CN201753372U - 外延片生产用承载盘 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种外延片生产用承载盘，其特征在于，包括盘体，盘体表面设置有承载衬底的第一凹槽，所述第一凹槽边缘设置有第二凹槽，第一凹槽与第二凹槽联通。本实用新型中的外延片生产用承载盘，放置衬底时，可方便地将真空吸笔抽出。取出衬底时，可方便地将真空吸笔插到衬底背面。取放衬底均方便，且使用安全，不会损坏单晶薄膜。

Description

外延片生产用承载盘
技术领域
本实用新型涉及一种外延片生产用承载盘。
背景技术
外延片的生产方法，是在衬底上生长单晶硅薄膜。如图1所示为一种衬底的俯视图，衬底4具有一参考面41。化学气相法生产外延片时，使气态的硅单晶沉积在衬底表面。单晶硅的沉积是在石英罩内进行。为保证衬底表面沉积的硅单晶薄膜均匀，沉积过程中，衬底放置在承载盘上并随承载盘不断的旋转。承载盘表面设置有第一凹槽，与衬底形状相适应，可防止衬底在旋转过程偏离位置。放置衬底时，使用真空吸笔吸住衬底背面，将衬底放入第一凹槽内，再将真空吸笔抽出。沉积完成后，采用真空吸笔插入衬底背面，吸住沉底背面，将衬底取出。由于现有技术中的承载盘的第一凹槽，侧面为直面，在放置衬底后，第一凹槽的侧面会阻挡真空吸笔，真空吸笔无法顺利取出。沉积完成后需要取出衬底时，由于衬底较薄，且与承载盘之间接触紧密，真空吸笔无法顺利插到衬底背面。因此，现有技术中的承载盘，取放衬底不方便，影响生产效率，严重时甚至会损坏衬底或衬底表面沉积的单晶薄膜。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足，提供一种取放衬底方便的外延片生产用承载盘。
为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案实现：
外延片生产用承载盘，其特征在于，包括盘体，盘体表面设置有承载衬底的第一凹槽，所述第一凹槽边缘设置有第二凹槽，第一凹槽与第二凹槽联通。
优选地是，所述第二凹槽，其至少一个侧面为直线斜面，所述直线斜面从承载盘表面延伸至第一凹槽槽底。
优选地是，所述第二凹槽，其至少一个侧面为弧形面，所述弧形面从承载盘表面延伸至第一凹槽槽底。
优选地是，所述的第二凹槽，位于与衬底的参考面位置相对的第一凹槽边缘。
优选地是，所述的第一凹槽数目为两个以上。
本实用新型中的外延片生产用承载盘，放置衬底时，可方便地将真空吸笔抽出。取出衬底时，可方便地将真空吸笔插到衬底背面。取放衬底均方便，且使用安全，不会损坏单晶薄膜。
附图说明
图1为一种衬底的俯视图；
图2为本实用新型的俯视图；
图3为实施例1中的图2的A-A剖视图；
图4为实施例2中的图2的A-A剖视图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型进行详细的描述：
实施例1
如图1、图2、图3所示，外延片生产用承载盘，包括盘体1，盘体1表面11设置有承载衬底的第一凹槽2，第一凹槽2具有一直线边缘22，直线边缘22与衬底4的参考面41位置相对应。所述第一凹槽2边缘设置有第二凹槽3，第二凹槽3设置在与衬底4的参考面41位置相对应的边缘22上。第二凹槽3与第一凹槽2联通，以使真空吸笔(图中未示出)可从第二凹槽3插至第一凹槽2的槽底，吸住衬底4的背面。
所述的第二凹槽3的一个侧面31为直线斜面，侧面31从盘体1表面11延伸至第一凹槽槽底21。
第一凹槽2的数目为两个以上，具体数目可依生产需要确定。
使用时，衬底放置到第一凹槽2内后，真空吸笔可沿第二凹槽3的侧面31抽出，侧面31设置为直线斜面，可降低对真空吸笔的阻挡。需要取出衬底时，可将真空吸笔沿侧面31插入至衬底背面，吸住衬底，将衬底取出。
实施例2
如图4所示，其与实施例1的不同之处在于，所述的第二凹槽3的一个侧面32为弧形面，侧面32从盘体1表面11延伸至第一凹槽槽底21。其余结构及使用方法与实施例1相同。
本实用新型中的实施例仅用于对本实用新型进行说明，并不构成对权利要求范围的限制，本领域内技术人员可以想到的其他实质上等同的替代，均在本实用新型保护范围内。

Claims (5)

1.外延片生产用承载盘，其特征在于，包括盘体，盘体表面设置有承载衬底的第一凹槽，所述第一凹槽边缘设置有第二凹槽，第一凹槽与第二凹槽联通。
2.根据权利要求1所述的外延片生产用承载盘，其特征在于，所述第二凹槽，其至少一个侧面为直线斜面，所述直线斜面从承载盘表面延伸至第一凹槽槽底。
3.根据权利要求1所述的外延片生产用承载盘，其特征在于，所述第二凹槽，其至少一个侧面为弧形面，所述弧形面从承载盘表面延伸至第一凹槽槽底。
4.根据权利要求1、2或3所述的外延片生产用承载盘，其特征在于，所述的第二凹槽，位于与衬底的参考面位置相对的第一凹槽边缘。
5.根据权利要求4所述的外延片生产用承载盘，其特征在于，所述的第一凹槽数目为两个以上。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102828169A (zh) * 2011-06-13 2012-12-19 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种载片托盘、托盘装置和结晶膜生长设备
CN102856240A (zh) * 2012-09-27 2013-01-02 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司 衬底承载装置
CN104900567A (zh) * 2014-03-04 2015-09-09 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种托盘以及腔室

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