CN201688613U - 高选择性吸收性太阳能真空管 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种高选择性吸收性太阳能真空管，是由太阳能真空管内管、抗红外反射膜、第一复合吸收膜、第二复合吸收膜和抗辐射复合保护膜组成，其中，抗红外反射膜TiN、第一复合吸收膜AlN-SS、第二复合吸收膜AlN-SS和抗辐射复合保护膜Al-C-F分层依次附着在太阳能真空管内管的外表面上，组成玻璃/氮化钛/氮化铝-不锈钢/铝-碳-氟Glass/TiN/AlN-SS/Al-C-F的高选择性吸收性太阳能真空管。由于TiN的红外反射率和金金属接近，在16μm处金的红外反射率97％，TiN的红外反射率95％，所以该涂层具有更低的低温发射率，因此该膜系下的全玻璃真空管具有更低的热损，保温性能更好。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种太阳能真空管，具体地说是一种高选择性吸收性太阳能真空管。
背景技术
目前，现有技术的太阳能真空管在生产和使用中，存在的不足是，对抗远红外反射和抗热辐射的性能都不很理想，也就是对阳光的吸收和对热量保存效果都没有达到最好效果。还有许多问题有待于业内科技人员加以完善。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种用氮化钛做底金属层的太阳能真空管选择性吸收涂层的制备方法。
本实用新型的目的是按以下方式实现的，其结构是由太阳能真空管内管、抗红外反射膜、第一复合吸收膜、第二复合吸收膜和抗辐射复合保护膜组成，其中，抗红外反射膜、第一复合吸收膜、第二复合吸收膜和抗辐射复合保护膜分层依次附着在太阳能真空管内管的外表面上，组成玻璃/氮化钛/氮化铝-不锈钢/铝-碳-氟Glass/TiN/AlN-SS/AL-C-F的高选择性吸收性太阳能真空管。
设置在太阳能真空管内管的外表面上的抗红外反射膜、第一复合吸收膜、第二复合吸收膜和抗辐射复合保护膜分别是由相同材质的材料至少通过两次真空溅射完成。
本实用新型的有益效果是，由于TiN的红外反射率和金金属接近，在16μm处金的红外反射率97％，TiN的红外反射率95％，所以该涂层具有更低的低温发射率，因此该膜系下的全玻璃真空管具有更低的热损，保温性能更好，同时AL-C-F高的溅射速率更有利于提高产品质量和降低生产成本。
附图说明
附图1为现有技术的膜系结构示意图；
附图2为本实用新型的膜系结构示意图。
附图标记说明：抗红外反射膜1、第一复合吸收膜2、第二复合吸收膜3、抗辐射复合保护膜4、太阳能真空管内管5。
具体实施方式
参照说明书附图对本实用新型的真空管作以下详细地说明。
本实用新型的高选择性吸收性太阳能真空管，其结构是由太阳能真空管内管5、抗红外反射膜1、第一复合吸收膜2、第二复合吸收膜3和抗辐射复合保护膜4组成，其中，抗红外反射膜1、第一复合吸收膜2、第二复合吸收膜3和抗辐射复合保护膜4分层依次附着在太阳能真空管内管5的外表面上，组成玻璃/氮化钛/氮化铝-不锈钢/铝-碳-氟Glass/TiN/AlN-SS/AL-C-F的高选择性吸收性太阳能真空管。
实施例
该膜层的制备通过磁控反应溅射完成，溅射气体为氩气，反应气体为高纯氮气和四氟化碳气体，膜层共分四层溅射，其间有若干过渡层。
抗红外反射膜1，氮化钛TiN的溅射
工作压强0.2-0.5Pa，反应气体氮气，氮气量20-200Sccm，溅射厚度0.04-0.3μm；
第一复合吸收膜2，氮化铝-不锈钢AlN-SS的溅射
工作压强0.2-0.8Pa，反应气体氮气，氮气量60-150Sccm，钢靶电流20-40A，溅射厚度0.04-0.1μm；
第二复合吸收膜3，氮化铝-不锈钢AlN-SS的溅射
工作压强0.2-0.8Pa，反应气体氮气，氮气量60-150Sccm，钢靶电流8-20A，溅射厚度0.04-0.15μm；
抗辐射复合保护膜4，铝-碳-氟Al-C-F的溅射
工作压强0.2-0.8Pa，反应气体四氟化碳，四氟化碳气量30-200Sccm，溅射厚度0.03-0.12μm。
Claims (2)
1.高选择性吸收性太阳能真空管，其特征在于，包括太阳能真空管内管、抗红外反射膜、第一复合吸收膜、第二复合吸收膜和抗辐射复合保护膜，抗红外反射膜TiN、第一复合吸收膜AlN-SS、第二复合吸收膜AlN-SS和抗辐射复合保护膜AL-C-F分层依次附着在太阳能真空管内管的外表面上，组成玻璃/氮化钛/氮化铝-不锈钢/铝-碳-氟Glass/TiN/AlN-SS/AL-C-F的高选择性吸收性太阳能真空管。
2.根据权利要求1所述的太阳能真空管，其特征在于，设置在太阳能真空管内管的外表面上的抗红外反射膜、第一复合吸收膜AlN-SS、第二复合吸收膜AlN-SS和抗辐射复合保护膜AL-C-F分别是由相同材质的材料至少通过两次真空溅射完成，其中抗红外反射膜TiN的厚度控制在0.04-0.3μm；第一复合吸收膜AlN-SS的厚度控制在0.04-0.1μm、第二复合吸收膜AlN-SS的厚度控制在0.04-0.15μm和抗辐射复合保护膜AL-C-F的厚度控制在0.03-0.12μm。
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2010
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