CN202284902U - 一种新型钼坩埚 - Google Patents
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Abstract
一种新型钼坩埚,由容器体和钼盖构成,在容器体的底部设有通孔Ⅰ,通孔Ⅰ与容器体同轴线设置,在通孔Ⅰ的圆周还设有四个通孔Ⅱ,每个通孔Ⅱ的中心与通孔Ⅰ的中心等距离设置。本实用新型,耐高温性能好,使用寿命长,可用于高温作业领域。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种加热难熔化物质的器皿,具体的说是一种新型钼坩埚。
背景技术
目前,市场上出售的坩埚一般采用陶瓷等耐火材料制成,该类材质的坩埚在一些特殊场合使用效果较差,例如高温作业领域;其次该种坩埚由于其结构设计不尽合理导致其使用效果较差。
实用新型内容
本实用新型的目的是为解决上述技术问题的不足,提供一种新型钼坩埚,耐高温性能好,使用寿命长。
本实用新型为解决上述技术问题的不足,所采用的技术方案是:一种新型钼坩埚,由容器体和钼盖构成,在容器体的底部设有通孔Ⅰ,通孔Ⅰ与容器体同轴线设置,在通孔Ⅰ的圆周还设有四个通孔Ⅱ,每个通孔Ⅱ的中心与通孔Ⅰ的中心等距离设置。
所述的通孔Ⅱ的孔径小于通孔Ⅰ的孔径。
在容器体的底部还设有定位凹槽,定位凹槽与容器体同轴线设置。
本实用新型的有益效果是:
本实用新型,耐高温性能好,使用寿命长,可用于高温作业领域。
附图说明
图1是本实用新型的结构剖视图。
图2是本实用新型中定位凹槽设置方式示意图。
图中标记: 1、容器体,2、钼盖,3、通孔Ⅰ,4、通孔Ⅱ,5、定位凹槽。
具体实施方式
如图所示,一种新型钼坩埚,由容器体1和钼盖2构成,所述的容器体的材质为钼,该材质具有良好的耐高温性能,可广泛用于高温作业,在容器体1的底部设有通孔Ⅰ3,通孔Ⅰ3与容器体1同轴线设置,在通孔Ⅰ3的圆周还设有四个通孔Ⅱ4,每个通孔Ⅱ4的中心与通孔Ⅰ3的中心等距离设置。
所述的通孔Ⅱ4的孔径小于通孔Ⅰ3的孔径。
在容器体1的底部还设有定位凹槽5,定位凹槽5与容器体1同轴线设置,定位凹槽的设置更加方便使用。
Claims (3)
1.一种新型钼坩埚,其特征在于:由容器体(1)和钼盖(2)构成,在容器体(1)的底部设有通孔Ⅰ(3),通孔Ⅰ(3)与容器体(1)同轴线设置,在通孔Ⅰ(3)的圆周还设有四个通孔Ⅱ(4),每个通孔Ⅱ(4)的中心与通孔Ⅰ(3)的中心等距离设置。
2.根据权利要求1所述的一种新型钼坩埚,其特征在于:所述的通孔Ⅱ(4)的孔径小于通孔Ⅰ(3)的孔径。
3.根据权利要求1所述的一种新型钼坩埚,其特征在于:在容器体(1)的底部还设有定位凹槽(5),定位凹槽(5)与容器体(1)同轴线设置。
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CN2011204211179U CN202284902U (zh) | 2011-10-31 | 2011-10-31 | 一种新型钼坩埚 |
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Country Status (1)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN105274618A (zh) * | 2014-06-06 | 2016-01-27 | 硅电子股份公司 | 用于由半导体材料制造晶体的装置和方法 |
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2011
- 2011-10-31 CN CN2011204211179U patent/CN202284902U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
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CN105274618A (zh) * | 2014-06-06 | 2016-01-27 | 硅电子股份公司 | 用于由半导体材料制造晶体的装置和方法 |
CN105274618B (zh) * | 2014-06-06 | 2018-04-24 | 硅电子股份公司 | 用于由半导体材料制造晶体的装置和方法 |
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