CN202297758U - 镀膜用平面靶装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种镀膜用平面靶装置,包括有平面靶壳体,平面靶壳体内设置有容纳空间,特点是:容纳空间底部设置有磁钢组件,容纳空间顶部设置有散热组件;散热组件顶部设置有靶材组件。这样,通过散热背板与热铜管的配合,取代了之前的靠O型圈整体密封的结构。由此,既保证了冷却效果,又解决了因为密封不好导致腔体内积水的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种平面靶装置,尤其涉及一种镀膜用平面靶装置。
背景技术
目前生产镀膜玻璃的设备中大多采用平面溅射阴极靶材,其工作原理是:将需镀膜的玻璃送入真空镀膜室内,真空镀膜室内通入一定量的高纯工艺气体一如氧气、氮气或氩气,在电磁场及游离电子的作用下工艺气体形成带正电的等离子体,等离子体在载有高负电压的阴极的吸引下,在磁场的控制下,按照一定的轨迹和力度轰击固定安装在真空镀膜室内的平面阴极靶材上的镀膜用材料,镀膜材料被气体分子碰撞出来,按照一定方向沉积在玻璃上形成一定厚度的膜层。
但是,现有的O型圈密封安装时会容易错位,导致密封不好,冷却水会泄漏,漏到腔室里就要人工处理,花费时间较多,影响生产。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术存在的以上问题,提供一种镀膜用平面靶装置。
为实现本实用新型的目的镀膜用平面靶装置,包括有平面靶壳体,所述的平面靶壳体内设置有容纳空间,其中:所述的容纳空间底部设置有磁钢组件,所述容纳空间顶部设置有散热组件;所述的散热组件顶部设置有靶材组件。
进一步地,上述的镀膜用平面靶装置,其中,所述的散热组件设置有连接孔,所述散热组件通过十字槽沉头螺钉与平面靶壳体相连。
更进一步地,上述的镀膜用平面靶装置,其中,所述的散热组件包括有散热背板,所述散热背板上分布有散热铜管。
更进一步地,上述的镀膜用平面靶装置,其中,所述的容纳空间内设置有衔接槽,所述的靶材组件之间设置有压条,所述的压条内穿设有衔接组件,所述衔接组件的底部连入衔接槽。
再进一步地,上述的镀膜用平面靶装置,其中,所述的衔接组件为内六角圆柱头螺钉。
采用本实用新型技术方案,通过散热背板与热铜管的配合,取代了之前的靠O型圈整体密封的结构。由此,既保证了冷却效果,又解决了因为密封不好导致腔体内积水的问题。
本实用新型的目的、优点和特点,将通过下面优先实施例的非限制性说明进行图示和解释,这些实施例是参照附图仅作为例子给出的。
附图说明
图1是镀膜用平面靶装置的构造示意图。
具体实施方式
如图1所示的镀膜用平面靶装置,包括有平面靶壳体1,再平面靶壳体1内设置有容纳空间,其与众不同之处在于:本实用新型所采用的容纳空间底部设置有磁钢组件2。同时,在容纳空间顶部设置有散热组件。与之对应的是,在散热组件顶部设置有靶材组件3。
结合本实用新型一较佳的实施方式来看,为了便于实际生产的组装便捷与稳固,本实用新型所采用的散热组件设置有连接孔,散热组件通过十字槽沉头螺钉4与平面靶壳体1相连。
进一步来看,考虑到能够提升散热效果,散热组件包括有散热背板5,其可以采用铜材制成。同时,在散热背板5上分布有散热铜管6。并且,为了能够让散热铜管6的散热面积得以替身,散热铜管6呈S形迂回分布在散热铜管6上。
再进一步来看,容纳空间内设置有衔接槽,靶材组件3之间设置有压条7。并且,所述的压条7内穿设有衔接组件。这样,在实际组装式,衔接组件的底部连入衔接槽。当然,为了便于操作人员的组装,衔接组件为内六角圆柱头螺钉8。
通过上述的文字表述并结合附图可以看出,采用本实用新型后,通过散热背板5与热铜管的配合,取代了之前的靠O型圈整体密封的结构。由此,既保证了冷却效果,又解决了因为密封不好导致腔体内积水的问题。
当然,以上仅是本实用新型的具体应用范例,对本实用新型的保护范围不构成任何限制。除上述实施例外,本实用新型还可以有其它实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案,均落在本实用新型所要求保护的范围之内。
Claims (5)
1.镀膜用平面靶装置,包括有平面靶壳体,所述的平面靶壳体内设置有容纳空间,其特征在于:所述的容纳空间底部设置有磁钢组件,所述容纳空间顶部设置有散热组件;所述的散热组件顶部设置有靶材组件。
2.根据权利要求1的镀膜用平面靶装置,其特征在于:所述的散热组件设置有连接孔,所述散热组件通过十字槽沉头螺钉与平面靶壳体相连。
3.根据权利要求1所述的镀膜用平面靶装置,其特征在于:所述的散热组件包括有散热背板,所述散热背板上分布有散热铜管。
4.根据权利要求1所述的镀膜用平面靶装置,其特征在于:所述的容纳空间内设置有衔接槽,所述的靶材组件之间设置有压条,所述的压条内穿设有衔接组件,所述衔接组件的底部连入衔接槽。
5.根据权利要求4的镀膜用平面靶装置,其特征在于:所述的衔接组件为内六角圆柱头螺钉。
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CN2011202225961U CN202297758U (zh) | 2011-06-28 | 2011-06-28 | 镀膜用平面靶装置 |
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CN202297758U true CN202297758U (zh) | 2012-07-04 |
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CN (1) | CN202297758U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN102268649A (zh) * | 2011-06-28 | 2011-12-07 | 黄峰 | 镀膜用平面靶装置 |
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- 2011-06-28 CN CN2011202225961U patent/CN202297758U/zh not_active Expired - Fee Related
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GR01 | Patent grant | ||
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