CN202116335U - 一种正压运行等压腔体 - Google Patents
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Abstract
一种正压运行等压腔体主要包含有；入口管道，出口管道，待处理腔室，已处理腔室，腔体，压力传感器，运行泵，其特征在于：压力传感器安装在待处理腔室上，或压力传感器安装在运行泵至待处理腔室所形成的等压腔室区域的任意位置上。本实用新型由于在流体处理设备运行泵至待处理腔室及与待处理腔室相连的管路和设备所形成的等压腔室上安装有压力传感器，使得正压式运行的流体处理设备，可利用安装在该等压区域腔室上的压力传感器实现流体处理设备的压力保护及相关设备操作运行，合理的控制流体处理设备正常运行、反冲、排污之间的间隔时间，并对节约设备的运行成本，提高设备的自动化程度，及时恢复设备的处理效果有其广泛的作用。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种流体处理设备腔体，特指一种正压运行时在待处理腔室及相关连接管道所形成的等压腔室上安装压力传感器的流体处理设备腔体，可广泛用于工业循环水，民用循环水，制药，化工，食品加工，环境工程，冶金，中央空调，电力，轻工，船舶，军事，航空航天等领域的各种流体处理设备上。
背景技术
在现代流体处理设备中对自动化的要求越来越高，用什么检测数具来实现自动化，怎样取得这些数具进行自动运行控制，人们在这方面的研发投入还不够，随着PLC技术的进步，压力传感器技术的成熟，用压力传感器取得的数具进行流体处理设备控制变成为一种新技术，合理的控制流体处理设备正常工作与反冲或排污之间的间隔时间，减少盲目的反冲洗、排污的次数，节约设备的运行成本，提高设备的安全运行系数。
发明的目的
本实用新型由于在流体处理设备运行泵至待处理腔室及与待处理腔室相连的管路和设备所形成的等压区域腔室上安装有压力传感器，使得正压式运行的流体处理设备，可利用安装在该等压区域腔室上的压力传感器实现流体处理设备的压力保护及相关设备操作运行，合理的控制流体处理设备正常运行、反冲、排污之间的间隔时间，并对节约设备的运行成本，提高设备的自动化程度，及时恢复设备的处理效果有其广泛的作用。
技术方案
根据本实用新型结构图1所示：一种正压运行等压腔体主要包含有；入口管道，出口管道，排污管道，腔体，待处理腔室，已处理腔室，压力传感器，运行泵。
如图1所示，本实用新型一种正压运行等压腔体组成：入口管道安装在待处理腔室上，入口管道另一端接运行泵；排污管道安装在待处理腔室上；出口管道安装在流体处理设备已处理腔室上；压力传感器安装区域为，在待处理腔室上或在待处理腔室至运行泵及待处理腔室至排污管道相连所形成等压腔室区域的任意位置上。
本实用新型一种正压运行等压腔体可广泛用于工业循环水，民用循环水，制药，化工，食品加工，环境工程，冶金，中央空调，电力，轻工，船舶，军事，航空航天等领域的各种流体处理设备上，均可广泛使用，并制造成各种具有正压运行的单泵、双泵；旁流、直流等多种形式的流体处理设备。
本实用新型在流体处理设备腔体上有一大创新：
1．压力传感器安装在待处理腔室上或在待处理腔室至运行泵及待处理腔室至排污管道相连所形成等压腔室区域的任意位置上。
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
附图说明
图1是本实用新型的结构图一种正压运行等压腔体。
图2是本实用新型图1一种正压运行等压腔体制成的一台双泵流体处理设备。
图3是根据本实用新型图1一种正压式运行腔体，组装成一台双泵全正压流体处理流体处理设备并联在工业循环水系统中作为旁流水处理设备的安装结构图，并联在工业循环水系统中作为旁流水处理设备的安装结构图。
具体实施方式：
本图1中，入口管道A，出口管道B，排污管道C，运行泵E，待处理腔室M，已处理腔室N，腔体w，压力传感器X。
在图1中本实用新型一种正压运行等压腔体，入口管道A与排污管道C接腔体W待处理腔室M上；入口管道A另一端接运行泵E；出口管道B安装在腔体已处理腔室N；在运行泵至待处理腔室N或排污管道C所形成的等压腔室上安装压力传感器X，产生本实用新型结构图1一种正压运行等压腔体。
如图2所示，将本实用新型结构图1一种正压运行等压腔体组装成一台双泵全正压（运行正压、反冲正压）流体处理设备由六大部份组成：
1． 在流体处理设备腔体W待处理腔室M上安装运行入口部份
设入口管道A=入口管道A（1）+入口管道A（2）+入口管道A（3），入口控制阀A（2）取代入口管道A（2），增加入口管道A（4）产生运行入口部份：
运行入口部份=入口管道A（1）+入口控制阀A（2）+入口管道A（3）+运行泵E+入口管道A（4）
2. 在流体处理设备腔体W已处理腔室N上安装运行出口部份
设出口管道B=出口管道B（1）+出口管道B（2）+出口管道B（3），出口控制阀B（2）取代出口管道B（2），产生运行出口部份：
运行出口部份=出口管道B（1）+出口控制阀B（2）+出口管道B（3）
3. 在流体处理设备腔体W待处理腔室M上安装排污运行部份
设排污管道C=排污管道C（1）+排污管道C（2）+排污管道C（3），排污阀C（2）取代排污管道C（2），反冲出口运行部份：
排污运行部份=排污管道C（1）+排污阀C（2）+排污管道C（3）
4. 在流体处理设备腔体W已处理腔室N上安装反冲入口部分：
反冲入口部份=反冲管道D（1）+反冲阀D（2）+反冲管道D（3）+
反冲泵D（4）+反冲管道D（5）
5．在流体处理设备腔体W正压运行等压腔室上安装压力系统检测部份：
压力系统检测部份=压力传感器X+PLC处理器X（1）+执行系统X（2），（根据流体的特点，本例中压力传感器X安装在排污阀至待处理腔室M、及运行泵E至待处理腔室M、和待处理腔室M在设备运行时所形成的等压腔室的管道与设备上，因变化太多而结构类同，故不再一一描述。）
6.在流体处理设备W腔体本体上安装：
流体处理设备腔体W=流体处理设备腔体W待处理腔室+流体处理设备腔体W已处理腔室+排气阀Y+压力传感器X
本实用新型一种正压运行等压腔体制成的一台双泵（全正压）流体处理设备装配完毕,如图2所示。现将结构图2的双泵流体处理设备并联到工业循环水系统的管路H上，入口管道A（4）与流体出口管道B（3）分别在循环水系统管道H上开口连接，产生结构图3。
本实用新型结构图1一种正压运行等压腔体组成的一台双泵全正压流体处理设备并联到工业循环水系统中如图3，作为旁流水处理设备的实施和运行如下：
1．如图3所示，当要对循环管道H中的水进行处理时，先关闭反冲泵D（4），排污阀C（2）、反冲阀D（2）、开启入口阀A（2）、出口阀B（2）、启动运行泵E，循环管道H中水流入管道A（4）→运行泵E→管道A（3）→入口控制阀A（2）→入口管道A（1）→待处理腔室→已处理腔室→出口管道B（1）→出口阀B（2）→出口管道B（3）→返回循环管道H，经不断循环，循环管道H中的水不断被净化，其各种杂质被截留在流体处理设备W腔体待处理腔室内。当流体处理设备工作一段时间后，循环系统内各种黏泥，杂质含量会不断减少，但待处理腔室杂质含量会不断增加，流体流量减少，水处理效果下降，在运行泵与排污管道及待处理腔室所形成的等压腔室区域内的压力会渐渐上升，这时安装的压力传感器X就将检测的数据传与PLC处理器X（1），由PLC处理器X（1）作出数据分析，然后数据送入执行系统X（2），并命令设备停止运行，设备进入排污、反冲、或维护等工作状态，从而减少了设备运行的盲目性，使设备时刻处于一种高效节能的安全工作状态。
Claims (2)
1.一种正压运行等压腔体主要包含有；入口管道，出口管道，待处理腔室，已处理腔室，腔体，压力传感器，运行泵，其特征在于：压力传感器安装在待处理腔室上，或压力传感器安装在运行泵至待处理腔室所形成的等压腔室区域的任意位置上。
2.根据权利要求1所述的一种正压运行等压腔体，其特征在于：该等压腔室区域，是指设备正压运行的流体处理设备，在设备运行状态下，因运行泵运行所引起的在待处理腔室及与待处理腔室相连的所有管道及设备上产生的相等压力区域。
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| CN201120163604XU CN202116335U (zh) | 2011-05-21 | 2011-05-21 | 一种正压运行等压腔体 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN102795674A (zh) * | 2011-05-21 | 2012-11-28 | 冯军 | 一种正压运行等压腔体 |
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- 2011-05-21 CN CN201120163604XU patent/CN202116335U/zh not_active Expired - Fee Related
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| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C17 | Cessation of patent right | ||
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Granted publication date: 20120118 Termination date: 20140521 |