CN202322637U - 玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室，包括容器体、铝靶和传动辊，铝靶和传动辊均设于容器体内部，铝靶设于传动辊上方，容器体内壁和传动辊外表面上分别设有碳层。本玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室结构简单，在现有真空镀膜工艺室的基础上增加碳层，使铝靶溅射时铝层与碳层结合在一起，清理时只要采用硬物轻敲，铝层与碳层同时脱落，整个清理过程快速方便，对工艺室内各零部件的损害也较小，而碳的价格较低，所以对玻璃镀膜工艺的成本影响也不大。
Description
技术领域
本实用新型涉及玻璃镀膜技术领域，特别涉及一种玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室。
背景技术
在真空镀膜设备中经常需要使用到铝靶，而在实际的工艺生产中，采用铝靶进行镀膜时，并非所有的溅射粒子都会溅射到工件上，部分粒子会在容器内壁和传动辊等零件上沉积，长时间后会形成一层致密的铝层，这种铝层累积到一定程度后需要清理，否则会影响真空系统的抽气速度，同时也影响镀膜质量。在目前使用的真空镀膜设备中，铝靶溅射后铝层直接贴附于容器内壁和传动辊上，清理时一般采用钢刷刷、锤子敲打、磨机打磨、铲子铲等方法，但这些方法使用时操作麻烦、清理也不够彻底，还容易损坏各零部件，影响生产效率和工件质量。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种铝层清理较为方便快速的玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室。
本实用新型的技术方案为：一种玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室，包括容器体、铝靶和传动辊，铝靶和传动辊均设于容器体内部，铝靶设于传动辊上方，所述容器体内壁和传动辊外表面上分别设有碳层。
所述碳层的厚度为1～2mm。
作为一种优选方案，所述容器体内，位于铝靶下方的侧壁及容器体底面分别设置碳层。由于位于铝靶上方的容器体内壁及其它零部件受到铝靶溅射的几率小很多，所以当需要节省碳层用料时，可以只在铝靶下方的侧壁及容器体底面上设置碳层即可。
为了使容器体内各个零部件的清理都较为方便，除了容器体内壁及传动辊外，设于容器体内的各零部件表面也可设置碳层。
本玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室使用时，其原理是：真空镀膜工艺室使用前，预先在容器体内壁及各个传动辊上涂覆碳层；真空镀膜工艺室使用时，铝靶溅射过程中落到容器体内壁及各传动辊等零件上的铝粒子与碳层结合在一起；真空镀膜工艺室需要清理时，只要采用硬物轻敲，铝层与碳层同时脱落，清理过程快速方便，对工艺室内各零部件的损害也较小。
上述原理中，涂覆碳层时，只要将碳块加入溶液中，搅拌溶解后，将溶液均匀涂覆到容器体内壁及各个传动辊或其它零部件上，待溶液风干后即在容器体内壁及各个传动辊或其它零部件上分别形成碳层。
本实用新型相对于现有技术，具有以下有益效果：
本玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室结构简单，在现有真空镀膜工艺室的基础上增加碳层，使铝靶溅射时铝层与碳层结合在一起，清理时只要采用硬物轻敲，铝层与碳层同时脱落，整个清理过程快速方便，对工艺室内各零部件的损害也较小，而碳的价格较低，所以对玻璃镀膜工艺的成本影响也不大。
附图说明
图1为本玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室的结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例及附图，对本实用新型作进一步的详细说明，但本实用新型的实施方式不限于此。
实施例
本实施例一种玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室，如图1所示，包括容器体1、铝靶2和传动辊3，铝靶2和传动辊3均设于容器体1内部，铝靶2设于传动辊3上方，容器体内壁和传动辊外表面上分别设有碳层4。
碳层4的厚度可为1～2mm。
作为一种优选方案，在容器体内，可只在位于铝靶下方的侧壁及容器体底面分别设置碳层。由于位于铝靶上方的容器体内壁及其它零部件受到铝靶溅射的几率小很多，所以当需要节省碳层用料时，可以只在铝靶下方的侧壁及容器体底面上设置碳层即可。
为了使容器体内各个零部件的清理都较为方便，除了容器体内壁及传动辊外，设于容器体内的各零部件表面也可设置碳层。
本玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室使用时，其原理是：真空镀膜工艺室使用前，预先在容器体内壁及各个传动辊上涂覆碳层；真空镀膜工艺室使用时，铝靶溅射过程中落到容器体内壁及各传动辊等零件上的铝粒子与碳层结合在一起(形成如图1中所示的铝沉积层5)；真空镀膜工艺室需要清理时，只要采用硬物轻敲，铝层与碳层同时脱落，清理过程快速方便，对工艺室内各零部件的损害也较小。
上述原理中，涂覆碳层时，只要将碳块加入溶液中，搅拌溶解后，将溶液均匀涂覆到容器体内壁及各个传动辊或其它零部件上，待溶液风干后即在容器体内壁及各个传动辊或其它零部件上分别形成碳层。
如上所述，便可较好地实现本实用新型，上述实施例仅为本实用新型的较佳实施例，并非用来限定本实用新型的实施范围；即凡依本实用新型内容所作的均等变化与修饰，都为本实用新型权利要求所要求保护的范围所涵盖。
Claims (3)
1.玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室，包括容器体、铝靶和传动辊，铝靶和传动辊均设于容器体内部，铝靶设于传动辊上方，其特征在于，所述容器体内壁和传动辊外表面上分别设有碳层。
2.根据权利要求1所述玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室，其特征在于，所述碳层的厚度为1～2mm。
3.根据权利要求1所述玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室，其特征在于，所述容器体内，位于铝靶下方的侧壁及容器体底面分别设置碳层。
Priority Applications (1)
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| CN2011204562230U CN202322637U (zh) | 2011-11-17 | 2011-11-17 | 玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN202322637U true CN202322637U (zh) | 2012-07-11 |
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Family Applications (1)
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| CN2011204562230U Expired - Fee Related CN202322637U (zh) | 2011-11-17 | 2011-11-17 | 玻璃镀膜用的真空镀膜工艺室 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN202322637U (zh) |
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2011
- 2011-11-17 CN CN2011204562230U patent/CN202322637U/zh not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
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| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C17 | Cessation of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20120711 Termination date: 20121117 |