CN202570270U

CN202570270U - 可变比高能行星磨

Info

Publication number: CN202570270U
Application number: CN 201220256829
Authority: CN
Inventors: 金善文
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2012-06-03
Filing date: 2012-06-03
Publication date: 2012-12-05
Anticipated expiration: 2022-06-03

Abstract

本实用新型的可变比高能行星磨，包括：底座2、自转变速输入机构3、公转盘总成5、主轴8、自传主齿轮10、公转变速输入机构11、公转主齿轮12、电源控制柜13；回转托盘6、行星工作筒体7、自转传动齿轮4构成整机的旋转部分，整机的旋转部分通过轴承被设置在底座2上，公转变速输入机构11连接在主轴8的一端，在主轴8上设置有公转盘总成5，在公转盘总成5上均布设置行星工作筒体7，行星工作筒体7的一端带有自转传动齿轮4，自转变速输入机构3通过自传主齿轮10与自转传动齿轮4齿合。本实用新型通过双传动逆向运行，任意调节公转和自传的速度比，达到了无节比速比，使不同的材料研磨出理想的效果。

Description

可变比高能行星磨

技术领域

本实用新型涉及一种球磨设备，具体地讲是涉及一种可以循环转动的行星式球磨机。

背景技术

纳米是国际材料界当前研究的热点，其具有低密度，高膨胀系数、低饱和磁化率、地扩散激活能、高扩散系数、高比热等优异性能，而且还可将不同普通材料所具有的电、磁、光学等性能兼具于一身。

目前主要采用高速分散法来制备性能优异的纳米材料。

球磨机是粉料混合、细磨、小样制备、纳米材料分散等加工中必备的设备。现有的球磨机一般均是由电机带动转盘转动，转盘带动安装在转盘的球磨罐公转，球磨罐在公转的同时，通过其下端的行星轮在安装在转盘轴上的主齿轮的带动下自转。例如：《行星式循环摇摆式球磨机》（专利号：200820036645.0），这种结构的球磨机在实际使用中往往无法达到理想效果，多种材料不能达到最佳混合磨细。

发明内容

为了概括本实用新型的目的，在这里描述了本实用新型的某些方面、优点和新颖特征。应了解，无需所有这些方面、优点和特征包含在任一特殊的实施例中。

为了解决上述现有技术中所存在的问题，本实用新型的目的是设计可变比高能行星磨，其技术方案是：一种可变比高能行星磨，它包括：底座2、自转变速输入机构3、自转传动齿轮4、公转盘总成5、回转托盘6、行星工作筒体7、主轴8、自传主齿轮10、公转变速输入机构11、公转主齿轮12、电源控制柜13变速控制面板14；所述回转托盘6、行星工作简体7、自转传动齿轮4构成整机的旋转部分，所述整机的旋转部分通过轴承被设置在所述底座2上所述公转变速输入机构11连接在主轴8的一端，在所述主轴8上设置有所述公转盘总成5，在所述公转盘总成5上均布设置所述行星工作筒体7，所述行星工作筒体7的一端带有所述自转传动齿轮4，所述自转变速输入机构3通过所述自传主齿轮10与所述自转传动齿轮4齿合。

上述的可变比高能行星磨，其进一步的特征在于：所述主轴8通过固定主轴螺丝9固定住所述公转盘总成5，在所述公转盘总成5的同心圆周上均布设置四个所述行星工作筒体7，每个行星工作筒体7的一端带有小齿轮自转传动齿轮4；所述电源控制柜13上设有变速控制面板14；在所述底座2的下面安装有底脚1。

本实用新型的有益效果是：可变比高能行星磨，该设备不存在传统球磨机的“磨碎极限”问题，能够完成细磨，超细磨的使命，此外，此设备具有加工成本低，产量高，制备工艺简单等优点，采用该设备所制的粉料细度均匀，能够可达到100nm或更小。

附图说明

图1是本实用新型实施例的整体结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细地说明。

本发明属于粉碎体超细加工和纳米粉体加工领域，是纳米材料的制备方法的专有设备，本发明解决了粉体精细加工中成本高、效率低、质量低等难题，借助与专有设备，公转、自转均可调速的行星球磨机，全部齿轮传动。

申请人研制的多功能纳米分散设备，即可变比高能行星磨，具有加工成本低、产量高、制备工艺简单等优点。采用该设备所制的粉料细度均匀，并可达到100nm或更小。

本实用新型研制成功后，可用于加工纳米粉体，广泛应用于无机非金属材料、涂料、添加剂、医药等高等精细化学品的实验、制备与研究等领域。

本实用新型的研制，包括所加工设备的原理设计和工艺设计、各种零配件的购置、组装加工等。该设备需要机座、变频电机（3.0KW）、变频器、高压风机、隔音罩、主机、减震器、主轴、小轴、齿轮、轴承、研磨球、电控柜等设备支持。

本实用新型与同类设备进行比较，不难发现：传统球磨机都是在重力场中进行粉碎，冲击力无法达到超细颗粒进一步破碎时所需的冲击力，因此存在所谓的“磨碎极限”问题，无法完成细磨、超细磨的使命。

本实用新型的设计法案突出提高粉碎力和粉碎频率，从而达到纳米级粉碎。具有以下特点：

1.用多倍于重力加速度的力场来代替重力场，磨筒工作时既有公转又有自传，磨球在自传、公转等合力的作用下，离心加速度可达重力加速度的10～20倍甚至更高，而且在摩擦力作用下磨球高速旋转、撞击时对物料产生很强的剪切，研磨作用。使物料和磨球在磨筒内受抛落、翻滚、撞击、反弹、溅射作用而弥散于整个磨筒空间，使物料分散合理、均匀。

2.提高筒体定位精度，提高旋转时的静、动平衡和运转平稳性，提高极限运转，提高撞击力和撞击频率。

如图1所示为本实施例的整体结构示意图，一种可变比高能行星磨，它是一种制备纳米材料的专用设备，该球磨机设备包括：底脚1、底座2、自转变速输入机构3、自转传动齿轮4、公转盘总成5、回转托盘6、行星工作筒体7、主轴8、固定主轴螺丝9、自传主齿轮10、公转变速输入机构11、公转主齿轮12、电源控制柜13、变速控制面板14。

所述主轴8，通过固定主轴螺丝9固定住公转盘总成5；回转托盘6、行星工作筒体7、自转传动齿轮4构成整机的旋转部分，整机的旋转部分通过轴承被设置在底座2上，公转变速输入机构11连接在主轴8的一端，在主轴8上设置有一个公转盘总成5，在公转盘总成5的同心圆周上均布设置四个行星工作筒体7，每个行星工作筒体7的一端带有小齿轮自动传动齿轮4，自转变速输入机构3通过自传主齿轮10和自转传动齿轮4齿合，在底座2的下面安装有底脚。

本实用新型最大特征在于：通过双传动逆向运行，使根据不同的材料任意调节公转和自传的速度比，真正达到了无节比速比，使不同的材料研磨出理想的效果，最大的优越性设计了齿轮传动，大大延长了使用寿命。

虽然本实用新型已以较佳实施例公开如上，但它们并不是用来限定本实用新型，任何熟悉此技艺者，在不脱离本实用新型之精神和范围内，自当可作各种变化或润饰，因此本实用新型的保护范围应当以本申请的权利要求保护范围所界定的为准。

Claims

1.一种可变比高能行星磨，其特征在于，它包括：底座（2）、自转变速输入机构（3）、自转传动齿轮（4）、公转盘总成（5）、回转托盘（6）、行星工作筒体（7）、主轴（8）、自传主齿轮（10）、公转变速输入机构（11）、公转主齿轮（12）、电源控制柜（13）；所述回转托盘（6）、行星工作筒体（7）、自转传动齿轮（4）构成整机的旋转部分，所述整机的旋转部分通过轴承被设置在所述底座（2）上，所述公转变速输入机构（11）连接在主轴（8）的一端，在所述主轴（8）上设置有所述公转盘总成（5），在所述公转盘总成（5）上设置所述行星工作筒体（7），所述行星工作筒体（7）的一端带有所述自转传动齿轮（4），所述自转变速输入机构（3）通过所述自传主齿轮（10）与所述自转传动齿轮（4）齿合。

2.根据权利要求1所述的可变比高能行星磨，其特征在于：所述主轴（8）通过固定主轴螺丝（9）固定住所述公转盘总成（5），在所述公转盘总成（5）的同心圆周上均布设置四个所述行星工作筒体（7），每个行星工作筒体（7）的一端带有小齿轮自转传动齿轮（4）；所述电源控制柜（13）上设有变速控制面板（14）；在所述底座（2）的下面安装有底脚（1）。