CN201651309U - 防反应釜介质被污染的机械密封装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种防反应釜介质被污染的机械密封装置,旨在有效地避免动环、静环摩擦副产生磨屑落入反应釜内,从而确保反应釜内介质不被污染。防反应釜介质被污染的机械密封装置,包括动环(10)、静环(20)和静环座(21),其特征是:所述静环(20)与被密封轴之间设置有磨屑收集环(30),该磨屑收集环(30)的外表面与静环(20)内壁之间形成用于积纳磨屑的空腔(31)。
Description
技术领域
本实用新型涉及反应釜,特别涉及一种用于药品、食品等行业的可防反应釜介质被污染的机械密封装置。
背景技术
药品、食品等行业常使用反应釜合成生产成品或者中间产品,对产品有着高洁净度的要求,生产过程中应杜绝反应釜内发生介质污染。反应釜机械密封装置由动环和静环构成端面密封,在使用过程中,动环、静环摩擦副运转摩擦会产生磨屑。如果不采取防护措施,这些磨屑会逐步落入反应釜内,污染药品、食品,严重影响产品质量。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种防反应釜介质被污染的机械密封装置,能有效地避免反应釜内介质不被污染。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:本实用新型防反应釜介质被污染的机械密封装置,包括动环、静环和静环座,其特征是:所述静环与被密封轴之间设置有磨屑收集环,该磨屑收集环的外表面与静环的内壁之间形成用于积纳磨屑的空腔。
本实用新型的有益效果是,能有效地避免动环、静环摩擦副产生磨屑落入反应釜内,从而确保反应釜内介质不被污染。
附图说明
本说明书包括如下二幅附图:
图1是本实用新型防反应釜介质被污染的机械密封装置的装配图;
图2是图1中A局部的放大示意图。
图中示出零部件、部位名称及所对应的标记:动环10、静环20、静环座21、上O型密封圈22、下O型密封圈23、磨屑收集环30、空腔31。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
参照图1,本实用新型的防反应釜介质被污染的机械密封装置,包括动环10、静环20和静环座21。所述静环20与被密封轴之间设置有磨屑收集环30,该磨屑收集环30的外表面与静环20内壁之间形成用于积纳磨屑的空腔31,反应釜运行过程中动环、静环摩擦副产生的磨屑落入空腔31内,故能有效地避免磨屑落入反应釜内,从而确保反应釜内介质不被污染。参照图2,所述磨屑收集环30的上端面宜高出动环10、静环20之间摩擦副的位置。
图2则示出了磨屑收集环30的一种典型结构和安装方式,即所述磨屑收集环30的下端具有径向延伸形成的凸缘,在该凸缘的上端面与静环20的下端面之间设置有上O型密封圈22,在该凸缘的下端面与静环座21的上端面之间设置有下O型密封圈23。
以上所述只是用图解说明本实用新型防反应釜介质被污染的机械密封装置的一些原理,并非是要将本实用新型局限在所示和所述的具体结构和适用范围内,故凡是所有可能被利用的相应修改以及等同物,均属于本实用新型所申请的专利范围。
Claims (3)
1.防反应釜介质被污染的机械密封装置,包括动环(10)、静环(20)和静环座(21),其特征是:所述静环(20)与被密封轴之间设置有磨屑收集环(30),该磨屑收集环(30)的外表面与静环(20)内壁之间形成用于积纳磨屑的空腔(31)。
2.如权利要求1所述防反应釜介质被污染的机械密封装置,其特征是:所述磨屑收集环(30)的上端面高出动环(10)、静环(20)之间摩擦副的位置。
3.如权利要求1或2所述防反应釜介质被污染的机械密封装置,其特征是:所述磨屑收集环(30)的下端具有径向延伸形成的凸缘,该凸缘的上端面与静环(20)的下端面之间设置有上O型密封圈(22),该凸缘的下端面与静环座(21)的上端面之间设置有下O型密封圈(23)。
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CN106337935A (zh) * | 2015-07-10 | 2017-01-18 | 岐昱实业(上海)有限公司 | 一种反应釜搅拌棒的旋转密封装置 |
CN110206890A (zh) * | 2019-06-06 | 2019-09-06 | 密友集团有限公司 | 应用于搪玻璃机械密封装置的内漏收集槽 |
CN110274024A (zh) * | 2019-07-13 | 2019-09-24 | 江苏科奥流体科技有限公司 | 一种釜用机械密封 |
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- 2010-01-15 CN CN2010200377325U patent/CN201651309U/zh not_active Expired - Fee Related
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GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
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