CN201749208U - 一种用于人脸识别仪的窗口面板 - Google Patents
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Abstract
一种用于人脸识别仪的窗口面板,包括窗口基片和光学膜系,窗口基片上镀制有5-29层反射可见光、透射840-950nm红外光的光学膜系,每层膜系由19-49层高折射率层H和低折射率层L交替组成,所述H层的材料为硫的化合物、钛的氧化物或单质硅中的一种,L层的材料为冰晶石、氟化镁或二氧化硅中的一种。用本技术所述窗口面板取代传统面板,可以降低仪器成本30%以上,使得人脸识别仪进入千家万户成为可能。
Description
技术领域
本实用新型属于生物特征识别领域,涉及到一种人脸识别仪的窗口面板。
背景技术
生物特征识别技术是目前最为方便、最为安全的身份识别技术,与目前广泛应用的指纹识别技术相比,更直观,更方便,更友好而且非接触。但是,在有可见光尤其是太阳光的环境下,识别性能会显著下降,无法大规模推广使用。
目前市场上,人脸识别仪的窗口面板,均为透明的有机玻璃板或钢化玻璃板,虽然这种窗口对850nm和940nm的红外光是透明的,但是对可见光也是透明的,这部分可见光进入CMOS后,严重干扰了对850nm或940nm的红外图像的处理,这就对滤光片的可见光截止性能有很高的要求,增加了滤光片的成本。
同时,由于面板对可见光是透明的,装置在仪器上的红外二极管清楚可见,既不美观,隐蔽性也差。
而且,现有的人脸识别仪,通常装置有2个摄像头,一个拍摄850或者940nm的红外图像作为识别用,另一个拍摄可见光图像并通过一块液晶面板显示出来给被识别者看,成本比较高。
发明内容
本实用新型针对现有技术的不足,提供了一种用于人脸识别仪的窗口面板。
本实用新型通过以下技术方案来实现:
一种用于人脸识别仪的窗口面板,包括窗口基片和光学膜系,窗口基片上镀制有5-29层高折射率H层和低折射率L层交替组成的反射可见光、透射840-950nm红外光的光学膜系。每层膜系由19-49层高折射率层H和低折射率层L交替组成。
所述光学膜系的H层的材料为硫的化合物、钛的氧化物或单质硅中的一种,L层的材料为冰晶石、氟化镁或二氧化硅中的一种。
窗口基片上设置的反射可见光、透射850和940nm红外光的光学膜系减少了可见光对红外图像的干扰,使得识别更加准确和易行。同时,面板上的光学膜系反射的可见光人像,可以取代人脸识别仪上另一个摄像头和CMOS在液晶面板上所成的像,减少了这三种东西,可以降低人脸识别仪30%以上的成本,使得人脸识别仪进入千家万户成为可能。
附图说明
下面结合附图和实施方式对本实用新型做进一步的说明。
图1是本实用新型的结构图。
图2是本实用新型实施例1的光谱透射比曲线。
图3是本实用新型实施例2的光谱透射比曲线。
图4是本实用新型实施例3的光谱透射比曲线。
附图标记说明:
1-窗口基片;2-光学膜系
具体实施方式
图1为本实用新型的结构图。
1为窗口基片,可以采用有机玻璃或钢化浮法玻璃,其厚度为0.5-3毫米,切片,清洗后放入真空镀膜机,在真空状态下离子轰击后,交替蒸镀5-29层高低折射率光学膜系,使得该膜系对可见光450-650的反射率大于50%,对850或者940nm的红外光的透射率大于70%。
实施例1:
图2是本实用新型实施例1的光谱透射比曲线。
将切割清洗好的1毫米厚的有机玻璃基片放入真空镀膜机,交替蒸镀5层长波通膜系,其结构为:0.5HLHL0.5H;其中H层为单晶硅,其折射率2.9-3.0,光学厚度为1700-1900nm;L层为二氧化硅,其折射率为1.46,光学厚度也为1700-1900nm。
实施例2:
图3是本实用新型实施例2的光谱透射比曲线。
将切割清洗好的3毫米厚的红色PET基片放入真空镀膜机,交替蒸镀19层长波通膜系,其结构为:(0.5HL0.5H)9;其中H层为硫化锌单晶硅,其折射率2.2-2.3,光学厚度为1700-1900nm;L层为氟化镁,其折射率为1.38,光学厚度也为1700-1900nm。
实施例3:
图4是本实用新型实施例3的光谱透射比曲线。
将切割清洗好的1毫米厚的钢化玻璃基片放入真空镀膜机,交替蒸镀29层长波通膜系,其结构为:(0.5HL0.5H)14;其中H层为氧化钛,其折射率2.0-2.2,光学厚度为1700-1900nm;L层为二氧化硅,其折射率为1.46,光学厚度也为1700-1900nm。
本技术领域中的相关技术人员应当熟悉到,以上所述实施例仅是用来说明本实用新型的目的,而并非用作对本实用新型的限定,只要在本实用新型的实质范围内,对上述实施例所做的变化、变型都将落在本实用新型的权利要求范围内。
Claims (2)
1.一种用于人脸识别仪的窗口面板,包括窗口基片和光学膜系,其特征在于:窗口基片上镀制有5-29层反射可见光、透射840-950nm红外光的光学膜系。
2.根据权利要求1所述的一种用于人脸识别仪的窗口面板,其特征在于:所述光学膜系的H层的材料为硫的化合物、钛的氧化物或单质硅中的一种,L层的材料为冰晶石、氟化镁或二氧化硅中的一种。
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