CN201695084U - 真空镀膜生产线基片架磁导向装置 - Google Patents
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Abstract
真空镀膜生产线基片架磁导向装置，包括真空镀膜箱、U形槽、磁导向单元、基片架、摩擦轮，所述U形槽开口向下安装在所述真空镀膜箱顶板上，在所述U形槽两侧壁上，各设有多组磁导向单元；所述基片架顶杆上设有一排磁钢，所述基片架顶杆插装在所述U形槽内的磁导向单元之间，所述基片架顶杆上设置的磁钢的N极、S极与所述U形槽两侧壁上设置的磁导向单元的N极、S极对应，所述基片架底杆上设置的圆柱形摩擦杆卡装在所述摩擦轮外圆周上设置的凹槽中。本实用新型结构简单，运行平稳，导向精度高，非接触式导向定位、无粉尘污染，可实现工业化生产，适于与各种型号的真空镀膜设备配套使用。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜生产线基片架导向装置，特别是指一种真空镀膜生产线基片架磁导向装置；属于机械制造技术领域。
背景技术
在真空镀膜连续生产线的镀膜工序中，基片通常是安装在基片架上，通过传动机构传动，平稳运行在真空镀膜箱中。业内最常用的传动方式是磨擦传动或齿轮、齿条传动。由于摩擦传动具有传动平稳性好、结构简单、性能可靠的优点，因此，近年来被真空镀膜行业广泛应用，但摩擦传动导向的问题业界一直没有很好的方法；通常采用的是机械导向方式，即在真空箱体顶板上固定有一槽口向下的U形导向槽，基片架顶杆(上横梁)上均匀固定有4-5个导向轴承，轴承嵌装在U形导向槽内滑动，而实现导向。由于轴承与U形导向槽壁之间的接触滑动，不可避免的会产生磨擦灰尘，污染基片，导致镀膜产生针孔等缺陷；另外，由于机械导向受阻力的不均匀在基片架运行过程中会产生卡滞现象，使基片架行进速度不均匀，甚至会短时停顿，基片所镀膜层会产生不均匀的现象。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术之不足而提供一种结构简单，运行平稳，导向精度高，非接触式导向定位、无粉尘污染的真空镀膜生产线基片架磁导向装置。
本实用新型真空镀膜生产线基片架磁导向装置，包括真空镀膜箱、U形槽、磁导向单元、基片架、摩擦轮，所述U形槽开口向下安装在所述真空镀膜箱顶板上，在所述U形槽两侧壁上，各设有多组磁导向单元；所述基片架顶杆上设有一排磁钢，所述基片架顶杆插装在所述U形槽内的磁导向单元之间，所述基片架顶杆上设置的磁钢的N极、S极与所述U形槽两侧壁上设置的磁导向单元的N极、S极对应，所述基片架底杆上设置的圆柱形摩擦杆卡装在所述摩擦轮外圆周上设置的凹槽中。
本实用新型中，所述磁导向单元沿所述U形槽轴线方向直线排列。
本实用新型中，所述基片架顶杆上设置的磁钢沿所述顶杆轴线方向，所述磁钢的N极、S极沿所述顶杆轴线对称分布。
本实用新型中，所述基片架底杆上设置的圆柱形摩擦杆的半径与所述摩擦轮外圆周上设置的凹槽圆弧半径相匹配。
本实用新型由于采用上述结构，根据磁钢同性相斥的原理，使基片架上的磁钢始终处于U形槽两侧壁上设置的多组磁导向单元中间，利用磁钢同极排斥的作用，实现对基片架无接触定位、导向目的；从根本上解决了机械导向磨擦掉灰，机械导向阻力不均匀引起的卡滞、抖动现象，保证了基片架运行的平稳性、连续性，有效提升了所镀膜层的均匀性。
综上所述，本实用新型结构简单，运行平稳，导向精度高，非接触式导向定位、无粉尘污染，可实现工业化生产，适于与各种型号的真空镀膜设备配套使用。
附图说明
附图1为本实用新型结构示意图。
附图2为本实用新型左视图。
图中：1---U形槽、2---磁导向单元、3---真空镀膜箱、4---基片架、7---摩擦轮
具体实施方式
本实用新型的具体结构，下面结合附图及具体实施例详细说明：
参见附图1、2，本实用新型真空镀膜生产线基片架磁导向装置，包括真空镀膜箱3、U形槽1、磁导向单元2、基片架4、摩擦轮7，所述U形槽1开口向下安装在所述真空镀膜箱3顶板上，在所述U形槽1两侧壁上，沿所述U形槽1轴线方向直线排列各设有多组磁导向单元2；所述基片架4顶杆上设有一排沿所述顶杆轴线方向的磁钢5，所述磁钢的N极、S极沿所述顶杆轴线对称分布；所述基片架4顶杆插装在所述U形槽1内的磁导向单元2之间，所述基片架4顶杆3上设置的磁钢5的N极、S极与所述U形槽1两侧壁上设置的磁导向单元2的N极、S极对应，所述基片架4底杆上设置的圆柱形摩擦杆9卡装在所述摩擦轮7外圆周上设置的凹槽10中；所述圆柱形摩擦杆9的半径与所述摩擦轮7外圆周上设置的凹槽10圆弧半径相匹配。
Claims (4)
1.真空镀膜生产线基片架磁导向装置，包括真空镀膜箱、U形槽、磁导向单元、基片架、摩擦轮，所述U形槽开口向下安装在所述真空镀膜箱顶板上，其特征在于：在所述U形槽两侧壁上，各设有多组磁导向单元；所述基片架顶杆上设有一排磁钢，所述基片架顶杆插装在所述U形槽内的磁导向单元之间，所述基片架顶杆上设置的磁钢的N极、S极与所述U形槽两侧壁上设置的磁导向单元的N极、S极对应，所述基片架底杆上设置的圆柱形摩擦杆卡装在所述摩擦轮外圆周上设置的凹槽中。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜生产线基片架磁导向装置，其特征在于：所述磁导向单元沿所述U形槽轴线方向直线排列。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜生产线基片架磁导向装置，其特征在于：所述基片架顶杆上设置的磁钢沿所述顶杆轴线方向，所述磁钢的N极、S极沿所述顶杆轴线对称分布。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜生产线基片架磁导向装置，其特征在于：所述基片架底杆上设置的圆柱形摩擦杆的半径与所述摩擦轮外圆周上设置的凹槽圆弧半径相匹配。
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2010
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Legal Events
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| GR01 | Patent grant | ||
| C56 | Change in the name or address of the patentee |
Owner name: XIANGTAN HONGDA VACUUM TECHNOLOGY CO., LTD. Free format text: FORMER NAME: XIANGTAN HONGDA VACUUM EQUIPMENT CO., LTD. |
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| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 411100 Hunan province Xiangtan City Jiuhua Industrial Park Shengshi Road No. 8 Patentee after: Xiangtan Hongda Vacuum Technology Co., Ltd. Address before: 411100 Hunan province Xiangtan City Jiuhua Industrial Park Shengshi Road No. 8 Patentee before: Xiangtan Hongda Vacuum Equipment Co., Ltd. |
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Granted publication date: 20110105 |
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