CN202271474U - 自流平浇注模具 - Google Patents

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蒋忠金
王应海
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NANJING DAQO TRANSFORMER SYSTEMS CO Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种自流平浇注模具,包括内模具,外模具,模具底盘,内、外模具间设置有定位法兰圈,内模具与外模具共用一条中心轴线,内模具和外模具两端形成上端面和下端面,其特征在于:定位法兰圈与内模具四点定位,与外模具全定位,外模具上设置有溢料孔,内模具和外模具间设置有观测排气口,内模具和外模具上设置有上压板,上端面靠树脂料自流平形成,表面光亮。本实用新型结构简单,操作方便,使模具装配方便,大大减少了制造过程中树脂的消耗量,有助于提高经济效益。

Description

自流平浇注模具
技术领域
本实用新型涉及一种模具,特别是一种环氧树脂浇注干式变压器线圈浇注模具。 
背景技术
传统的带填料环氧树脂浇注模具大致有三种结构:一种为内外模均为厚钢板(钢板厚度≥6mm)的硬模结构;一种为内外模均为薄钢板(钢板厚度≤2.5mm)的软模结构;另一种就是现在最为常用的是内模为硬软,外模为软模的复合结构,而所有这些结构模具控制线圈高度的方法有两种:一种是带上限位定位法兰圈;一种为无限位法兰而是通过机械切割切去线圈高出部分。第一 种带限位定位法兰圈的优点是线圈高度便于控制,缺点是浇注度必须超出限位定位法兰圈 一定高度,一般需大于15mm,浪费浇注料,并且因上端盖的存在而阻碍了线圈上部排气通道,易造成线圈上端面浇注缺陷(气泡的形成);第二种结构的优点便于排气,上端面一般无缺陷,缺点是外模装模困难易造成线圈辐向尺寸不一致,另外就是浇注料浪费更为严重,一般浇注料需高出线圈25mm以上。 
实用新型内容
本实用新型的目的为克服现有技术的不足,提供一种能有效控制浇注线圈高度且模具装配方便的环氧树脂浇注干式变压器线圈浇注模具。 
本实用新型给出的技术方案是:一种自流平浇注模具,包括内模具,外模具,模具底盘,内、外模具间设置有定位法兰圈,内模具与外模具共用一条中心轴线,内模具和外模具两端形成上端面和下端面,其特征在于:所述的定位法兰圈与内模具四点定位,与外模具全定位,外模具上设置有溢料孔,内模具和外模具间设置有观测排气口,内模具和外模具上设置有上压板。 
前述的自流平浇注模具,其特征在于:所述的模具底盘与工作面平行度小于3/1000,所述的中心轴线与模具底盘的不垂直度小于3/1000。 
前述的自流平浇注模具,其特征在于:所述的上端面靠树脂料自流平形成,表面光亮。 
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:1.能有效控制环氧树脂浇注线圈的高度;2.结构简单,操作方便,使模具装配方便,能够解决带限位法兰排气难易形成气孔的浇注问题以及不带限位法兰易造成线圈辐向不均匀的问题;3.使线圈上端面保持光亮;4.大大减少了制造过程中树脂的消耗量,保守计算每只线圈可以少消耗1公斤树脂,有助于提高经济效益。 
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。 
1. 外模具         2. 定位法兰圈         3. 内模具 
4. 上压板         5. 溢料孔             6. 模具底盘
7. 观测排气口。
具体实施方式
 下面将结合附图对本实用新型进行详细的说明。 
参照图1,一种自流平浇注模具,包括内模具3,外模具1,模具底盘6,内、外模具间设置有定位法兰圈2,内模具与外模具共用一条中心轴线,内模具3和外模具1两端形成上端面和下端面,定位法兰圈2与内模具3四点定位,与外模具1全定位,外模具1上设置有溢料孔5用作排料,内模具3和外模具1间设置有观测排气口7,内模具3和外模具1上设置有上压板4进行固定,模具底盘6与工作面平行度小于3/1000,中心轴线与模具底盘6的不垂直度小于3/1000,上端面靠树脂料自流平形成,表面光亮。 
本实用新型结构简单,操作方便,使模具装配方便,大大减少了制造过程中树脂的消耗量,有助于提高经济效益。 
本实用新型按照实施例进行了说明,应当理解,上述实施例不以任何形式限定本实用新型,凡采用等同替换或等效变换方式所获得的技术方案,均落在本实用新型的保护范围之内。 

Claims (3)

1.一种自流平浇注模具,包括内模具,外模具,模具底盘,内、外模具间设置有定位法兰圈,内模具与外模具共用一条中心轴线,内模具和外模具两端形成上端面和下端面,其特征在于:所述的定位法兰圈与内模具四点定位,与外模具全定位,外模具上设置有溢料孔,内模具和外模具间设置有观测排气口,内模具和外模具上设置有上压板。
2.根据权利要求1所述的自流平浇注模具,其特征在于:所述的模具底盘与工作面平行度小于3/1000,所述的中心轴线与模具底盘的不垂直度小于3/1000。
3.根据权利要求1所述的自流平浇注模具,其特征在于:所述的上端面靠树脂料自流平形成,表面光亮。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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