CN202099068U - 多晶硅冷氢化反应器气流分布板 - Google Patents

多晶硅冷氢化反应器气流分布板 Download PDF

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吴厚金
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周景蓉
吴小玲
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Nanjing Duble Metal Equipment Engineering Co., Ltd.
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Abstract

多晶硅冷氢化反应器气流分布板，在多晶硅冷氢化反应器内部的一个水平截面上安装分布板，在分布板上均匀布孔。孔的面积占整个分布板面积的20-80%。本实用新型使多晶硅冷氢化反应器混合气体能够均匀分布，且降低气体流速，内部混合气体能够充分发生反应，提高三氯氢硅的产量。

Description

多晶硅冷氢化反应器气流分布板
技术领域
本实用新型涉及一种多晶硅冷氢化设备气流分布装置，尤其是使设备内部混合气体能够均匀分布且降低气体流速的装置。
背景技术
目前，多晶硅行业作为新兴能源的行业，已经得到了广泛应用，随着技术的不断成熟，对应的冷氢化反应器也相应国产化，并且进行了多次改进，但其冷氢化设备内部的混合气体仍然存在分布不均匀，气体流速过快的现象，从而不能完全反应，大大降低了三氯氢硅的产量。 
发明内容
本实用新型目的是：提出一种多晶硅冷氢化反应器的气流分布板结构，克服现有的混合气体在设备内不能均匀分布，且气体流速过快的缺陷，该结构能够使气体在设备内分布均匀，流速降低，能够充分发生反应，提高三氯氢硅的产量。
本实用新型的技术方案是：多晶硅冷氢化反应器气流分布板，其特征是：在多晶硅冷氢化反应器内部的一个水平截面上安装分布板，气流分布板为整体或分片拼成一个圆板结构；在分布板上均匀布孔。孔的面积占整个分布板面积的20-80%。尤其是40-70%。
孔的形状包括圆、椭圆、矩形、三角形、梯形、六边形、五边形、卵形等等。
本实用新型的有益效果是，使混合气体能够均匀分布，且降低气体流速，内部混合气体能够充分发生反应，提高三氯氢硅的产量。
附图说明
图1是气流分布板的布孔示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实例对本实用新型进一步说明。在气流分布板1上面机加工若干个孔2，孔在分布板上均匀分布，气流分布板可以为整体或分片拼成整圆的结构，气流分布板上的孔槽大小及数量不限。当混合气体流到分布板位置时只能从加工成型的孔槽处流出，从而使混合气流能够均匀分布，且气流流速减慢，提高冷氢化效率，增加三氯氢硅产量合。气流分布板可以根据设备的大小制造成整体或分片折叠构成一个圆板结构。气流分布板即圆板上均布的孔槽大小，及孔槽数量不限。气流分布板上的孔的形状为矩形槽口，腰型槽口、圆孔、椭圆状或斜孔状，但又不限于此。

Claims (4)

1.多晶硅冷氢化反应器气流分布板，其特征是：在多晶硅冷氢化反应器内部的一个水平截面上安装分布板，气流分布板为整体或分片拼成一个圆板结构；在分布板上均匀布孔。
2.根据权利要求1所述的多晶硅冷氢化反应器气流分布板，其特征是：孔的面积占整个分布板面积的20-80%。
3.根据权利要求1所述的多晶硅冷氢化反应器气流分布板，其特征是：孔的形状包括圆、椭圆、矩形、三角形、梯形、六边形、五边形、腰型或卵形。
4.根据权利要求2所述的多晶硅冷氢化反应器气流分布板，其特征是：孔的面积占整个分布板面积的40-70%。
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