膜,本实用新型公开的增透型防指纹膜,可以解决AF膜可见光透过率低的缺点。
为了实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种增透型防指纹膜,该指纹膜自下而上依次为强化玻璃、第一层高折射率介质层、第一层低折射率介质层、第二层高折射率介质层、第二层低折射率介质层和AF膜层。
所述的强化玻璃材料是硅酸盐玻璃,厚度在0.5-2毫米。
所述第一层高折射率介质层材料为五氧化三钛。
所述第一层低折射率介质层材料为二氧化硅。
所述第二层高射率介质层材料为五氧化三钛。
所述第二层低折射率介质层材料为二氧化硅。
所述AF膜层材料为有机高分子聚合物。
本实用新型的有益效果:
1、第一层高折射率介质层、第一层低折射率介质层、第二层高折射率介质层、第二层低折射率介质层主要作用就是减少可见光的反射,增加透射。
2、AF膜是一种有机高分子聚合物,主要拥有的特性就是疏水、疏油。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
为了详细叙述本实用新型专利的上述特点,优势和工作原理,下面结合说明书附图和具体实施方式对本实用新型做进一步的说明,但本实用新型所保护的范围并不局限于此。
一种增透型防指纹膜,该指纹膜自下而上依次为强化玻璃1、第一层高折射率介质层2、第一层低折射率介质层3、第二层高折射率介质层4、第二层低折射率介质层5和AF膜层6。
所述的强化玻璃1材料是硅酸盐玻璃,厚度在0.5-2毫米。
所述第一层高折射率介质层2材料为五氧化三钛。
所述第一层低折射率介质层3材料为二氧化硅。
所述第二层高射率介质层4材料为五氧化三钛。
所述第二层低折射率介质层5材料为二氧化硅。
所述AF膜层6材料为有机高分子聚合物。
强化玻璃1是镀膜的基片,是经过化学方法强化处理过的硅酸盐玻璃,根据要求切割成需要的外形,厚度为0.5-2毫米。第一层高折射率介质层2为五氧化三钛采用真空蒸镀的方法将其镀制在强化玻璃1表面。第一层低折射率介质层3为二氧化硅,是二氧化硅晶体被真空蒸镀到第一层高折射率介质层2上。第二层高折射率介质层4同样为五氧化三钛也是采用真空蒸镀的方法,将其镀在第一层低折射率介质层3上。在第二层高折射率介质层4上,镀制一层二氧化硅为第二层低折射率介质层5,这样第一层高折射率介质层2、第一层低折射率介质层3、第二层高折射率介质层4、第二层低折射率介质层5镀制完成,这四层膜主要作用就是减少可见光的反射,增加透射。最后一层,也是主要的功能层为AF膜层6,AF膜是一种有机高分子聚合物,主要拥有的特性就是疏水、疏油。
Claims (7)
1.一种增透型防指纹膜,其特征在于:该指纹膜自下而上依次为强化玻璃(1)、第一层高折射率介质层(2)、第一层低折射率介质层(3)、第二层高折射率介质层(4)、第二层低折射率介质层(5)和AF膜层(6)。
2.根据权利要求1所述的增透型防指纹膜,其特征在于:所述的强化玻璃(1)材料是硅酸盐玻璃,厚度在0.5-2毫米。
3.根据权利要求1所述的增透型防指纹膜,其特征在于:所述第一层高折射率介质层(2)材料为五氧化三钛。
4.根据权利要求1所述的增透型防指纹膜,其特征在于:所述第一层低折射率介质层(3)材料为二氧化硅。
5.根据权利要求1所述的增透型防指纹膜,其特征在于:所述第二层高射率介质层(4)材料为五氧化三钛。
6.根据权利要求1所述的增透型防指纹膜,其特征在于:所述第二层低折射率介质层(5)材料为二氧化硅。
7.根据权利要求1所述的增透型防指纹膜,其特征在于:所述AF膜层(6)材料为有机高分子聚合物。
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