CN202337730U - 玻璃镀膜用反应器 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及玻璃镀膜用反应器，其特征在于：包括一个沿镀膜生产线宽度设置的进气腔（1），所述的进气腔（1）由上到下被分割成一组相通的小气腔室，进气腔（1）的上端设有进气管（4）对进气腔输入气体，进气腔（1）的底面设有一个沿镀膜生产线宽度设置的长条形喷气口（8）与镀膜室相联通，用于对玻璃镀膜。本实用新型的有益效果是结构简单、拆卸方便、更换灵活，易于实现均匀镀膜，并抑制预反应及堵塞。

Description

玻璃镀膜用反应器

技术领域

本实用新型涉及一种玻璃镀膜用反应器，具体涉及一种适用于大尺寸玻璃基板的玻璃镀膜用反应器。

背景技术

玻璃镀膜，尤其是在大尺寸玻璃基板上镀膜，常用的工艺是化学气相沉积，这一工艺的难点是对镀膜均匀性的控制，膜层厚度的不均匀，或是薄膜化学性质的不均匀，都会导致镀膜玻璃光学、电学等性能指标的降低。要得到均匀的镀层，必须使镀膜前驱物在整个基板宽度方向上进气、排气以及温度分布都是均匀的。为了在大尺寸基板上均匀成膜，有很多的方法被采用，1. 采取在气体通道内设置许多连续的挡板，增加气体的行程和阻力来达到气体在玻璃宽度方向上分布均匀，对镀膜前驱气体的混合和宽度方向上分布均匀都起到很好的作用，但是增加了气体的行程，对于具有热敏性的镀膜前躯体无疑增加了发生预反应的可能性。2.进气管采取的是多级套管的形式，每级套管上开有一定数量不等距的小孔，通过这种等静压管设计基本能实现基板宽度方向上气体的均匀性，但管上小孔的加工精度很难保证，更重要的是很容易造成小孔堵塞，难以清理。3. 为了能够达到玻璃基板宽度方向上气体分布均匀，采用分段补气的方式，但是这样的镀膜气体分配装置本身结构过于复杂而难以控制。4. 采取的是单根管路单侧进气，通道内设置有气体分布装置，这种装置采取单根管的单侧进气，很难保证气体在基板宽度方向上分布均匀。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有气体在基板宽度方向上分布不均匀，结构复杂的缺陷，而提供一种玻璃镀膜用反应器。 

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

玻璃镀膜用反应器，其特征在于：包括一个沿镀膜生产线宽度设置的进气腔，所述的进气腔由上到下被分割成多个相通的小气腔室，进气腔的上端设有进气管对进气腔输入气体，进气腔的底面设有一个沿镀膜生产线宽度设置的长条形喷气口与镀膜室相联通，用于对玻璃镀膜。

镀膜气体由上而下经过多个小气腔室，混合均匀，在大尺寸基板上均匀成膜，且结构简单，并抑制预反应及堵塞。

在上述的主要技术方案的基础上，可以增加以下进一步完善的技术方案：

所述的进气腔由气体均布板分割成两排十二个小气腔室，上部的六个小气腔室间的气体均布板上设有一组沿镀膜生产线宽度设置的气孔，下部的六个小气腔室间的气体均布板具有沿镀膜生产线宽度设置长条形窄缝，上部的带有六个气孔的小气腔室可以使镀膜气体均匀混合，下部的六个小气腔室可以使镀膜气体按照长条形窄缝进行流通，便于对镀膜气体流通方向的控制；所述的小气腔室的数量可以根据镀膜线的跨度变化，以及气孔、长条形窄缝设置位置都可以改变以保证镀膜气体均匀混合。

所述的进气腔两外侧分别设有一个沿镀膜生产线宽度设置的温度控制腔，温度控制腔内可以根据实际生产的需要通入不同的循环介质，阻隔了镀膜器外界温度对镀膜气体温度的影响，以抑制气态原料之间的预反应。

所述的每个温度控制腔的外侧设有一个沿镀膜生产线宽度设置的排气腔，每个排气腔内设有一组沿镀膜生产线宽度设置的圆形管，相邻的圆形管间具有一个沿圆形管通长方向设置的窄通道相连通，相连的一组圆形管的一端的一个圆形管与排气腔底部接触，在接触处具有一个沿镀膜生产线宽度设置的吸入口，将圆形管与镀膜室相联通，另一端的一个圆形管上设有相联通的排气管与外界相通，排气腔为了保证是镀膜后的废气从镀膜室内排出，保持镀膜室内处于良好的镀膜环境，这种圆管设计能减小排气阻力，防止通道堵塞；所述的进一组沿镀膜生产线宽度设置的圆形管在排气腔内相连成蛇形状结构，这种蛇形设计能够保证反应器排气的均匀性。

所述的每个排气腔的外侧分别设有一个沿镀膜生产线宽度设置的温度控制腔，温度控制腔内可以根据实际生产的需要通入不同的循环介质，阻隔了镀膜器外界温度对镀膜气体温度的影响，以抑制气态原料之间的预反应。

本实用新型的有益效果是结构简单、拆卸方便、更换灵活，易于实现均匀镀膜，并抑制预反应及堵塞。

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

附图说明：

图1为本实用新型的主视图。

具体实施方式

如图1所示，本实用新型玻璃镀膜用反应器，包括一个进气腔1、进气腔1沿镀膜生产线宽度设置，进气腔1由气体均布板6分割成两列十二个小气腔室，由上到下具有六层小气腔室，每层具有两个小气腔室，上部的六个小气腔室间的气体均布板6上设有一组沿镀膜生产线宽度设置的气孔，使相邻的两个小气腔室由上到下相联通，下部的六个小气腔室间的气体均布板6具有沿镀膜生产线宽度设置长条形窄缝7，使相邻的两个小气腔室由上到下相联通，上部的带有气孔的六个小气腔室可以使镀膜气体均匀混合，下部的六个小气腔室可以使镀膜气体按照长条形窄缝进行流通，便于对镀膜气体流通方向的控制，进气腔的上端设有进气管4对进气腔1输入气体，可采用从镀膜线的两侧分别设置一根进气管对进气腔1输入气体，进气腔1的底面设有一个沿镀膜生产线宽度设置的长条形喷气口8与镀膜室相联通；

所述的进气腔两外侧分别设有一个沿镀膜生产线宽度设置的温度控制腔3，所述的温度控制腔3与进气腔1的高度相等，每个温度控制腔3与进气腔1间间隔一个进气腔1的一个侧壁，每个温度控制腔3的外侧设有一个沿镀膜生产线宽度设置的排气腔2，每个排气腔2内设有一组沿镀膜生产线宽度设置的圆形管，相邻的圆形管间具有一个沿圆形管通长方向设置的窄通道10相连通，相连的一组圆形管的一端的一个圆形管与排气腔2底部接触，在接触处具有一个沿镀膜生产线宽度设置的吸入口9，将圆形管与镀膜室相联通，另一端的一个圆形管上设有相联通的排气管5与外界相通，排气腔2用于镀膜后的废气从镀膜室内排出，所述的一组沿镀膜生产线宽度设置的圆形管在排气腔内相连成蛇形状结构，所述的每个排气腔的外侧分别设有一个沿镀膜生产线宽度设置的温度控制腔3，温度控制腔3内可以根据实际生产的需要通入不同的循环介质，阻隔了镀膜器外界温度对镀膜气体温度的影响，以抑制气态原料之间的预反应。

反应性气体由进气管4从反应器的两端通入进气腔1，进气腔1分为十二个小进气腔，沿气流方向，前六个进气腔之间由经过特殊设计的气体均布板6相连，后六个气体腔由一定宽度的窄缝7相通，气体经过这十二个特殊设计的小进气腔后能得到很好的均相分布，从而能保证反应器进气的均匀性；两个排气腔2是对称的，内部结构一样，排气腔2两端各有一根排气管5，排气腔2由七级类似于蛇形管的圆形通道组成，每级圆管之间由一定宽度的窄通道10相连，这种圆管设计一方面能减小排气阻力，防止通道堵塞，另一方面这种蛇形设计能够保证反应器排气的均匀性；排气腔、进气腔的外层设置有温度控制腔3，温度控制腔3内可以根据实际生产的需要通入不同的循环介质，阻隔了镀膜器外界温度对镀膜气体温度的影响，以抑制气态原料之间的预反应。进气通道里的每个气体均布板6上分布孔的总面积与进气腔气体喷出口8面积相对应，基本保持一致，后六个小进气腔之间的窄缝7宽度与进气腔气体喷出口8宽度相同；排气腔2中连接各级圆管的窄通道10尺寸与排气腔吸入口9的尺寸保持一致；

镀膜反应器的材质可以是石墨、熔融石英、刚玉、不锈钢等中任何一种。本实用新型的有益效果是结构简单、拆卸方便、更换灵活，易于实现均匀镀膜，并抑制预反应及堵塞。

Claims (5)

1.玻璃镀膜用反应器，其特征在于：包括一个沿镀膜生产线宽度设置的进气腔（1），所述的进气腔（1）由上到下被分割成一组相通的小气腔室，进气腔（1）的上端设有进气管（4）对进气腔输入气体，进气腔（1）的底面设有一个沿镀膜生产线宽度设置的长条形喷气口（8）与镀膜室相联通，用于对玻璃镀膜。

2.根据权利要求1所述的玻璃镀膜用反应器，其特征在于：所述的进气腔（1）由气体均布板（6）分割成两列十二个小气腔室，上部的六个小气腔室间的气体均布板（6）上设有一组沿镀膜生产线宽度设置的气孔，下部的六个小气腔室间的气体均布板（6）具有沿镀膜生产线宽度设置长条形窄缝（7）。

3.根据权利要求1或2所述的玻璃镀膜用反应器，其特征在于：所述的进气腔（1）两外侧分别设有一个沿镀膜生产线宽度设置的温度控制腔（3）。

4.根据权利要求3所述的玻璃镀膜用反应器，其特征在于：所述的每个温度控制腔（3）的外侧设有一个沿镀膜生产线宽度设置的排气腔（2），每个排气腔（2）内设有一组沿镀膜生产线宽度设置的圆形管，相邻的两圆形管间具有一个沿圆形管通长方向设置的窄通道（10）相连通，相连的一组圆形管的一端的一个圆形管与排气腔底部接触，在接触处具有一个沿镀膜生产线宽度设置的吸入口（9），将圆形管与镀膜室相联通，另一端的一个圆形管上设有相联通的排气管（5）与外界相通。

5.根据权利要求4所述的玻璃镀膜用反应器，其特征在于：所述的每个排气腔（2）的外侧分别设有一个沿镀膜生产线宽度设置的温度控制腔（3）。