CN202266589U - 一种真空预载气浮垫 - Google Patents

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张瑞杰
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TIANJIN ZHONGJING MICRO INSTRUMENT AND EQUIPMENT CO., LTD.
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张瑞杰
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Abstract

本实用新型公开了一种真空预载气浮垫，包括底座及承座于底座的滑台，所述滑台位于底座一侧开设凹槽，在该滑台的凹槽周边的底面与底座顶面之间形成有支撑气膜，所述凹槽内形成有负压区。本实用新型所述的真空预载气浮垫中，滑台的凹槽周边的底面与底座顶面之间形成的支撑气膜可确保滑台于底座上无摩擦滑动，所述凹槽内形成的负压区又能确保滑台牢固的附着于底座上，既保证了滑动效果，又提高了安全性。

Description

一种真空预载气浮垫
技术领域
本实用新型涉及一种气浮垫，尤其涉及一种真空预载气浮垫。
背景技术
科学实验及仪器检测过程中，经常需要将仪表等设置于可水平移动的滑台面上，这样，即能保证检测的基准，又能提高检测的灵活性。
但是，上述可水平移动的滑台仅仅实现了水平移动的功能，当其遇到意外作用力时，因其与支撑其的底面之间无其他束缚，常常会发生倾倒而损坏。
实用新型内容
本实用新型针对现有技术的弊端，提供一种真空预载气浮垫。
本实用新型所述的真空预载气浮垫，包括底座及承座于底座的滑台，所述滑台位于底座一侧开设凹槽，在该滑台的凹槽周边的底面与底座顶面之间形成有支撑气膜，所述凹槽内形成有负压区。
本实用新型所述的真空预载气浮垫中，所述凹槽为矩形，且分布于滑台中部。
本实用新型所述的真空预载气浮垫中，所述滑台开设有进气孔和出气孔，所述进气孔分布于滑台侧壁，所述出气孔分布于滑台的凹槽周边的底面。
本实用新型所述的真空预载气浮垫中，所述凹槽开设用于连接外部抽真空设备的负压孔。
本实用新型所述的真空预载气浮垫中，滑台的凹槽周边的底面与底座顶面之间形成的支撑气膜可确保滑台于底座上无摩擦滑动，所述凹槽内形成的负压区又能确保滑台牢固的附着于底座上，既保证了滑动效果，又提高了安全性。
附图说明
图1为本实用新型所述真空预载气浮垫的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
如图1所示，本实用新型所述的真空预载气浮垫，包括底座2及承座于底座2的滑台1，所述滑台1位于底座2一侧开设凹槽6，在该滑台1的凹槽6周边的底面与底座2顶面之间形成有支撑气膜3，所述凹槽6内形成有负压区。本实用新型所述的真空预载气浮垫中，滑台的凹槽周边的底面与底座顶面之间形成的支撑气膜可确保滑台于底座上无摩擦滑动，所述凹槽内形成的负压区又能确保滑台牢固的附着于底座上，既保证了滑动效果，又提高了安全性。
本实用新型中，所述凹槽6被设置为矩形，为保证滑台1的受力均衡，通常将凹槽6设置于滑台1的中部。
在所述滑台1上开设有进气孔4和出气孔5，所述进气孔4分布于滑台1侧壁，所述出气孔5分布于滑台1的凹槽6周边的底面上。该进气孔4可外接供气设备，所述供气设备输入的气体自进气孔4引入，并自出气孔5流出，从而于凹槽6周边的底面与底座2顶面之间形成支撑气膜3。
本实用新型中，还在所述凹槽6设置了用于连接外部抽真空设备的负压孔7，该外接的抽真空设备可确保凹槽6内持续形成负压区域。
尽管本实用新型的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本实用新型的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本实用新型并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。

Claims (4)

1.一种真空预载气浮垫，包括底座及承座于底座的滑台，其特征在于，所述滑台位于底座一侧开设凹槽，在该滑台的凹槽周边的底面与底座顶面之间形成有支撑气膜，所述凹槽内形成有负压区。
2.如权利要求1所述的气浮垫，其特征在于，所述凹槽为矩形，且分布于滑台中部。
3.如权利要求1所述的气浮垫，其特征在于，所述滑台开设有进气孔和出气孔，所述进气孔分布于滑台侧壁，所述出气孔分布于滑台的凹槽周边的底面。
4.如权利要求1所述的气浮垫，其特征在于，所述凹槽开设用于连接外部抽真空设备的负压孔。
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Patentee before: Zhang Ruijie

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TR01 Transfer of patent right

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Address after: 301800 Baodi Tianjin energy saving and Environmental Protection Industrial Zone Administrative Committee Office Building (203)

Patentee after: TIANJIN ZHONGJING MICRO INSTRUMENT AND EQUIPMENT CO., LTD.

Address before: 2 01-04 room, No. 14, Yongan Road, Shilong Economic Development Zone, Mentougou District, Beijing, Beijing 102308, China

Patentee before: Beijing Sailstar Joint Technology Co. Ltd.

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