CN201988534U - 清洗装置 - Google Patents

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徐强
宋海兵
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Jiangsu Gangxing Fanen Ultrasonic Technology Co Ltd
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Jiangsu Gangxing Fanen Ultrasonic Technology Co Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种用较少清洗液就能清洗干净有机硅光导体的清洗装置，包括清洗槽，所述清洗槽外侧设置有摆动气缸，清洗槽内设置有Z形摆动架，摆动架的一端从清洗槽中伸出并与清洗槽外侧的摆动气缸的活塞杆相连，位于清洗槽内的摆动架上设置有清洗座，清洗座上设置有若干个用于放置有机硅光导体的塔型插座，沿插座的轴向外表面上至少开设有一条泄水槽，塔型插座上方对应设置有导轨，导轨上滑动设置有一对滑块，滑块上分别设置有喷淋装置，清洗槽外侧还设置有两个移动气缸，两移动气缸位于清洗槽两侧，且分别与之对应的滑块相连，清洗槽的底部设置有排水管，排水管上设置有排水阀门。本实用新型适用于清洗硒鼓的场所。

Description

清洗装置
技术领域
本实用新型涉及一种用于打印机中有机硅光导体的清洗装置。
背景技术
激光打印机是现在打印机中最常用的一种，清晰的打印质量是衡量激光打印机质量的一个基本标准，而其中的有机硅光导体制成的硒鼓就是决定激光打印机打印是否清晰的关键部件。有机硅光导体硒鼓质量好坏的评定主要依据外观及光电性能。好的有机硅光导体硒鼓外观光亮；没有能引起印品不良的大的蓝点、白点等缺陷以及划痕、手痕、磕碰伤等缺陷。而在有机硅光导体硒鼓从生产线下线时，鼓身上沾满柴油、煤油等油渍及粉尘颗粒，这些都会影响硒鼓的光电性能。在对硒鼓的清洗过程中，既要去除这些污渍，同时又不能在鼓身上留下划痕、手痕。目前对硒鼓进行清洗，先用纯水浸洗，以去除鼓身上的粉尘，再将鼓身浸泡在铝材清洗剂（粉状）中进行刷洗，紧接着对鼓身进行反复多次的纯水漂洗，漂洗次数一般在6~8次。上述清洗过程都是人工手动完成，既增加生产成本，又降低了生产效率。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是：将提供一种自动清洗且用较少清洗液就能清洗干净有机硅光导体的清洗装置。
为解决上述问题，本实用新型采用的技术方案是：一种清洗装置，包括清洗槽，所述清洗槽外侧设置有摆动气缸，清洗槽内设置有Z形摆动架，摆动架的一端从清洗槽中伸出并与清洗槽外侧的摆动气缸的活塞杆相连，位于清洗槽内的摆动架上设置有清洗座，清洗座上设置有若干个用于放置有机硅光导体的塔型插座，沿插座的轴向外表面上至少开设有一条泄水槽，塔型插座上方对应设置有导轨，导轨上滑动设置有一对滑块，滑块上分别设置有喷淋装置，清洗槽外侧还设置有两个移动气缸，两移动气缸位于清洗槽两侧，且分别与之对应的滑块相连，清洗槽的底部设置有排水管，排水管上设置有排水阀门。
所述喷淋装置包括喷淋管，喷淋管上对应有机硅光导体的管壁上开设有喷淋孔；
所述喷淋装置包括喷淋管和设置在喷淋管上的喷嘴；
所述清洗槽的中部槽壁上设置有溢流口；
所述清洗槽的底部设置有排污法兰。
本实用新型的有益效果是：采用了顶部定位喷淋，使得有机硅光导体在垂直方向进入清洗槽，在喷淋过程中冲洗下来的清洗液可以轻松随着清洗液沿有机硅光导体内壁下滑，并沿途清洗有机硅光导体的内壁，减少了清洗液的用量。
附图说明
图1是本实用新型清洗装置的结构示意图；
图2是图1的左视图；
图3是图2中A向示意图。
图中：1、清洗槽，2、摆动气缸，3、摆动架，4、活塞杆，5、清洗座，6、导轨，7、左滑块，8、右滑块，9、左喷淋管，10、右喷淋管，11、喷嘴，12、左移动气缸，13、右移动气缸，14、排水管，15、排水阀门，16、溢流口，17、有机硅光导体，18、插座，19、泄水槽，20、排污法兰。
具体实施方式
下面结合附图，对本实用新型清洗装置作进一步的详细描述。
如图1、图2所示，一种清洗装置，包括清洗槽1，清洗槽1外侧设置有摆动气缸2，清洗槽1内设置有Z形摆动架3，摆动架3的一端从清洗槽1中伸出并与清洗槽1外侧的摆动气缸2的活塞杆4相连，位于清洗槽1内的摆动架3上设置有清洗座5，清洗座5上设置有若干个用于放置有机硅光导体17的塔型插座18，如图3所示，沿插座18的轴向外表面上至少开设有一条泄水槽19，根据生产需要，可以多开设几条泄水槽。塔型插座18上方对应设置有导轨6，导轨6上滑动设置有一对滑块——左滑块7和右滑块8，左滑块7和右滑块8上分别设置有左喷淋管9和右喷淋管10，左喷淋管9和右喷淋管10上分别设置喷嘴11；或者仅在左滑块7和右滑块8上分别设置有左喷淋管9和右喷淋管10，且左喷淋管9和右喷淋管10的管壁上对应有机硅光导体开设有喷淋孔；清洗槽1外侧还设置有两个移动气缸——左移动气缸12和右移动气缸13，左移动气缸12和右移动气缸13分别位于清洗槽1两侧，且左移动气缸12和右移动气缸13分别与左滑块7和右滑块8相连，清洗槽1的底部设置有排水管14，排水管14上设置有排水阀门15。为了防止排水管14被清洗下来的污垢堵塞后，导致清洗液从清洗槽1溢出，可在清洗槽1的中部槽壁上设置专门用于清洗液溢出的溢流口16。为了便于将长时间积累在清洗槽1底部的油污和碎渣清理掉，可在清洗槽1的底部设置有排污法兰20。
本实用新型的工作原理是：将需要清洗的有机硅光导体17一端套在清洗座5上的插座18上，启动摆动气缸2，摆动气缸2的活塞杆4收缩，使摆动架3连同清洗座5一起降至清洗槽1的下部，然后分别启动左移动气缸12和右移动气缸13，将左滑块7和右滑块8分别沿导轨6向中间推动，直至左喷淋管9和右喷淋管10上的喷嘴11位于有机硅光导体17的正上方，然后打开排水管14上的排水阀门15，同时启动外部控制装置，通过喷嘴11对有机硅光导体17进行清洗。清洗液沿有机硅光导体17内壁向下流动，同时清洗有机硅光导体17的内壁，并通过插座18上的泄水槽19流入清洗槽1底部，减少了专门针对有机硅光导体内壁清洗而使用的清洗液，且自动化清洗，避免了人工清洗带来的一系列问题，从而达到节约生产成本的目的，流入清洗槽1底部的清洗液随油污一起从排水管14排出。

Claims (5)

1.清洗装置，包括清洗槽，其特征在于：所述清洗槽外侧设置有摆动气缸，清洗槽内设置有Z形摆动架，摆动架的一端从清洗槽中伸出并与清洗槽外侧的摆动气缸的活塞杆相连，位于清洗槽内的摆动架上设置有清洗座，清洗座上设置有若干个用于放置有机硅光导体的塔型插座，沿插座的轴向外表面上至少开设有一条泄水槽，塔型插座上方对应设置有导轨，导轨上滑动设置有一对滑块，滑块上分别设置有喷淋装置，清洗槽外侧还设置有两个移动气缸，两移动气缸位于清洗槽两侧，且分别与之对应的滑块相连，清洗槽的底部设置有排水管，排水管上设置有排水阀门。
2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于：所述喷淋装置包括喷淋管，喷淋管上对应有机硅光导体的管壁上开设有喷淋孔。
3.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于：所述喷淋装置包括喷淋管和设置在喷淋管上的喷嘴。
4.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于：所述清洗槽的中部槽壁上设置有溢流口。
5.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于：所述清洗槽的底部设置有排污法兰。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN102139271A (zh) * 2011-03-02 2011-08-03 江苏港星方能超声洗净科技有限公司 清洗装置
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Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C53 Correction of patent for invention or patent application
CB03 Change of inventor or designer information

Inventor after: Chen Wei

Inventor before: Xu Qiang

Inventor before: Song Haibing

COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: INVENTOR; FROM: XU QIANG SONG HAIBING TO: CHEN WEI

AV01 Patent right actively abandoned

Granted publication date: 20110928

Effective date of abandoning: 20120704