CN202224377U - 喷淋头清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型实施例提供一种喷淋头清洗装置，用于对喷淋头的表面进行清洗，包括：清洗刷，具有刷毛；清洗刷机械手，用于夹持和移动清洗刷，使得所述清洗刷和/或刷毛能够与喷淋头的表面进行相对运动，利用该相对运动清洗喷淋头的表面；吸附装置，用于吸附清洗过程中的污染物。本实用新型实施例解决了喷淋头的表面无法清洗的问题，避免喷淋头表面的污染物对下一次沉积工艺的影响。

Description

喷淋头清洗装置

技术领域

本实用新型涉及化学气相沉积(CVD)技术领域，特别涉及喷淋头的清洗装置。

背景技术

MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)是在气相外延生长(VPE)的基础上发展起来的一种新型气相外延沉积工艺。它以III族、II族元素的有机化合物和V、VI族元素的氢化物等作为晶体生长的源材料，以热分解反应方式在基座上进行沉积工艺，生长各种III-V族、II-VI族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。

下面对现有的沉积工艺的原理进行说明。具体地，以MOCVD为例，请参考图1所示的现有的沉积装置的结构示意图。

手套箱10内形成有相对设置的喷淋头11和基座12。所述喷淋头11内可以设置多个小孔，所述喷淋头11用于提供源气体。所述基座12上通常放置多片基片121，所述基片121的材质通常为价格昂贵的蓝宝石。所述基座12的下方还形成有加热单元13，所述加热单元13对所述基片121进行加热，使得所述基片121表面的温度达到外延工艺需要的温度。

在进行MOCVD工艺时，源气体自喷淋头11的小孔进入基座12上方的反应区域(靠近基片121的表面的位置)，所述基片121由于加热单元13的热辐射作用而具有一定的温度，从而该温度使得源气体之间进行化学反应，从而在基片121表面沉积外延材料层。

由于喷淋头11与基座121之间的具有一定的距离，部分源气体之间会在没有到达基片121之前就发生预反应，预反应的部分产物会导致喷淋头11的表面沾污，并且基座12或基片121上的污染物在加热过程中挥发，也可能导致喷淋头11的表面沾污，从而一批基片121的沉积工艺完成后，需要对喷淋头11的表面进行清洗，以保证喷淋头11的表面的污染物不会对下一次沉积工艺产生影响。

现有技术通常利用相关技术人员采用手动方式清洁喷淋头，由于缺少有效的喷淋头的清洗装置，使得喷淋头表面的清洗效果不好。

实用新型内容

本实用新型实施例解决的问题是提供了一种喷淋头清洗装置，解决了喷淋头的表面无法清洗的问题，避免喷淋头表面的污染物对下一次沉积工艺的影响。

为解决上述问题，本实用新型实施例提供一种喷淋头清洗装置，用于对喷淋头的表面进行清洗，包括：

清洗刷，具有刷毛；

清洗刷机械手，用于夹持和移动清洗刷，使得所述清洗刷和/或刷毛能够与喷淋头的表面进行相对运动，利用该相对运动清洗喷淋头的表面；

吸附装置，用于吸附清洗过程中的污染物。

可选地，所述喷淋头清洗装置的工作方式为全自动控制方式，还包括：

机械手控制单元，用于控制所述清洗刷机械手，调整所述清洗刷机械手与所述喷淋头的表面的相对运动的轨迹和速度。

可选地，所述机械手控制单元包括：

动力单元，用于提供动力，该动力使得所述清洗刷机械手和/或清洗刷能够与所述喷淋头的表面进行相对运动；

传动单元，一段与所述动力单元相连接，用于接收来自动力单元的动力，另一端与所述清洗刷机械手相连接，将动力传动至所述清洗刷机械手和/或清洗刷；

子控制单元，用于控制所述动力单元、传动单元，通过所述动力单元、传动单元控制所述清洗刷机械手和/或清洗刷的运动；

所述喷淋头清洗装置用于沉积设备，所述沉积设备包括：手套箱、传输腔室和装载卸载腔室，所述喷淋头位于所述手套箱内，所述手套箱与所述传输腔室和/或装载卸载腔室相连通；所述清洗刷和清洗刷机械手位于所述手套箱内、传输腔室内、装载卸载腔室内或手套箱外；

在沉积工艺完成后，所述子控制单元控制所述传动单元和动力单元将所述清洗刷和清洗刷机械手移动至与所述喷淋头的表面相对的位置，或所述子控制单元控制所述喷淋头移动至喷淋头的表面与所述清洗刷相对的位置，利用所述清洗刷对所述喷淋头的表面进行清洗；在喷淋头的清洗完成后，所述子控制单元还可用于控制所述喷淋头的表面与所述清洗刷分离，将所述清洗刷和清洗刷机械手放置于手套箱内、手套箱外、装载卸载腔室或传输腔室中。

可选地，还包括：

图像采集单元，用于采集喷淋头的表面的图像；

图像分析单元，用于对所述图像采集单元采集到的图像进行分析，判断喷淋头表面的洁净度的情况；

反馈单元，用于根据图像分析单元的分析结果，获得控制信号，所述控制信号作为所述子控制单元的调整所述清洗刷机械手和清洗刷的相对运动的依据。

可选地，所述喷淋头清洗装置的工作方式为半自动控制方式，还包括：动力单元、传动单元；

所述动力单元用于提供动力，该动力使得所述清洗刷和/或刷毛能够进行转动；

所述传动单元的一端与所述动力单元相连接，用于接收来自动力单元的动力，另一端与所述清洗刷机械手相连接，将该动力传动至所述清洗刷机械手和/或清洗刷；

所述沉积设备包括：手套箱、传输腔室和装载卸载腔室，所述喷淋头位于所述手套箱内，所述手套箱与所述传输腔室和/或装载卸载腔室相连通；所述清洗刷清洗装置位于所述手套箱内、传输腔室内、装载卸载腔室内或手套箱外；

在沉积工艺完成后，操作人员控制所述传动单元和动力单元将所述清洗刷和清洗刷机械手移动至与所述喷淋头的表面相对的位置，或操作人员控制所述喷淋头移动至喷淋头的表面与所述清洗刷相对的位置，利用所述清洗刷对所述喷淋头的表面进行清洗；在清洗完成后操作人员控制所述喷淋头的表面与所述清洗刷分离，将所述清洗刷和清洗刷机械手放置于手套箱内、手套箱外、装载卸载腔室或传输腔室中。

可选地，所述传动单元与所述清洗刷机械手相连接的部分为刚性结构，所述刚性结构用于操作人员手持，所述传动单元的与所述动力单元相连接的部分为柔性结构，使得所述传动单元能够带动所述清洗刷与所述喷淋头的表面进行相对运动。

可选地，还包括：

图像采集单元，用于采集喷淋头的表面的图像；

显示单元，用于将图像采集单元采集的图像显示，操作人员根据显示单元的图像，调整所述清洗刷机械手和清洗刷的相对运动。

可选地，所述喷淋头清洗装置位于所述沉积设备的手套箱内，所述清洗刷机械手包括：

导轨支撑部件，位于所述喷淋头外部；

可动导轨，一端与所述导轨支撑部件通过固定件相连接，所述可动导轨能够相对所述导轨支撑部件进行圆周运动，该可动导轨的圆周运动的轨迹至少覆盖所述喷淋头的表面；

滑块，设置于所述可动导轨上，所述滑块用于活动连接所述可动导轨和清洗刷，使得所述清洗刷能够随着所述滑块与所述可动导轨进行径向运动，所述径向运动的方向为沿所述圆周运动的半径方向，所述径向运动与所述圆周运动配合，使得所述清洗刷的运动轨迹覆盖整个喷淋头的表面。

可选地，所述导轨支撑部件与动力单元相连接，所述导轨支撑部件将动力传输给所述可动导轨，控制所述可动导轨圆周运动的速度、方向、轨迹。

可选地，还包括：

图像采集单元，用于采集喷淋头的表面的图像；

图像分析单元，用于对所述图像采集单元采集到的图像进行分析，判断喷淋头表面的洁净度的情况；

反馈单元，用于根据图像分析单元的分析结果，获得控制信号，所述控制信号作为所述动力源的输入信号。

可选地，所述清洗刷和刷毛的材质相同或不同。

可选地，所述清洗刷包括第一清洗刷和第二清洗刷，所述第一清洗刷的刷毛比第二清洗刷的刷毛粗，所述第一清洗刷用于进行喷淋头的粗清洗，所述第二清洗刷用于喷淋头的精清洗。

可选地，还包括：弹性密封圈，环绕所述清洗刷靠近所述喷淋头的待清洗表面一侧，所述弹性密封圈用于清洗时，在所述清洗刷与所述喷淋头的待清洗的表面形成相对封闭的环境，

所述吸附装置包括：吸附管道和真空泵，所述吸附管道的一端与所述清洗刷的与所述喷淋头待清洗表面相对一侧的表面相连接，另一端与所述真空泵相连接，所述真空泵用于使得所述吸附管道的一端压力小于另一端的压力，在清洗过程中的污染物由于吸附管道两端的压力差随着所述吸附管道被抽离所述清洗刷与喷淋头之间。

可选地，所述弹性密封圈的材质为橡胶、金属、陶瓷、塑料中的一种或其中的组合。

与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：

本实用新型实施例提供的喷淋头清洗装置利用清洗刷机械手夹持和移动清洗刷，利用清洗刷和/或刷毛能够与喷淋头的表面进行的相对运动，清洗喷淋头的表面，从而实现喷淋头表面的清洗，由于本实用新型实施例利用清洗刷机械手夹持清洗刷，操作人员无需用手夹持喷淋头，无需等待喷淋头表面的温度降低为安全温度(即操作人员手不会被烫伤的温度)，从而减少了清洗的时间，提供了喷淋头用于沉积工艺的时间和沉积设备的利用率；并且由于本实用新型利用刷毛与喷淋头的表面的相对运动清洗喷淋头的表面，从而与采用等离子体等化学方式对喷淋头表面进行清洗会造成喷淋头的损伤相比，本实用新型实施例不会损伤喷淋头，从而可以提高喷淋头的使用寿命；

进一步优化地，所述喷淋头清洗装置的工作方式为全自动控制方式，无需操作人员对喷淋头进行操作，可以利用机械手控制单元控制清洗刷机械手与所述喷淋头的表面的相对运动的轨迹和速度，可以在节约人力的同时达到更好的清洗效果清洗；

进一步优化地，所述喷淋头清洗装置还包括：图像采集单元、图像分析单元和反馈单元，从而可以监控喷淋头的表面的图像，从而根据所述图像判断喷淋头表面的洁净度的情况，自动地控制清洗刷机械手和清洗刷的运动，获得更好的清洗效果；

进一步优化地，所述喷淋头清洗装置可以包括第一清洗刷和第二清洗刷，从而可以对喷淋头进行粗清洗和精清洗，粗清洗可以较快地将喷淋头表面的大部分污染物去除，缩短喷淋头清洗的时间，而精清洗则可以将喷淋头表面残留的难以去除的污染物去除，保证喷淋头清洗的洁净度；

进一步优化地，所述喷淋头清洗装置还包括环绕所述清洗刷靠近所述喷淋头的待清洗表面一侧的弹性密封圈，在清洗时，所述弹性密封圈在所述清洗刷与所述喷淋头的待清洗的表面形成相对封闭的环境，从而防止清洗过程中的颗粒沾污手套箱的其他部件；

进一步优化地，所述喷淋头清洗装置位于所述手套箱内，所述清洗刷机械手包括：导轨支撑部件、可动导轨和滑块，利用滑块和可动导轨的运动，使得清洗刷与喷淋头表面进行清洗，所述导轨支撑部件、可动导轨和滑块的体积小，从而使得整个喷淋头清洗装置结构简单、紧凑，也降低了喷淋头清洗装置的成本。

附图说明

图1是现有技术的MOCVD装置的结构示意图；

图2是本实用新型第一实施例的MOCVD设备的结构示意图；

图3是本实用新型第一实施例的喷淋头清洗装置的内部结构示意图；

图4是图3所示的喷淋头清洗装置的在清洗时的原理示意图；

图5是本实用新型第二实施例的喷淋头清洗装置的内部结构示意图；

图6是本实用新型第三实施例的喷淋头清洗装置的内部结构示意图；

图7是本实用新型第二实施例的MOCVD设备的结构示意图；

图8是本实用新型第四实施例的喷淋头清洗装置的内部结构示意图。

具体实施方式

现有技术由于缺少有效的喷淋头的清洗装置，使得喷淋头表面的清洗效果不好。发明人考虑采用等离子体等化学清洗的方式对喷淋头的表面进行清洗。但是等离子体去除喷淋头表面的污染物的同时，会损伤喷淋头的表面以及喷淋头中的孔，造成孔内径的粗糙，并且，所述等离子体等化学清洗的方式还会损伤薄膜沉积腔室的侧壁。如何在清洗喷淋头的表面的同时不损伤喷淋头以及沉积腔室，是本领域技术人员需要解决的问题。

为了解决上述问题，本实用新型提出一种喷淋头的表面清洗的装置，包括：

清洗刷，具有刷毛；

清洗刷机械手，用于夹持和移动清洗刷，使得所述清洗刷和/或刷毛能够与喷淋头的表面进行相对运动，利用该相对运动清洗喷淋头的表面；

吸附装置，用于吸附清洗过程中的污染物。

下面结合实施例对本实用新型的技术方案进行详细的说明。本实用新型实施例所述的喷淋头清洗装置用于沉积设备，所述沉积设备可以为MOCVD设备，也可以为CVD、PVD等其他任何具有喷淋头的设备。作为一个实施例，所述喷淋头清洗装置用于MOCVD设备。所述喷淋头清洗装置可以用于MOCVD设备的手套箱的内部清洗，也可以用于手套箱内的喷淋头的表面的清洗。

为了更好地说明本实用新型的技术方案，请参考图2所示，为本实用新型一个实施例的MOCVD设备的结构示意图。所述MOCVD设备的布局为多边形布局，包括：装载卸载腔室24、真空传输腔室21、多个手套箱和缓冲台23。本实施例中，所述真空传输腔室21的形状为多边形，在其他的实施例中，所述真空传输腔室的形状也可以为线性。所述手套箱的数目为多个，分别是：第一手套箱221、第二手套箱222、第三手套箱223和第四手套箱224，每一个手套箱内均具有一个喷淋头。在其他的实施例中，手套箱的数目可以为更多或更少，本领域技术人员可以根据需要进行具体的设置。来自外部洁净室的基片放置于所述装载卸载腔室24，并经过真空传输腔室21传输至相应的手套箱内，在沉积工艺完成后，基片通过所述真空传输腔室21到达装载卸载腔室21。当然，基片在真空传输腔室21进入沉积腔室之前，可以在缓冲台23中进行相应的预处理(比如清洗处理以去除基片表面的污染物，或预热处理以使得基片的温度与将要进行的沉积腔室的温度一致)，也可以在沉积工艺完成后，在缓冲台23中进行后续处理(比如降温处理)，在此不做详细的说明。

请结合图3所示的本实用新型一个实施例的喷淋头清洗装置的内部结构示意图。为了更好地说明喷淋头清洗装置，图3中还示意性的示出了MOCVD设备的部分结构，与图2中相同的结构在图3中采用相同的标号，特此说明。

所述喷淋头清洗装置30位于MOCVD设备的传输腔室21内，所述传输腔室21的一侧与手套箱222相邻，所述手套箱222内形成有加热单元2223、石墨基座2222和喷淋头2221，其中所述石墨基座2222用于放置基片，所述加热单元2223用于对所述石墨基座2222进行加热，所述喷淋头2221位于所述石墨基座2222放置有基片的一侧的上方，所述喷淋头2221的朝向所述基片和石墨基座2222一侧的表面为待清洗的表面。作为一个实施例，所述手套箱222具有门2224。在进行沉积工艺时，门2224关闭，使得手套箱222形成相对密封的环境，以所述喷淋头2221向所述石墨基座2222移动，以便于在石墨基座2222和喷淋头2221之间形成一定的空间，该空间内用于进行沉积工艺(比如MOCVD工艺)。在沉积工艺完成后，门2224打开，手套箱222可以与装载卸载腔室(图中未示出)或传输腔室21交换基片，在沉积工艺完成后交换基片之前或交换基片的同时，喷淋头清洗装置30工作，对喷淋头2221的待清洗的表面或手套箱222的待清洗的表面进行清洗。

下面对喷淋头清洗装置30的结构进行详细的说明。具体地，请继续参考图3，喷淋头清洗装置30包括：

清洗刷31，具有刷毛面311，该刷毛面311在清洗时与喷淋头2221的待清洗的表面或者手套箱222的待清洗的表面相对，该刷毛面311上具有刷毛(图中未示出)；

清洗刷机械手33，与所述喷淋头31的刷毛面311相对一侧表面相连接，所述清洗刷机械手33用于夹持和移动清洗刷31，使得所述清洗刷31和/或刷毛能够与喷淋头2221的待清洗的表面或手套箱222的待清洗的表面进行相对运动，利用该相对运动清洗喷淋头2221或手套箱222的表面；

吸附装置，用于吸附清洗过程中的污染物。

具体地，作为一个实施例，所述清洗刷31的形状为圆柱体。在其他的实施例中，所述清洗刷31的形状还可以为长方体、阶梯状等规则形状或其他不规则形状。

本实施例中，所述清洗刷31的刷毛面331为圆柱体的底面。在其他的实施例中，所述清洗刷31的刷毛面331还可以为圆柱体的侧面。作为一个实施例，所述清洗刷31的刷毛面331的面积与喷淋头2221的待清洗的表面接近，比如所述清洗刷31的刷毛面331的面积可以等于喷淋头2221的待清洗的表面的面积，也可以略大于或略小于所述喷淋头2221的待清洗的表面的面积。当然，所述清洗刷31的刷毛面331的面积也可以为所述喷淋头2221的待清洗的表面的面积的1/3、1/5、1/2或2/3等。当然，为了加快清洗喷淋头的速度，所述清洗刷31的刷毛面331的面积可以与喷淋头2221的待清洗的表面的面积大小接近，比如清洗刷31的刷毛面331的面积为喷淋头2221的待清洗表面的0.95倍、1倍、1.05倍等。

清洗作为本实用新型一个实施例，所述清洗刷31垂直于刷毛面311的方向环绕了弹性密封圈312，所述弹性密封圈312在垂直于刷毛面311方向上具有一定弹性，在清洗时，所述刷毛面311与喷淋头2221的待清洗的表面或手套箱222内的其他的待清洗表面接触时，所述弹性密封圈312能够使得所述刷毛面311与所述喷淋头2221的待清洗表面或手套箱2221内的其他待清洗表面之间形成相对封闭的环境，避免清洗过程中的污染物对手套箱222内的其他部件(比如加热单元2223和石墨基座2222)造成污染。所述弹性密封圈312的厚度可以略大于所述喷淋头31的厚度(本实用新型实施例所述的厚度是指喷淋头31的沿着垂直于喷淋头31的刷毛面311的方向的尺寸)。所述弹性密封圈312的材质为橡胶、金属、陶瓷、塑料。在实用新型的一个实施例中，所述弹性密封圈312的材质为硅胶；在本实用新型的又一实施例中，所述弹性密封圈312的材质为特氟龙；当然，所述弹性密封圈312的材质还可以为不锈钢。

图中所示的清洗刷31的数目为1个。在其他的实施例中，所述清洗刷31的数目也可以为两个甚至多个。两个或多个清洗刷31可以同时对喷淋头2221的表面进行清洗(此时清洗刷31的刷毛面的面积小于喷淋头2221的待清洗的表面)，也可以单独清洗。作为一个可选的实施例，所述清洗刷31的数目为两个，分别是第一清洗刷和第二清洗刷，所述第一清洗刷的刷毛比第二清洗刷的刷毛粗，所述第一清洗刷进行喷淋头的粗清洗，该第一清洗刷能够进行快速的运动，将喷淋头的待清洗表面的大部分污染物去除，加快清洗的速度，在粗清洗之后，所述第二清洗刷进行喷淋头的精清洗，所述第二清洗刷的刷毛细，其转速快，能够将粗清洗后残留于喷淋头的待清洗表面的污染物去除。

所述清洗刷31的材质可以选择能够承受高温的材质，这样在沉积工艺完成后，无需等待喷淋头的温度降低，该清洗刷可以直接对喷淋头的待清洗的表面进行清洗。在本实用新型的一个实施例中，所述清洗刷31的材质为金属材质，例如普通不锈钢、添加了稀土元素的不锈钢(以改善清洗刷31的使用寿命、硬度等性能)、石墨、特氟龙、金属或合金等。

所述刷毛的材质可以与清洗刷31的材质相同，也可以不同。本实施例中，所述刷毛的材质与所述清洗刷31的材质相同。所述刷毛的形状、尺寸、排布可以根据需要进行设置。当清洗刷31的数目为两个或多个时，每个清洗刷的刷毛的材质、尺寸、形状和排布可以相同，也可以不同。

作为一个实施例，所述清洗刷31上形成有贯穿所述清洗刷31的两个相对的表面的孔，该孔用于与吸附装置相连接，在清洗时所述喷淋头2221或手套箱222的表面去除的颗粒通过所述孔到达所述吸附装置。如图3所示，所述吸附装置进一步包括：第一管道32，一端与清洗刷31上的孔相连接，另一端与第二管道37的一端相连接，所述第二管道37的另一端与真空泵34相连接；所述第一管道32与第二管道37相连接的部分形成有过滤片331，该过滤片331用于过滤清洗过程中的被清洗刷31刷下的颗粒。所述真空泵34用于进行抽真空，使得所述第一管道32、第二管道37的压力小于清洗时沉积腔室2221的压力，从而保证清洗过程中的颗粒能够通过清洗刷31上的孔进入第一管道32，并且被第一管道32和第二管道37之间的过滤片331过滤。本实用新型所述的真空泵34可以为独立的真空泵，也可以与MOCVD设备内的其他部件(例如手套箱222内的真空泵或装载卸载腔室或传输腔室21内的其他部件)共用一个真空泵。作为本实用新型的一个实施例，所述第一管道32集成于所述清洗刷机械手33的内部，此时，所述清洗刷机械手33的形状和尺寸应进行设计，一方面，使得所述清洗刷机械手33能够满足夹持清洗刷31，另一方面，所述清洗刷机械手33应为中空的管状，其内部能够容纳所述第一管道32，从而可以节约喷淋头清洗装置占用的空间。当然，在其他的实施例中，所述第一管道32和清洗刷机械手33也可以分别独立设置，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择和设置。所述清洗刷机械手33的材质硬选择具有一定强度和硬度的材质，以满足其使用寿命的要求，所述清洗刷机械手33可以采用焊接、铆接等任何可能的机械加工方法与清洗刷31的背面相连接。

需要说明的是，本实用新型实施例的吸附装置采用了第一管道32和第二管道37，这样方便拆卸所述吸附装置，并且方便对第一管道32和第二管道37进行清洗以及对过滤片331进行及时更换。在其他的实施例中，也可以直接采用一个管道，该管道的一端与清洗刷中的孔相连接，另一端与真空泵34相连接。

作为本实用新型的一个实施例，所述喷淋头清洗装置的工作方式为全自动控制方式，所述喷淋头清洗装置还包括：

机械手控制单元，用于控制所述清洗刷机械手33，调整所述清洗刷机械手33和清洗刷31，调整所述喷清洗刷31与所述喷淋头222的待清洗表面的相对运动的轨迹和速度，从而可以获得更好的清洗效果。

在本实用新型的一个实施例中，所述机械手控制单元包括：

动力单元36，用于提供动力，使得所述清洗刷机械手33和/或清洗刷31能够与所述喷淋头2221的表面进行相对运动，所述动力单元36可以为电机等；

传动单元35，用于将动力单元35的动力传送至所述清洗刷机械手33和清洗刷31；

子控制单元(图中未示出)，用于控制所述动力单元36、传动单元35，通过所述动力单元36、传动单元35控制所述清洗刷机械手33和喷淋头31的相对运动，控制所述清洗刷机械手33和喷淋头31的相对位置关系。

作为一个实施例，所述传动单元35为管状结构，其材质应选择具有一定柔性的材质，这样所述传动单元35能够将来自动力单元35的动力传输至动力单元35，并且所述传动单元35的长度应能支持清洗刷31和清洗刷机械手33。作为可选的实施例，部分第一管道32和第二管道37这只在所述传动单元35的内部，这样可以节约喷淋头清洗装置占用的空间，当然，所述第一管道32和第二管道37也可以独立与所述传动单元35设置。

作为本实用新型的又一实施例，所述喷淋头清洗装置30还包括：

图像采集单元(未图示)，用于采集喷淋头2221的表面的图像，所述图像采集单元可以为摄像头，其可以固定安装于手套箱2221内的能够监控喷淋头2221表面的任何位置，也可以安装于清洗刷31待清洗的表面的任何位置，例如所述图像采集单元可以安装于清洗刷31的刷毛面311上(图像采集单元的位置设置在刷毛面311上的孔的附近，其表面可以设置保护装置，避免表面由于清洗过程中的颗粒损伤或沾污而无法采集喷淋头表面的图像)；

图像分析单元，用于对所述图像采集单元采集到的图像进行分析，判断喷淋头表面的洁净度的情况，所述图像分析单元基于标准图像(即喷淋头2221的表面的洁净度符合要求的图像)与图像采集单元采集的图像进行对比，基于计算机判断和识别，能够获得喷淋头表面的洁净度的情况；

反馈单元，用于根据图像分析单元的分析结果，获得控制信号，所述控制信号作为所述子控制单元的调整所述清洗刷机械手33和清洗刷31的运动的依据。

当然，作为本实用新型再一实施例，也可以仅在喷淋头清洗装置30中设置图像采集单元和显示单元，该图像采集单元用于采集喷淋头2221的表面的图像，该显示单元位于MOCVD设备的外部，其将图像采集单元获得的图像进行显示，以供相关操作人员进行判断，对喷淋头清洗装置30的工作进行调整，判断是否继续进行清洗或调整清洗刷31与喷淋头2221的表面的相对运动和相对位置关系。

作为一个实施例，在进行沉积工艺时，所述喷淋头清洗装置30的清洗刷31和清洗刷机械手33位于传输腔室21内，在沉积工艺完成后，所述清洗刷31和清洗刷机械手33在子控制单元的驱动下运动至手套箱222内的与喷淋头2221的待清洗表面相对的位置；在其他的实施例中，在进行沉积工艺时，所述喷淋头清洗装置30的清洗刷和清洗刷机械手33还可以位于装载卸载腔室中手套箱中，甚至所述喷淋头清洗装置还可以位于手套箱外。本实用新型实施例所述的喷淋头清洗装置位于手套箱外，具体是指，所述喷淋头清洗装置的清洗刷和清洗刷机械手位于与手套箱相连接的单独的腔室中(目的是防止清洗刷和清洗刷机械手由于与外部洁净室接触而形成污染，该腔室具有腔室门，能够使得清洗刷和清洗刷机械手能够通过该腔室门进出所述手套箱。在其他的实施例中，所述喷淋头清洗装置也可以有更多的部分(甚至全部)位于手套箱内、传输腔室内、装载卸载装置内或手套箱外。在其他的实施例中，也可以保持清洗刷和清洗刷机手与手套箱222的相对位置不变，而移动喷淋头2221的位置，当然，此时需要对控制喷淋头2221的位置的机械单元和控制单元进行相应的调整和更新，以满足喷淋头2221能够运动至其表面与清洗刷的清洗面相对的位置。

本实用新型以清洗刷31对手套箱222内的喷淋头2221进行清洗为例(参考图3)进行说明，实际上，所述清洗刷31还可以清洗其他手套箱内的喷淋头；本实用新型以喷淋头清洗装置30应用于多边形布局的MOCVD设备(参见图2)为例进行说明，在实际中，所述喷淋头清洗装置30还可以应用于线性MOCVD设备中；本实用新型以喷淋头清洗装置30安装于传输腔室21内，在其他的实施例中，所述喷淋头清洗装置30还可以安装于装载卸载腔室24或各个手套箱内；在此不应限制本实用新型的保护范围。

下面请参考图4所示的图3中的喷淋头清洗装置的在清洗时的原理示意图。喷淋头2221的待清洗表面与清洗刷31的刷毛面31贴合，弹性密封圈312将喷淋头2221的待清洗表面和清洗刷31的刷毛面311密封(形成相对密封的环境以防止清洗过程中的颗粒污染手套箱内的其他部件)，清洗刷31在动力单元36、传动单元35、喷淋头机械手33的配合下进行转动，为了保证清洗的效果，还可以在清洗刷31和喷淋头2221之间施加一定的压力。在清洗过程中，还可以不断调整所述清洗刷31和喷淋头2221之间的转速、相对位置、压力等参数，以获得更好的清洗效果。

请参考图5所示的本实用新型第二实施例的喷淋头清洗装置的结构示意图。图中示出了MOCVD的部分结构。与第一实施例相同的结构采用相同的标号，特此说明。

第二手套箱222内具有加热单元2223、石墨基座2222和喷淋头2221，其中所述石墨基座2222用于放置基片，所述加热单元2223用于对所述石墨基座2222进行加热，所述喷淋头2221位于所述石墨基座2222放置有基片的一侧的上方，所述喷淋头2221的朝向所述基片和石墨基座2222一侧的表面为待清洗的表面。

本实施例与前一实施例的区别在于，所述喷淋头清洗装置30位于第二手套箱222内，需要对第二手套箱2222的尺寸进行优化设计，以容纳喷淋头清洗装置30。在清洗时，可以是所述喷淋头2221移动至该喷淋头2221的待清洗表面与清洗刷31的刷毛面311相对的位置，也可以是清洗刷31移动至其刷毛面与喷淋头2221的待清洗表面相对的位置。当然，所述喷淋头清洗装置30还可以分别安装于其他的各个手套箱内，或者所述喷淋头清洗装30也可以安装于其中的一个手套箱内，并且该喷淋头清洗装置30在各个手套箱之间移动，对各个手套箱内的喷淋头进行清洗。

下面请参考图6所示的本实用新型的第三实施例的喷淋头清洗装置的结构示意图。与第一实施例相同的结构采用相同的标号。所述喷淋头清洗装置包括：

清洗刷31，具有刷毛面311，该刷毛面311在清洗时与喷淋头2221的待清洗的表面或者第二手套箱222的待清洗的表面相对，该刷毛面311上具有有刷毛(图中未示出)；

清洗刷机械手33，与所述喷淋头31的刷毛面311相对一侧表面相连接，所述清洗刷机械手33用于夹持和移动清洗刷31，使得所述清洗刷31和/或刷毛能够与喷淋头的待清洗的表面或手套箱的待清洗的表面进行相对运动，利用该相对运动清洗喷淋头或手套箱的表面。

本实施例所述的喷淋头清洗装置30可以设置于手套箱内或手套箱外，当然也可以设置于传输腔室或装载卸载腔室内。本实施例所述的喷淋头清洗装置与前两个实施例的区别在于，所述喷淋头清洗装置的工作方式为半自动工作方式，即在清洗过程中，需要相关技术人员进行手动操作喷淋头清洗装置，手动操作的原理将在后续进行说明。

该喷淋头清洗装置还包括：

动力单元36、传动单元35；

所述动力单元36用于提供动力，该动力使得所述清洗刷31和/或刷毛能够进行转动；

所述传动单元35的一端与所述动力单元36相连接，用于接收来自动力单元36的动力，另一端与所述清洗刷机械手33相连接，将该动力传动至清洗刷机械手33。

作为可选的实施例，所述喷淋头清洗装置30还包括：驱动轴单元38，用于操作人员通过该驱动轴单元38调整清洗刷31的位置，这样可以避免清洗刷的分量过重不便于移动和改变其位置。。如图6所示，所述驱动轴单元38包括：第一驱动轴381，其一端与清洗刷机械手33相连接，所述连接可以为焊接或通过铆钉的铆接等，其另一端为自由端；第二驱动轴382，所述第二驱动轴382的中部与第一驱动轴381的中部相连接，所述连接为铆接，该第二驱动轴382和第一驱动轴382分别用于驱动所述清洗刷31运动。通过所述驱动轴单元38能够实现喷淋头清洗装置30的半自动化工作，即相关技术人员可以利用该驱动轴单元38手动来改变清洗刷31的位置。当然，操作人员也可以直接通过调整所述清洗刷机械手33来移动和改变清洗刷的位置。

本实施例所述的喷淋头清洗装置的半自动工作原理如下：在沉积工艺完成后，操作人员控制所述传动单元36和动力单元35将所述清洗刷31和清洗刷机械手33移动至与所述喷淋头31的表面相对的位置，或操作人员控制所述喷淋头移动至喷淋头的表面与所述清洗刷31相对的位置，利用所述清洗刷31对所述喷淋头的表面进行清洗；在清洗完成后操作人员控制所述喷淋头的表面与所述清洗刷31分离，将所述清洗刷31和清洗刷机械手33放置于手套箱内、手套箱外、装载卸载腔室或传输腔室中。

作为一个实施例，所述传动单元35与所述清洗刷机械手33相连接的部分为刚性结构(图中标示为351)，所述刚性结构用于操作人员手持，所述传动单元35的与所述动力单元36相连接的部分为柔性结构(图中标示为352)，使得所述传动单元35能够带动所述清洗刷31与所述喷淋头的表面进行相对运动。作为一个实施例，所述传动单元35内还设置第一管道32、第二管道37，所述第一管道32的一端与清洗刷31上的孔相连接，另一端与第二管道37的一端相连接，所述第二管道37的另一端与真空泵34相连接；所述第一管道32与第二管道37相连接的部分形成有过滤片331，该过滤片331用于过滤清洗过程中的被清洗刷31刷下的颗粒。所述真空泵34用于进行抽真空，使得所述第一管道32、第二管道37的压力小于清洗时沉积腔室2221的压力，从而保证清洗过程中的颗粒能够通过清洗刷31上的孔进入第一管道32，并且被第一管道32和第二管道37之间的过滤片331过滤。本实用新型所述的第一管道32、第二管道37、真空泵34和过滤片331的结构与第一实施例相同，请参考第一实施例，在此不做赘述。

与前两个实施例相同，本实施例所述的喷淋头清洗装置还可以包括图像采集单元和显示单元，所述图像采集单元和显示单元的作用和结构请参考前两个实施例，在此不做赘述。

请参考图7，为本实用新型第二实施例的MOCVD的结构示意图。所述MOCVD设备的布局为飞机状。与图2所示的第一实施例的MOCVD设备中相同的部件采用相同标号。具体地，所述MOCVD设备包括：装载卸载腔室24、第一传输腔室211、第二传输腔室212、多个手套箱和测试缓冲腔室25。本实施例中，所述第一传输腔室211和第二传输腔室212的形状为方形。作为一个实施例，所述第一传输腔室211的一个方向的两侧与第一手套箱2221和第二手套箱2222相连接；所述第一传输腔室211的另一个方向的一侧与装载卸载腔室24相连接，另一侧与所述测试缓冲腔室25的一个方向的一侧相连接；所述测试缓冲腔室25的一个方向的另一侧与第二传输腔室212的一个方向的一侧相连接；所述第二传输腔室212的另一个方向的两侧与第三传输腔室2223和第四传输腔室2224的相连接。来自外部洁净室的基片通过装载卸载腔室25进入MOCVD设备，然后通过所述第一传输腔室211和第二传输腔室212在所述装载卸载腔室24、各个手套箱和测试缓冲腔室25之间传输。所述测试缓冲腔室25至少可以设置原位测试模块和冷却模块，在各个手套箱中工艺完毕的基片可以在测试缓冲腔室25中进行冷却，并且对基片上的外延材料层的特性参数进行测试。

作为本实用新型的一个实施例，所述的喷淋头清洗装置安装于每个手套箱内。当然，所述喷淋头清洗装置也可以安装于所述装载卸载腔室24、第一传输腔室211、第二传输腔室212、测试缓冲腔室25中。

图7中所示的MOCVD设备具有4个手套箱、两个传输腔室、1原位测试腔室，在其他的实施例中，根据实际需要，可以对手套箱、传输腔室和原位测试腔室的数目进行优化设置。

请结合图8所示的本实用新型第四实施例的喷淋头清洗装置的内部结构示意图。所述喷淋头清洗装置包括：

清洗刷41，具有刷毛面(未示出)，该刷毛面在清洗时与喷淋头40的待清洗的表面或者手套箱(未示出)的待清洗的表面相对，该刷毛面上具有刷毛(未示出)；

清洗刷机械手，用于夹持和移动清洗刷41，使得所述清洗刷41和/或刷毛能够与喷淋头40的表面进行相对运动，利用该相对运动清洗喷淋头40的表面；

吸附装置(未示出)，用于吸附清洗过程中的污染物。

具体地，作为一个实施例，所述清洗刷41的刷毛面的面积小于所述喷淋头40的待清洗表面，当然，所述清洗刷41的刷毛面的面积也可以等于所述喷淋头40的待清洗表面。本实例中，所述清洗刷41的形状圆形，在其他的实施例中，所述清洗刷41的形状也可以为方形、三角形、菱形或其他规则或不规则图形。通常，清洗刷41的面积越大，清洗的速度越快，但是清洗需要的动力越大，喷淋头清洗装置的成本也越高，本领域技术人员可以根据需要进行选择。

作为一个实施例，所述清洗刷41的刷毛的材质可以为金属，所述清洗刷41的刷毛面外侧也可以设置弹性密封圈，并且所述喷淋头清洗装置中也可以设置图像采集单元、图像分析单元和反馈单元，具体请参考第一至第三实施例，在此不做赘述。

请继续参考图8，作为一个实施例，所述清洗刷机械手43包括：

导轨支撑部件44，位于所述喷淋头40的外部；

可动导轨43，一端与所述导轨支撑部件40通过固定件相连接，所述可动导轨43能够相对所述导轨支撑部件40进行圆周运动，该可动导轨43的圆周运动的轨迹至少覆盖所述喷淋头40的表面；

滑块42，设置于所述可动导轨43上，所述滑块42用于活动连接所述可动导轨43和清洗刷41，使得所述清洗刷41能够随着所述滑块42与所述可动导轨43进行径向运动，所述径向运动的方向为沿所述圆周运动的半径方向，所述径向运动与所述圆周运动配合，使得所述清洗刷41的运动轨迹覆盖整个喷淋头41的表面。

作为一个实施例，所述导轨支撑部件44可以与动力单元相连接，所述导轨支撑部件44将动力传输给所述可动导轨43，控制所述可动导轨43圆周运动的速度、方向、轨迹。

所述滑块42的径向运动可以通过软轴、皮带轮等多种方式实现。作为一个实施例，所述滑块42的运动通过软轴实现，该软轴的一端与滑块42相连接，另一端与动力单元相连接，通过软轴，动力单元能够控制所述滑块42的运动的速度，通过控制所述滑块的速度，可以控制清洗刷的速度。作为本实用新型的又一实施例，还可以在所述导轨支撑部件44内安装皮带轮，利用皮带轮的转动所述滑块42沿着所述可动导轨43进行运动。

所述可动导轨43的长度应至少大于所述喷淋头41的待清洗的表面的直径。

下面结合图8对所述喷淋头清洗装置的工作原理进行说明。

在进行外延沉积工艺时，所述可动导轨43移动至图中A位置或C位置，所述可动导轨43的移动可以在动力源的驱动下进行；图中A位置或C位置与喷淋头40的待清洗的表面具有一定的角度，该角度可以根据喷淋头40的待清洗表面的面积、可动导轨43的长度进行具体的设置，但是图中A位置或C位置应该满足不影响外延沉积工艺、且进行外延沉积工艺时不会对喷淋头清洗装置的各个结构有影响，此时，清洗刷41位于远离所述喷淋头40和其待清洗表面的位置；

在外延沉积工艺结束后，所述可动导轨43移动至所述清洗刷41的刷毛面与所述喷淋头40的待清洗表面相对，并且刷毛与所述喷淋头40的待清洗表面形成接触，以便当喷清洗刷41旋转时，所述刷毛与所述喷淋头40的待清洗表面能够形成相对摩擦，当然，为了保证清洗效果，还可以在所述喷淋头40与清洗刷41之间施加一定的压力(该压力可以通过可动导轨43施加)该压力可以为固定压力，也可以根据喷淋头的洁净程度或工艺要求或喷淋头的使用状况进行灵活的设置，所述清洗刷41在所述滑块42的带动下沿着可动导轨43进行径向运动，并且所述可动导轨43在A位置与C位置之间进行圆周运动；如图所示，滑块42在A位置、B位置、C位置位于所述可动导轨43的不同位置，图中仅为示意，在此不应限制本实用新型的保护范围。

需要说明的是，本实施例中，所述可动导轨43在所述喷淋头41的待清洗表面的圆周运动为半圆周运动，即该圆周运动的圆心设置于喷淋头41以外，且该圆周运动的角度小于360度，在其他的实施例中，也可以将导轨支撑部件44、可动导轨43移动至所述喷淋头41的待清洗表面的对应位置，比如所述导轨支撑部件44、可动导轨43和喷淋头41的待清洗表面的中心的上方，使得所述可动导轨41沿所述喷淋头的待清洗表面上进行整圆周运动(即圆周运动的圆心设置于喷淋头41的待清洗表面的中心的上方的位置，圆周运动的角度大于等于360度)，此时，所述可动导轨43的长度可以小于所述喷淋头41的待清洗表面的直径。

本实施例所述喷淋头清洗装置位于所述手套箱内，所述清洗刷机械手包括：导轨支撑部件、可动导轨和滑块，利用滑块和可动导轨的运动，使得清洗刷与喷淋头表面进行清洗，所述导轨支撑部件、可动导轨和滑块的体积小，从而使得整个喷淋头清洗装置结构简单、紧凑，也降低了喷淋头清洗装置的成本。

综上，本实用新型实施例提供的喷淋头清洗装置利用清洗刷机械手夹持和移动清洗刷，利用清洗刷和/或刷毛能够与喷淋头的表面进行的相对运动，清洗喷淋头的表面，从而实现喷淋头表面的清洗，由于本实用新型实施例利用清洗刷机械手夹持清洗刷，操作人员无需用手夹持喷淋头，无需等待喷淋头表面的温度降低为安全温度(即操作人员手不会被烫伤的温度)，从而减少了清洗的时间，提供了喷淋头用于沉积工艺的时间和沉积设备的利用率；并且由于本实用新型利用刷毛与喷淋头的表面的相对运动清洗喷淋头的表面，从而与采用等离子体等化学方式对喷淋头表面进行清洗会造成喷淋头的损伤相比，本实用新型实施例不会损伤喷淋头，从而可以提高喷淋头的使用寿命；

进一步优化地，所述喷淋头清洗装置的工作方式为全自动控制方式，无需操作人员对喷淋头进行操作，可以利用机械手控制单元控制清洗刷机械手与所述喷淋头的表面的相对运动的轨迹和速度，可以在节约人力的同时达到更好的清洗效果清洗；

进一步优化地，所述喷淋头清洗装置还包括：图像采集单元、图像分析单元和反馈单元，从而可以监控喷淋头的表面的图像，从而根据所述图像判断喷淋头表面的洁净度的情况，自动地控制清洗刷机械手和清洗刷的运动，获得更好的清洗效果；

进一步优化地，所述喷淋头清洗装置可以包括第一清洗刷和第二清洗刷，从而可以对喷淋头进行粗清洗和精清洗，粗清洗可以较快地将喷淋头表面的大部分污染物去除，缩短喷淋头清洗的时间，而精清洗则可以将喷淋头表面残留的难以去除的污染物去除，保证喷淋头清洗的洁净度；

进一步优化地，所述喷淋头清洗装置还包括环绕所述清洗刷靠近所述喷淋头的待清洗表面一侧的弹性密封圈，在清洗时，所述弹性密封圈在所述清洗刷与所述喷淋头的待清洗的表面形成相对封闭的环境，从而防止清洗过程中的颗粒沾污手套箱的其他部件；

进一步优化地，所述喷淋头清洗装置位于所述手套箱内，所述清洗刷机械手包括：导轨支撑部件、可动导轨和滑块，利用滑块和可动导轨的运动，使得清洗刷与喷淋头表面进行清洗，所述导轨支撑部件、可动导轨和滑块的体积小，从而使得整个喷淋头清洗装置结构简单、紧凑，也降低了喷淋头清洗装置的成本。

虽然本实用新型已以较佳实施例披露如上，但本实用新型并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本实用新型的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (14)

1.一种喷淋头清洗装置，用于对喷淋头的表面进行清洗，其特征在于，包括：

清洗刷，具有刷毛；

清洗刷机械手，用于夹持和移动清洗刷，使得所述清洗刷和/或刷毛能够与喷淋头的表面进行相对运动，利用该相对运动清洗喷淋头的表面；

吸附装置，用于吸附清洗过程中的污染物。

2.如权利要求1所述的喷淋头清洗装置，其特征在于，所述喷淋头清洗装置的工作方式为全自动控制方式，还包括：

机械手控制单元，用于控制所述清洗刷机械手，调整所述清洗刷机械手与所述喷淋头的表面的相对运动的轨迹和速度。

3.如权利要求2所述的喷淋头清洗装置，其特征在于，所述机械手控制单元包括：

动力单元，用于提供动力，该动力使得所述清洗刷机械手和/或清洗刷能够与所述喷淋头的表面进行相对运动；

传动单元，一段与所述动力单元相连接，用于接收来自动力单元的动力，另一端与所述清洗刷机械手相连接，将动力传动至所述清洗刷机械手和/或清洗刷；

子控制单元，用于控制所述动力单元、传动单元，通过所述动力单元、传动单元控制所述清洗刷机械手和/或清洗刷的运动；

所述喷淋头清洗装置用于沉积设备，所述沉积设备包括：手套箱、传输腔室和装载卸载腔室，所述喷淋头位于所述手套箱内，所述手套箱与所述传输腔室和/或装载卸载腔室相连通；所述清洗刷和清洗刷机械手位于所述手套箱内、传输腔室内、装载卸载腔室内或手套箱外；

在沉积工艺完成后，所述子控制单元控制所述传动单元和动力单元将所述清洗刷和清洗刷机械手移动至与所述喷淋头的表面相对的位置，或所述子 控制单元控制所述喷淋头移动至喷淋头的表面与所述清洗刷相对的位置，利用所述清洗刷对所述喷淋头的表面进行清洗；在喷淋头的清洗完成后，所述子控制单元还可用于控制所述喷淋头的表面与所述清洗刷分离，将所述清洗刷和清洗刷机械手放置于手套箱内、手套箱外、装载卸载腔室或传输腔室中。

4.如权利要求3所述的喷淋头清洗装置，其特征在于，还包括：

图像采集单元，用于采集喷淋头的表面的图像；

图像分析单元，用于对所述图像采集单元采集到的图像进行分析，判断喷淋头表面的洁净度的情况；

反馈单元，用于根据图像分析单元的分析结果，获得控制信号，所述控制信号作为所述子控制单元的调整所述清洗刷机械手和清洗刷的相对运动的依据。

5.如权利要求1所述的喷淋头清洗装置，其特征在于，所述喷淋头清洗装置的工作方式为半自动控制方式，还包括：动力单元、传动单元；

所述动力单元用于提供动力，该动力使得所述清洗刷和/或刷毛能够进行转动；

所述传动单元的一端与所述动力单元相连接，用于接收来自动力单元的动力，另一端与所述清洗刷机械手相连接，将该动力传动至所述清洗刷机械手和/或清洗刷；

所述沉积设备包括：手套箱、传输腔室和装载卸载腔室，所述喷淋头位于所述手套箱内，所述手套箱与所述传输腔室和/或装载卸载腔室相连通；所述清洗刷清洗装置位于所述手套箱内、传输腔室内、装载卸载腔室内或手套箱外；

在沉积工艺完成后，操作人员控制所述传动单元和动力单元将所述清洗刷和清洗刷机械手移动至与所述喷淋头的表面相对的位置，或操作人员控制 所述喷淋头移动至喷淋头的表面与所述清洗刷相对的位置，利用所述清洗刷对所述喷淋头的表面进行清洗；在清洗完成后操作人员控制所述喷淋头的表面与所述清洗刷分离，将所述清洗刷和清洗刷机械手放置于手套箱内、手套箱外、装载卸载腔室或传输腔室中。

6.如权利要求5所述的喷淋头清洗装置，其特征在于，所述传动单元与所述清洗刷机械手相连接的部分为刚性结构，所述刚性结构用于操作人员手持，所述传动单元的与所述动力单元相连接的部分为柔性结构，使得所述传动单元能够带动所述清洗刷与所述喷淋头的表面进行相对运动。

7.如权利要求6所述的喷淋头清洗装置，其特征在于，还包括：

图像采集单元，用于采集喷淋头的表面的图像；

显示单元，用于将图像采集单元采集的图像显示，操作人员根据显示单元的图像，调整所述清洗刷机械手和清洗刷的相对运动。

8.如权利要求3或5中任一权利要求所述的喷淋头清洗装置，其特征在于，所述喷淋头清洗装置位于所述沉积设备的手套箱内，所述清洗刷机械手包括：

导轨支撑部件，位于所述喷淋头外部；

可动导轨，一端与所述导轨支撑部件通过固定件相连接，所述可动导轨能够相对所述导轨支撑部件进行圆周运动，该可动导轨的圆周运动的轨迹至少覆盖所述喷淋头的表面；

滑块，设置于所述可动导轨上，所述滑块用于活动连接所述可动导轨和清洗刷，使得所述清洗刷能够随着所述滑块与所述可动导轨进行径向运动，所述径向运动的方向为沿所述圆周运动的半径方向，所述径向运动与所述圆周运动配合，使得所述清洗刷的运动轨迹覆盖整个喷淋头的表面。

9.如权利要求8所述的喷淋头清洗装置，其特征在于，所述导轨支撑部件与动力单元相连接，所述导轨支撑部件将动力传输给所述可动导轨，控制所述可动导轨圆周运动的速度、方向、轨迹。 

10.如权利要求8所述的喷淋头清洗装置，其特征在于，还包括：

图像采集单元，用于采集喷淋头的表面的图像；

图像分析单元，用于对所述图像采集单元采集到的图像进行分析，判断喷淋头表面的洁净度的情况；

反馈单元，用于根据图像分析单元的分析结果，获得控制信号，所述控制信号作为所述动力源的输入信号。

11.如权利要求1所述的喷淋头清洗装置，其特征在于，所述清洗刷和刷毛的材质相同或不同。

12.如权利要求1所述的喷淋头清洗装置，其特征在于，所述清洗刷包括第一清洗刷和第二清洗刷，所述第一清洗刷的刷毛比第二清洗刷的刷毛粗，所述第一清洗刷用于进行喷淋头的粗清洗，所述第二清洗刷用于喷淋头的精清洗。

13.如权利要求1所述的喷淋头清洗装置，其特征在于，还包括：弹性密封圈，环绕所述清洗刷靠近所述喷淋头的待清洗表面一侧，所述弹性密封圈用于清洗时，在所述清洗刷与所述喷淋头的待清洗的表面形成相对封闭的环境，所述吸附装置包括：吸附管道和真空泵，所述吸附管道的一端与所述清洗刷的与所述喷淋头待清洗表面相对一侧的表面相连接，另一端与所述真空泵相连接，所述真空泵用于使得所述吸附管道的一端压力小于另一端的压力，在清洗过程中的污染物由于吸附管道两端的压力差随着所述吸附管道被抽离所述清洗刷与喷淋头之间。

14.如权利要求13所述的喷淋头清洗装置，其特征在于，所述弹性密封圈的材质为橡胶、金属、陶瓷、塑料中的一种或其中的组合。 

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