CN201583676U - 红外线截止滤光片 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种红外线截止滤光片，在玻璃基片的某一侧面或两侧面制备第一膜层，在第一膜层上制备第二膜层；第二膜层为交互层，第二膜层的厚度为2300～4100nm。第一膜层为氟化镁膜层，交互层由氧化钛膜层与二氧化硅膜层交替制备形成，其中，交互层的最外侧为二氧化硅膜层，氧化钛膜层与二氧化硅膜层两者的层数合计为23～39层。本实用新型采取上述成膜方式，经验证采取折射率在1.49～1.54范围内的光学玻璃基片，红外线领域的透过率小于1％，能够更为有效地截止红外线领域的信息摄入。
Description
技术领域
本实用新型涉及数码相机等光学仪器使用的一种滤光片，特别与其中的红外线截止滤光片。
背景技术
数码相机是通过C-MOS和CCD把拍照的对象从模拟对象转化为成数字式，这种情形下作为C-MOS和CCD需要使用一种红外线截止滤光片即IR滤光片，采取IR滤光片的目的是为了防止拍照时红外线领域信息的摄入，如果没有这种IR滤光片或IR滤光片性能不良的话，肉眼看不到的信息也会被摄入，因此IR滤光片的性能不容忽视。为了满足上述截止红外线的需要，通常在滤光片的玻璃基片上设置有红外线截止膜。但现有技术中上述滤光片的红外线截止膜所采取的技术方式不尽合理，还有待于进一步改进。
实用新型内容
本实用新型的任务在于提供一种红外线截止滤光片。
其技术解决方案是：
一种红外线截止滤光片，包括玻璃基片，在玻璃基片的某一侧面或两侧面制备第一膜层，在第一膜层上制备第二膜层；第二膜层为交互层，第二膜层的厚度为2300～4100nm。
上述第一膜层为氟化镁膜层；上述交互层由氧化钛膜层与二氧化硅膜层交替制备形成，其中，交互层的最外侧为二氧化硅膜层，上述第二膜层中，氧化钛膜层与二氧化硅膜层两者的层数合计为23～39层。
本实用新型的有益技术效果是：
本实用新型采取上述成膜方式，经验证采取折射率在1.49～1.54范围内的光学玻璃基片，红外线领域的透过率小于1％，能够更为有效地截止红外线领域的信息摄入。
此外，最下层采取氟化镁膜层，可以提高成膜与玻璃基片的附着性与紧密度即密着性好。
附图说明
下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步说明：
图为本实用新型的一种实施方式的剖示结构原理示意图。
具体实施方式
结合附图，一种红外线截止滤光片，包括玻璃基片1，在玻璃基片1的一个侧面制备第一膜层2，第一膜层2为氟化镁膜层，膜层的厚度一般为18～20nm。在第一膜层上制备第二膜层3，第二膜层为由氧化钛膜层300与二氧化硅膜层301交替制备形成的交互层，如若先制备一层氧化钛膜层，则在该层氧化钛膜层上制备一层二氧化硅膜层，然后再在该层二氧化硅膜层上制备一层氧化钛膜层，如此交替进行下去，当氧化钛膜层与二氧化硅膜层两者的层数合计为23、24、25、28、30、31、35、36、38或39层、第二膜层的厚度为2300、2400、2700、3000、3500、3600、3800或4100nm时即告完成，此时，只要保证第二膜层(整个交互层)的最外侧为二氧化硅膜层即可。
上述各膜层的制备可采取现有技术中的有关镀膜技术方式如真空蒸镀法，或磁控管溅镀法等实施。
除上述实施方式外，红外线截止滤光片也可以这样实施，即在玻璃基片的两侧面均设置有上述方式中的第一膜层与第二膜层。
Claims (2)
1.一种红外线截止滤光片，包括玻璃基片，其特征在于：在所述玻璃基片的某一侧面或两侧面制备第一膜层，在第一膜层上制备第二膜层；第二膜层为交互层，第二膜层的厚度为2300～4100nm。
2.根据权利要求1所述的红外线截止滤光片，其特征在于：所述第一膜层为氟化镁膜层；所述交互层由氧化钛膜层与二氧化硅膜层交替制备形成，其中，交互层的最外侧为二氧化硅膜层，上述第二膜层中，氧化钛膜层与二氧化硅膜层两者的层数合计为23～39层。
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Family Applications (1)
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2010
- 2010-01-28 CN CN2010201029540U patent/CN201583676U/zh not_active Expired - Fee Related
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