CN201540395U - 镜头对焦模块的成像底盖结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种镜头对焦模块的成像底盖结构,配设于一镜头对焦模块及一影像感测组件之间,该底盖覆盖于该影像感测组件上,包括一成像区及一非成像区,该成像区线性对应于镜头的光线进入位置及该影像传感器的成像感测位置,且该成像区与非成像区的平面高度,形成一不同水平面的高低段差,使得落于该底盖上的灰尘,可在不规则晃动中易于集中在成像区中,让检测人员检查发现而清除,或者被阻隔于成像区外,降低成像区被污染的风险。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种镜头对焦模块的成像底盖结构,特别涉及一种镜头自动对焦机构中,使用在影像感测组件上用以防尘的底盖结构。
背景技术
由于科技的进步,使得数字相机的体积缩的相当地小,而目前的行动电话亦大都建置有数字相机的功能,这些都归功于摄像镜头的模块化及微型化,而在微型镜头内有许多种类的自动对焦驱动结构,目前最普遍被使用的是音圈马达(VCM),因其具有体积小、用电量少、致动位移精确及价格低廉等优点,适合作为微型镜头自动对焦的短距驱动。
如图1所示,在一般的镜头摄像装置10中,主要是由包括一镜头对焦模块11以及一影像感测组件12所组成,其中镜头对焦模块11可将影像光线对焦成像于影像感测组件12上。
在制造微型镜头摄像装置时,该镜头对焦模块11以及该影像感测组件12是分别制造完成后,才进入无尘室中,将镜头对焦模块11组合在影像感测组件12上,且在镜头对焦模块11与影像感测组件12之间会设置一防尘底盖13,以防止有灰尘落于影像感测组件12上。
传统的防尘底盖13为一平板状,其上线性对应于镜头进入光线的位置及影像感测组件12的成像感测位置,形成有一成像区域131,其余为非成像区域132,该成像区域131与该非成像区域132是在同一平面上。
制造过程中不论如何的防尘,无法必免的还是会有灰尘落入该防尘底盖13上,若是灰尘落入防尘底盖13的成像区域131上时,可由检测人员借由成像检查,发现成像画面上会有污点或是黑点的现象,而将灰尘清除掉。
但是若灰尘是落在的防尘盖13的非成像区域132处时,则会造成检测人员无法以成像检查发现灰尘的存在,一旦封装成成品后,在使用不规则的晃动中,灰尘就可能会再落入成像区域131上,虽然其机率仅有5%~10%,但对高质量的微型镜头摄像装置而言,这是无法忍受的。
因此,如何能再降低落尘的机率,将是本实用新型欲解决的课题,于是本案实用新型提出一种防尘盖结构,可易于让灰尘落入防尘盖的成像区中,让检测人员借由成像检查到而清除灰尘,或者将灰尘阻绝于成像区之外。
实用新型内容
本实用新型的目的是在提供一种镜头对焦模块的成像底盖结构,具有让灰尘容易滑落集中至成像区,可让检查人员借由成像检查而发现灰尘,而能清除灰尘,降低镜头对焦模块的落尘机率。
为达到上述的目的,本实用新型提供一种镜头对焦模块的成像底盖结构,配设于一镜头对焦模块及一影像感测组件之间,该底盖覆盖于该影像感测组件上,其特征在于,包括一成像区及一非成像区,该成像区线性对应于镜头的光线进入位置及该影像传感器的成像感测位置,且该成像区与非成像区的平面高度,形成一不同水平面的高低段差,使得落于该底盖上的灰尘,可在不规则晃动中易于集中在成像区中,让检测人员检查发现而清除,或者被阻隔在成像区外,降低成像区被污染的风险。
上述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像区与非成像区形成的高低段差,为成像区低于非成像区。
上述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,其中该成像区与非成像区形成的高低段差,为成像区高于非成像区。
上述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像区为呈方形或多角形。
上述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像区为呈圆形。
上述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像底盖为透明的玻璃、塑料或压克力材质件。
上述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像区与非成像区所形成的高低段差,为呈斜坡角状。
上述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像区与非成像区所形成的高低段差,为呈向外凸起的圆弧角状。
上述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像区与非成像区所形成的高低段差,为呈向内凹陷的圆弧角状。
上述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像底盖与该镜头对焦模块的下盖组件为一体成形件。
本实用新型的功效在于,本实用新型提出的防尘盖结构,可易于让灰尘落入防尘盖的成像区中,让检测人员借由成像检查到而清除灰尘,或者将灰尘阻绝于成像区之外。
以下结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细描述,但不作为对本实用新型的限定。
附图说明
图1为现有镜头摄像装置的对焦成像示意图;
图2为本实用新型第一实施例的立体分解图;
图3为图2的成像底盖A-A’剖面示意图;
图4为本实用新型成像底盖的第二实施例立体示意图;
图5为本实用新型成像底盖的第三实施例立体示意图;
图6为本实用新型的第四实施例立体示意图;
图7为本实用新型的第五实施例立体示意图。
其中,附图标记
10 镜头摄像装置
11 镜头对焦模块
12 影像感测组件
13 防尘底盖
131 成像区域
132 非成像区域
20 影像感测组件
30 成像底盖
31 成像区
32 非成像区
40 镜头对焦模块
41 下盖
50 镜头
具体实施方式
为了能更进一步了解本实用新型为达成预定目的所采取的技术、手段及功效,请参阅以下有关本实用新型的详细说明与附图,相信本实用新型的目的、特征与特点,当可由此得一深入且具体的了解,然而所附图式仅提供参考与说明用,并非用来对本实用新型加以限制。
如图2所示为本实用新型第一实施例的立体分解图,本实用新型包括一影像感测组件20、一成像底盖30及一镜头对焦模块40,其中该影像感测组件20是配设于一电路板(图中未示)上,而该成像底盖30是为透明的玻璃、塑料或亚克力材质制成,配设于镜头对焦模块40及该影像感测组件20之间,覆盖在该影像感测组件20上,用以防止灰尘进入影像感测组件20,以及保护影像感测组件20。
该镜头对焦模块40则组装于该成像底盖30上方,在镜头对焦模块40的中心处设有一镜头置入孔,可用以装入一镜头50,借由镜头对焦模块40承载该镜头50进行对焦,可将镜头50摄入的影像光线对焦成像于该影像感测组件20上。
请参阅图3所示为图2的成像底盖A-A’剖面示意图,该成像底盖30设有一成像区31及一非成像区32,该成像区31线性对应于镜头50的光线进入位置及影像感测组件20的成像感测位置。
其中该成像区31的平面高度略低于非成像区32,形成一不同水平面的高低段差,使得落于该底盖30上的灰尘,可以在不规则晃动中,容易于滑落集中在成像区31中,而让检测人员可以借由成像检查而发现到灰尘,将灰尘清除掉。
如图3所示的实施例中该成像区31呈方形,而与非成像区32所形成的高低段差,呈斜坡角状,使得灰尘较容易滑落掉入成像区32中。
请参阅图4所示为本实用新型成像底盖的第二实施例立体示意图,其中该成像区31呈圆形,而与非成像区32所形成的高低段差,是呈向外凸起的圆弧角状。
请参阅图5所示为本实用新型成像底盖的第三实施例立体示意图,其中该成像区31呈多角形,较佳地为八角形,而与非成像区32所形成的高低段差,是呈向内凹陷的圆弧角状。
请参阅图6所示,为本实用新型成像底盖的第四实施例立体示意图,其中该成像区31的平面高度略高于非成像区32,形成一不同水平面的高低段差,使得落于该底盖30上的灰尘,可以在不规则晃动中,容易于滑落并阻隔在非成像区31中,以降低成像区被污染的风险
本实用新型亦可将该成像底盖与该镜头对焦模块40的下盖组件41结合为一体成形,如图7本实用新型的第五实施例立体示意图所示,意即将该镜头对焦模块40的下盖组件41,原本应该镂空的中心处,设计成有不同水平面的高低段差的成像区31与非成像区32,且该成像区31呈透明状,如此可以节省再设置一成像底盖的成本。
综上所述,本实用新型镜头对焦模块的成像底盖结构,具有成像区31与非成像区32形成不同水平面的高低段差,使得落入成像底盖30上灰尘,借由不规则的晃动而容易滑落集中至成像区31,或者被阻隔在非成像区,如此可让检查人员借由成像检查而发现灰尘,而能清除灰尘,降低镜头对焦模块的落尘机率。
当然,本实用新型还可有其它多种实施例,在不背离本实用新型精神及其实质的情况下,熟悉本领域的技术人员当可根据本实用新型作出各种相应的改变和变形,但这些相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种镜头对焦模块的成像底盖结构,配设于一镜头对焦模块及一影像感测组件之间,该成像底盖覆盖于该影像感测组件上,其特征在于,该成像底盖结构包括一成像区及一非成像区,该成像区线性对应于镜头的光线进入位置及该影像传感器的成像感测位置,且该成像区与非成像区的平面高度形成一不同水平面的高低段差。
2.根据权利要求1所述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像区与非成像区形成的高低段差,为成像区低于非成像区。
3.根据权利要求1所述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,其中该成像区与非成像区形成的高低段差,为成像区高于非成像区。
4.根据权利要求1所述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像区为呈方形或多角形。
5.根据权利要求1所述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像区为呈圆形。
6.根据权利要求1所述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像底盖为透明的玻璃、塑料或压克力材质件。
7.根据权利要求1所述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像区与非成像区所形成的高低段差,为呈斜坡角状。
8.根据权利要求1所述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像区与非成像区所形成的高低段差,为呈向外凸起的圆弧角状。
9.根据权利要求1所述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像区与非成像区所形成的高低段差,为呈向内凹陷的圆弧角状。
10.根据权利要求1所述的镜头对焦模块的成像底盖结构,其特征在于,该成像底盖与该镜头对焦模块的下盖组件为一体成形件。
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