CN201720751U - 水钻磨抛设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种水钻磨抛设备，包括上料上粉台、一次磨床、一次抛光机、对接台、二次磨床、二次抛光机和下料台，还包括第一机械手和第二机械手，所述上料上粉台、一次磨床、一次抛光机和对接台环绕分布在第一机械手周围、且在第一机械手可触及范围内，所述对接台、二次磨床、二次抛光机和下料台环绕分布在第二机械手周围、且在第二机械手可触及范围内。采用机械手可实现工件在各工位的自动转移，并且其合理的布局，减少了整个设备的占地空间。

Description

水钻磨抛设备

技术领域

本实用新型涉及一种水钻磨抛设备，属于饰品加工技术领域。

背景技术

目前在市场上使用的水钻磨抛设备通常包括上料上粉、下料和对接于一体的设备及磨床、抛光机等，工装在这些不同工位的机器之间的转移靠人工完成，同时每个工位需要多人来完成一套完整的操作，劳动强度大、效率低，使加工产品的一致性难以得到保证，并且整个设备的占地空间大。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种全自动的水钻磨抛设备，其加工效率高且减少设备的占地空间。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供的水钻磨抛设备，包括上料上粉台、一次磨床、一次抛光机、对接台、二次磨床、二次抛光机和下料台，还包括第一机械手和第二机械手，所述上料上粉台、一次磨床、一次抛光机和对接台环绕分布在第一机械手周围、且在第一机械手可触及范围内，所述对接台、二次磨床、二次抛光机和下料台环绕分布在第二机械手周围、且在第二机械手可触及范围内。

优选地，所述第一机械手、对接台和所述第二机械手位于同一直线上。

进一步地，所述上料上粉台、一次磨床、一次抛光机和对接台之间等距地分布在第一机械手周围。

进一步地，所述上料上粉台、一次磨床、一次抛光机和对接台之间依次间隔90度环绕分布在第一机械手周围。

进一步地，所述对接台、二次磨床、二次抛光机和下料台之间等距地分布在第二机械手周围。

进一步地，所述对接台、二次磨床、二次抛光机和下料台之间依次间隔90度环绕分布在第二机械手周围。

本实用新型的水钻磨抛设备，采用机械手可实现工件在各工位的自动转移，并且其合理的布局，减少了整个设备的占地空间。

附图说明

图1为本实用新型的水钻磨抛设备布局示意图。

具体实施方式

如图1所示，本实用新型的水钻磨抛设备，包括上料上粉台3、一次磨床4、一次抛光机5、对接台7、二次磨床8、二次抛光机9和下料台6，还包括第一机械手1和第二机械手2，上料上粉台3、一次磨床4、一次抛光机5和对接台7等距地分布在第一机械手1周围、且在第一机械手1可触及范围内，如上料上粉台3、一次磨床4、一次抛光机5和对接台7之间依次间隔90度环绕分布在第一机械手1周围，对接台7、二次磨床8、二次抛光机9和下料台6等距地分布在第二机械手2周围、且在第二机械手2可触及范围内，如对接台7、二次磨床8、二次抛光机9和下料台6之间依次间隔90度环绕分布在第二机械手2周围。第一机械手1、对接台7和所述第二机械手2位于同一直线上。以第一机械手1为中心的上料上粉台3、一次磨床4、一次抛光机5和对接台7构成第一条流水线，以第二机械手2为中心的对接台7、二次磨床8、二次抛光机9和下料台6构成第二条流水线，即本实用新型的水钻磨抛设备采用双流水线布局方式。

本实用新型的水钻磨抛设备通过以下工作流程来实现珠胚到成品水钻的加工：从上料上粉台3开始，工装夹具(下称：针排)上料和上粉(将工件珠胚放入针排中定位)，当上料和上粉动作完成后，机械手1将针排从上料上粉台3转移到一次磨床4，针排在一次磨床4上完成半球上各面的磨削操作，接着机械手1将针排从一次磨床4转移到一次抛光机5，在一次抛光机5上完成半球上各面的抛光操作，之后机械手1将针排从一次抛光机5上转移到对接台7上，在对接台7上实现两个不同半球之间的转换，完成对接后的一只空针排由机械手1送到上料和上粉工位3，继续重复前面的操作，从而实现水钻磨抛的自动线功能。在对接工位7上实现对接后的第二只针排由机械手2转移到二次磨床8，完成另一半球上各面的磨削操作，接着机械手2将第二只针排从二次磨床8上转移到二次抛光机9上，在二次抛光机9上完成半球上各面的抛光操作，然后机械手2将针排从二次抛光机9转移到下料台6上，在下料台6上完成产品的下料，同时下料后的空针排由机械手2转移到对接工位，以便继续重复之前的操作。

本实用新型的水钻磨抛设备，采用双闭环双流水线方式实现针排的自动流转，通过两只机械手协调了多台独立设备之间的合作关系，合理地整合了不同工位之间的配合关系，使安装尺寸大大的减小，节约了设备的占地空间。并且，不同工位设备相对独立，便于安装和调试。再者多台独立设备同时工作，减少了等待时间，提高了工作效率。另外，由于采用了自动流水线式操作和无人化操作，减少了原有设备在加工过程中的人为因素，避免了加工产品最终尺寸的不规律变化，使最终加工产品的一致性得到保证，提高了产品的合格率。

以上对本实用新型进行了示例性介绍，本实用新型的保护范围以权力要求为准。

Claims (6)

1.一种水钻磨抛设备，包括上料上粉台(3)、一次磨床(4)、一次抛光机(5)、对接台(7)、二次磨床(8)、二次抛光机(9)和下料台(6)，其特征是：还包括第一机械手(1)和第二机械手(2)，所述上料上粉台(3)、一次磨床(4)、一次抛光机(5)和对接台(7)环绕分布在第一机械手(1)周围、且在第一机械手(1)可触及范围内，所述对接台(7)、二次磨床(8)、二次抛光机(9)和下料台(6)环绕分布在第二机械手(2)周围、且在第二机械手(2)可触及范围内。

2.根据权利要求1所述的水钻磨抛设备，其特征是：所述第一机械手(1)、对接台(7)和所述第二机械手(2)位于同一直线上。

3.根据权利要求1或2所述的水钻磨抛设备，其特征是：所述上料上粉台(3)、一次磨床(4)、一次抛光机(5)和对接台(7)之间等距地分布在第一机械手(1)周围。

4.根据权利要求3所述的水钻磨抛设备，其特征是：所述上料上粉台(3)、一次磨床(4)、一次抛光机(5)和对接台(7)之间依次间隔90度环绕分布在第一机械手(1)周围。

5.根据权利要求1或2所述的水钻磨抛设备，其特征是：所述对接台(7)、二次磨床(8)、二次抛光机(9)和下料台(6)之间等距地分布在第二机械手(2)周围。

6.根据权利要求5所述的水钻磨抛设备，其特征是：所述对接台(7)、二次磨床(8)、二次抛光机(9)和下料台(6)之间依次间隔90度环绕分布在第二机械手(2)周围。

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