CN201790703U - 站坐两用净足器 - Google Patents

站坐两用净足器 Download PDF

Info

Publication number
CN201790703U
CN201790703U CN2010201690054U CN201020169005U CN201790703U CN 201790703 U CN201790703 U CN 201790703U CN 2010201690054 U CN2010201690054 U CN 2010201690054U CN 201020169005 U CN201020169005 U CN 201020169005U CN 201790703 U CN201790703 U CN 201790703U
Authority
CN
China
Prior art keywords
side plate
plate
foot
dual
sufficient device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2010201690054U
Other languages
English (en)
Inventor
尹海江
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to CN2010201690054U priority Critical patent/CN201790703U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN201790703U publication Critical patent/CN201790703U/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Body Washing Hand Wipes And Brushes (AREA)

Abstract

一种清除足部污垢、死皮脚臭的站坐两用净足器,在器物的底部设置有一块接近正方形的底板,底板的左右两边各平行竖立着一块接近梯形的边板,在稍低于左右两边板的中间横向竖立着一块上部为半圆柱体的隔板并且与左右两边板和底板连成一个没有缝隙的整体。其中左右两边板的后室部分中间较薄向上下两端凹弧面形逐渐增厚,外侧边沿为圆弧状较薄向内侧逐渐增厚,在左右两块边板的外侧壁上设置有大面积的毛刷,各板块的内交接处均为凹弧面连接覆盖其内直角。此器物的内侧表面均密集且较均匀的分布着细小坚硬的凸起物。人在洗脚时足部通过与其表面接触产生滑动摩擦,在摩擦力的作用下可以快速彻底的清除足部所有部位的污垢、死皮和脚臭且人无须弯腰上手。

Description

站坐两用净足器
所属技术领域
本实用新型涉及一种清理人体足部污垢、死皮和脚臭的净足器具,尤其是在洗澡时站立洗脚或者坐着洗脚时无须人弯腰上手就可全方位快速彻底有效的清除足部的污垢、死皮和脚臭的站坐两用净足器。
背景技术
目前绝大多数人在洗澡时洗脚或者平时坐着洗脚的洗脚方式仍然是传统的手洗法,此法的弊端是需要弯腰上手费时费力使人厌烦且不易把脚洗净。目前公知的净足器具都存在各自的弊端,省时省力的器具如足浴盆内安装的按摩轮、按摩球、毛刷等,由于足部的新陈代谢物牢固的粘沾于足掌仅凭此类摩擦力弱的器具达不到有效清除足部的污垢、死皮和脚臭的效果;可以彻底有效的清除足部污垢、死皮和脚臭的器具如:磨脚石、锉板等使用时需要人弯腰上手费时费力很不方便。
发明内容
为了克服现有洗脚器具在净足方面省时省力使用方便的不能彻底有效的清除足部污垢、死皮和脚臭,能彻底有效的清除足部污垢、死皮和脚臭的又需要弯腰上手费时费力极不方便的不足,本实用新型提供一种站坐两用净足器,该净足器在洗澡时站立洗脚或者坐着洗脚时在无须弯腰上手的情况下便可全方位快速彻底有效的清除足部污垢、死皮和脚臭且省时省力使用方便。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:在器物的底部设置有一块接近正方形的底板,这块底板的左右两边各平行竖立着一块上部窄下部宽接近梯形的边板,在稍低于左右两边板的中间横向竖立着一块上部为半圆柱体的隔板并且与左右两边板和底板连成一个没有缝隙的整体,这四块板均有一定的厚度。这样此器物的上部形成了一个较浅且较宽的“U”形凹槽宽度比成人的脚的宽度略宽,此造型用来清洗脚底部和脚侧面的污垢;中间的隔板将此器物的中间隔离开后形成前后两室,其中左右两边板的后室部分中间较薄向上下两端凹弧面形逐渐增厚,其边沿呈突起的圆弧形且较薄向内侧逐渐增厚,此造型用来清洗脚指与脚指之间的污垢;后室内部用来清洗脚指前端的污垢;前室内部用来清洗脚后跟的污垢。在左右两块边板的外侧壁上设置有大面积的毛刷,此设置用来清洗脚背和脚侧面高处的污垢。各板块的内交接处均为凹弧面形连接覆盖其内直角。此器物的内侧表面均密集且较均匀的分布着细小坚硬的凸起物。人在洗脚时足部通过与其表面接触产生滑动摩擦,在摩擦力的作用下可以快速彻底有效的清除足部所有部位的污垢、死皮和脚臭。
本实用新型的有益效果是,各个部分均具有各自不同的凹弧面或凸弧面与足部不同的凸起或凹陷的部位形成凸凹填充阴阳对立,可实现器物的特定部分与足部的特定部位直接产生大面积的有效接触,通过两者的摩擦能够全方位快速彻底有效的清除足部的污垢、死皮和脚臭且人无须弯腰上手。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的前部侧面图。
图2是本实用新型的前部正面图。
图3是本实用新型的后部正面图。
图4是本实用新型的横剖面俯视图。
图5是本实用新型的纵剖面正侧面图。
图中1、底板,2、边板,3、隔板,4、“U”形凹槽,5、前室,6、后室,7、边板后室部分,8、毛刷。
具体实施方式
在图中器物的底部设置有一块接近正方形的底板1,这块底板1的左右两边各平行竖立着一块上部窄下部宽接近梯形的边板2,在稍低于左右两边板2的中间横向竖立着一块上部为半圆柱体的隔板3并且与左右两边板2和底板1连成一个没有缝隙的整体,这四块板均有一定的厚度。这样此器物的上部形成了一个较浅且较宽的“U”形凹槽4宽度比成人的脚的宽度略宽,此造型用来清洗脚底部和脚侧面的污垢;中间的隔板3将此器物的中间隔离开后形成前后两室,其中在左右两边板的后室部分7中间较薄向上下两端凹弧面形逐渐增厚,外侧边沿为圆弧状较薄向内侧逐渐增厚,此造型是用来清洗脚指与脚指之间的污垢;后室6内部是用来清洗脚指前端的污垢;前室5内部是用来清洗脚后跟的污垢。在左右两块边板的外侧壁上设置有大面积的毛刷8此装置用来清洗脚被和脚侧面高处的污垢。各板块的内交接处均为凹弧面形连接覆盖其内直角。此器物的内侧表面均密集且较均匀的分布着细小坚硬的凸起物。人在洗脚时足部通过与其表面接触产生滑动摩擦,在摩擦力的作用下可以快速彻底有效的清除足部所有部位的污垢、死皮和脚臭。

Claims (6)

1.一种站坐两用净足器,其特征是:在净足器的底部设置有一块底板,底板的左右两边各平行竖立着一块边板,在低于左右两块边板的中间横向竖立着一块上部为半圆柱体的隔板并且与左右两边板和底板连成一个没有缝隙的整体。
2.根据权利要求1所述的站坐两用净足器,其特征是:此净足器的上部为一个“U”形凹槽。
3.根据权利要求1所述的站坐两用净足器,其特征是:中间的隔板将此器物的中间隔离开后形成前后两室,其中在左右两边板的后室部分中间较薄向上下两端凹弧面形逐渐增厚,外侧边沿为圆弧状且较薄向内侧逐渐增厚。
4.根据权利要求1所述的站坐两用净足器,其特征是:各板块的内交接处均为凹弧面形相连接覆盖其内直角。
5.根据权利要求1所述的站坐两用净足器,其特征是:在左右两块边板的外侧壁上设置有毛刷。
6.根据权利要求1所述的站坐两用净足器,其特征是:在器物的内侧表面均密集的分布着坚硬的凸起物。 
CN2010201690054U 2010-04-26 2010-04-26 站坐两用净足器 Expired - Fee Related CN201790703U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2010201690054U CN201790703U (zh) 2010-04-26 2010-04-26 站坐两用净足器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2010201690054U CN201790703U (zh) 2010-04-26 2010-04-26 站坐两用净足器

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN201790703U true CN201790703U (zh) 2011-04-13

Family

ID=43845622

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2010201690054U Expired - Fee Related CN201790703U (zh) 2010-04-26 2010-04-26 站坐两用净足器

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN201790703U (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102232807A (zh) * 2010-04-26 2011-11-09 尹海江 站坐两用净足器

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102232807A (zh) * 2010-04-26 2011-11-09 尹海江 站坐两用净足器

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20130283552A1 (en) Foot scrubber with detachable bristle scrubber pad
CN103892762A (zh) 便携式坐便器
KR200452629Y1 (ko) 목욕용 장갑
CN201790703U (zh) 站坐两用净足器
USD618874S1 (en) Foot mounted cleaning device
CN201664254U (zh) 搓背板
CN102232807A (zh) 站坐两用净足器
CN210931084U (zh) 一种老年人独自活动起居用洗澡装置
CN202286515U (zh) 一种沐浴按摩鞋
CN201738423U (zh) 一种坐蹲两用马桶
CN202223129U (zh) 一种洗浴按摩瓷板
KR101810095B1 (ko) 세족용 슬리퍼
JP2007105416A (ja) 洗浄マット付き足湯器
CN201976841U (zh) 具有搓脚功能的拖鞋
CN213488502U (zh) 一种防滑按摩浴缸
CN203263762U (zh) 镶嵌在瓷砖上的按摩组件
CN201701132U (zh) 净足机
CN220557885U (zh) 一种用于沐浴房隔水洁脚按摩的垫板
CN203424867U (zh) 洗搓脚垫
CN102232805A (zh) 净足机
CN2741562Y (zh) 多功能足浴磁疗按摩器
CN201176693Y (zh) 保健木地板
KR102185531B1 (ko) 발 세척이 가능한 슬리퍼
CN203280356U (zh) 一种家用清洗脚垫
KR200473198Y1 (ko) 발 세척 매트

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20110413

Termination date: 20150426

EXPY Termination of patent right or utility model